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上海光机所研制出新工艺:微纳结构的高速大面积光学制造激光直写速率可达6m/s

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CDer:000298134
发表于 2010-1-9 14:03 | 显示全部楼层 |阅读模式

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近日,中科院上海光学精密机械研究所高密度光存储实验室在国家相关项目的支持下,在微纳结构的高速、大面积光学制造方面取得了重要进展。高密度光存储实验室提出了基于非线性材料的微纳结构的光学制造新原理,并利用蓝光激光直写系统和高速旋转方法在多层功能薄膜上实现特征尺寸为300nm到90nm的微纳结构高速大面积激光直写制造。直写速率可达6m/s,是传统激光直写方法数百倍以上。最小特征尺寸达到了激光直写系统光斑的1/8左右。

随着光电子和信息技术的发展,要求发展具有高度可控、快速和大面积的微纳结构制造技术。目前的聚焦离子束、电子束、极紫外、甚至软x-射线等均较难同时满足微纳结构的高速大面积制造。基于可见光波段的远场激光直写技术能够实现可控、快速、大面积的微米亚微米图形结构的制造,但由于受到光的衍射极限的制约,可见光波段的远场激光直写技术很难达到纳米尺度的特征尺寸,从而不能进行具有纳米特征尺寸的任意结构制造。上海光机所取得的此项成果能够很好的解决上述难题。

该技术为国内首创,在世界上处于领先水平,在跨尺度的任意微纳图形结构、微电子光刻领域中的掩膜板以及超高密度光盘母盘制备等方面具有重要的应用前景。其结果发表在Appl. Phys. Lett. 和J. Appl. Phys.等国际核心期刊上。

(来源:中国科学院上海光学精密机械研究所)
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CDer:000297296
发表于 2010-1-15 13:51 | 显示全部楼层
好,超大规模集成
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CDer:000322499
发表于 2010-1-15 14:08 | 显示全部楼层
八股文里面的“世界领先”貌似还是低一个档次啊
上面是不是还有个“世界先进”?
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CDer:000290184
发表于 2010-1-15 14:17 | 显示全部楼层
八股,,看不懂。。。。
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CDer:000151146
发表于 2010-1-15 14:23 | 显示全部楼层
世界领先当然在世界先进之上。
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CDer:000297029
发表于 2010-1-15 15:10 | 显示全部楼层
用在什么地方上的?刻录机啊?
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头像被屏蔽
发表于 2010-1-16 00:09 | 显示全部楼层
不是说了么,是国内首创的,世界独此一家,别无分号。
不知道精度和稳定性如何。
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CDer:000321983
发表于 2010-1-18 12:50 | 显示全部楼层
这个具体应用在什么地方
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CDer:000256518
发表于 2010-1-18 13:04 | 显示全部楼层
八股文里面的“世界领先”貌似还是低一个档次啊
上面是不是还有个“世界先进”?
为爱轻狂 发表于 2010-1-15 14:08



    反了,“领先”就是指“No1”,这是最高的,“先进”很水,只要不算太差都能叫世界先进。
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CDer:000163489
发表于 2010-1-18 13:23 | 显示全部楼层
是不是用这种技术制造的光盘和刻录机,刻盘的速度是现在的百倍?
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CDer:000294875
发表于 2010-1-18 13:26 | 显示全部楼层
新硬盘? 固态还是有缺点的
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CDer:000019606
发表于 2010-1-18 15:36 | 显示全部楼层
领先——领导先进,当然比先进高级。
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头像被屏蔽
发表于 2010-1-18 15:46 | 显示全部楼层
恭喜!
实用化要多久?
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CDer:000176838
发表于 2010-1-18 18:33 | 显示全部楼层
重大突破啊,光学掩膜制造工艺是是IC关键技术,看样子已经跨越了解决有无问题的阶段了。超高密度光存储方面的前景更贴近民众,利国利民的好东西。
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CDer:000116257
发表于 2010-1-18 21:21 | 显示全部楼层
这个技术我不懂。不过看这个八股文似乎还有点味道。有人细说细说?
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CDer:000247067
发表于 2010-1-18 22:22 | 显示全部楼层
国内首创+世界领先
分量似乎不小
应该是能大幅降低高密度光存储载体成本的技术,总之喜见技术创新!
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CDer:000294431
发表于 2010-1-18 22:45 | 显示全部楼层
为什么我看不到图啊?
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CDer:000166241
发表于 2010-1-18 22:46 | 显示全部楼层
{:2_61:}100倍的刻盘速度?太牛叉了
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