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【转载】ASML是下一代EUV光刻延迟三年的罪魁祸首

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CDer:001197501
发表于 2021-06-16 06:26 | 显示全部楼层 |阅读模式

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CDer:001163788
发表于 2021-06-16 11:14 | 显示全部楼层
其实原因毋宁是:摩尔时代要结束了,方向错了,asml也就结束了
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发表于 2021-06-16 11:26 超大游击队员 | 显示全部楼层
EWCt 发表于 2021-06-16 11:14
其实原因毋宁是:摩尔时代要结束了,方向错了,asml也就结束了

日本的光刻机以前也是垄断全球的,但在15-20年前就是赌错了方向,被当时的小厂ASML逆袭上位。
所以,每个新的技术特别如果是小国把持主导的,看准了就能称霸一时,看不准就直接GG。
但是大国一般都是有多条路在同时走,在个别领域可能不如小国那个专精,但一般都会跟上时代,那个好就上那个,这点是小国所无法改变的。
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CDer:000159547
发表于 2021-06-16 14:26 | 显示全部楼层
目前除了ASML还有别的正常商用EUV光刻机厂商吗?没有,那他急什么。
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CDer:001113860
发表于 2021-06-16 19:28 | 显示全部楼层

RE: 【转载】ASML是下一代EUV光刻延迟三年的罪魁祸首

EWCt 发表于 2021-06-16 11:14
其实原因毋宁是:摩尔时代要结束了,方向错了,asml也就结束了

要不你来提出一个正确的方向?
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发表于 2021-06-16 19:38 超大游击队员 | 显示全部楼层
fireeyes 发表于 2021-06-16 14:26
目前除了ASML还有别的正常商用EUV光刻机厂商吗?没有,那他急什么。

另一个重要原因就是,下一代的技术体系是那一种,这个目前大家都有探索。
一旦赌错,这个就是命运之门了,这个是小国赌不起的。
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CDer:001076516
发表于 2021-06-17 05:01 | 显示全部楼层

RE: 【转载】ASML是下一代EUV光刻延迟三年的罪魁祸首

海陆空火 发表于 2021-06-16 19:28
要不你来提出一个正确的方向?

EUV不是问题 问题是ASML作为供应商 被自己的客户在研发上限制了手脚
许多螺蛳壳里做道场的限制导致EUV一推再推,现在用的这个激光激发Tin Droplet的光源根本就是搞笑的,因为光源功率不足 Mo/Si多层反射镜加表面镀层的寿命又成了问题。
EUV光刻机这一代国内如果能跳出现有的产业链条限制另起炉灶 我看好能弯道超车
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