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请教:光刻过程需要考虑光电效应吗?

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CDer:001128658
发表于 2021-06-10 16:10 | 显示全部楼层 |阅读模式

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光刻过程中,几百瓦的功率作用于芯片大小的面积,光强度比太阳光大很多,类似于太阳能电池板,会在芯片上产生光电效应吗?光电流的流动路径在芯片设计中需要考虑吗?
我没查到相关的文献
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CDer:001155182
发表于 2021-06-10 16:38 超大游击队员 | 显示全部楼层
几百瓦?duv的才几十瓦吧 ,euv虽然200多瓦,但是衰减的厉害。
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CDer:001067684
发表于 2021-06-10 18:02 | 显示全部楼层
光电效应不看光强,也就是说跟输出功率没关系,要看光刻机使用的光频。
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CDer:001159365
发表于 2021-06-10 18:02 | 显示全部楼层
还未成型的无源材料,有光电效应有意义吗?
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CDer:001125256
发表于 2021-06-10 20:15 | 显示全部楼层

RE: 请教:光刻过程需要考虑光电效应吗?

goodyy123 发表于 2021-06-10 18:02
还未成型的无源材料,有光电效应有意义吗?

终结本帖,哈哈哈
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CDer:000229815
发表于 2021-06-10 21:09 | 显示全部楼层
光刻主要是对光刻胶起照相感光显影作用,而不是真的用光去刻芯片,光电效应没什么意义
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CDer:001128658
 楼主| 发表于 2021-06-10 21:54 | 显示全部楼层

RE: 请教:光刻过程需要考虑光电效应吗?

本帖最后由 qq499543375 于 2021-06-10 22:02 编辑
goodyy123 发表于 2021-06-10 18:02
还未成型的无源材料,有光电效应有意义吗?


那光电流流过硅片表面的金属层,热效应有可能造成芯片缺陷吗?
光电流在这里就是“源”,光源的功率只要有百分之几转化为光电流,其功率密度也远高于芯片正常运行时的功率密度了
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CDer:000229815
发表于 2021-06-10 22:04 | 显示全部楼层

RE: 请教:光刻过程需要考虑光电效应吗?

qq499543375 发表于 2021-06-10 21:54
那光电流流过硅片表面的金属层,热效应有可能造成芯片缺陷吗?


你想多了,光首先是打在光刻胶上面的,然后用干法刻蚀是用等离子喷上去的,比光照猛多了
金属层是把金属烧热了蒸发上去的。光刻那点光能和他们比简直毛毛雨
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CDer:001128658
 楼主| 发表于 2021-06-10 22:12 | 显示全部楼层

RE: 请教:光刻过程需要考虑光电效应吗?

ak777 发表于 2021-06-10 21:09
光刻主要是对光刻胶起照相感光显影作用,而不是真的用光去刻芯片,光电效应没什么意义

只要一部分光子能够穿透光刻胶,到达晶圆表面的pn结,理论上光电效应就应该存在。
由于pn结的单向导电性,光电流只会产生反向的电压(正向电荷被导通)。
这可能意味着芯片光刻过程不光有光化学反应,还可能有电化学反应,以及光电流产生的物理效应。
如果这些效应存在,而且国内的芯片设计未考虑,很可能造成芯片良品率低
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CDer:001128658
 楼主| 发表于 2021-06-10 22:15 | 显示全部楼层

RE: 请教:光刻过程需要考虑光电效应吗?

ak777 发表于 2021-06-10 22:04
你想多了,光首先是打在光刻胶上面的,然后用干法刻蚀是用等离子喷上去的,比光照猛多了
金属层是把金 ...

光刻胶那么薄,肯定能透光吧
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CDer:001128658
 楼主| 发表于 2021-06-10 22:18 | 显示全部楼层

RE: 请教:光刻过程需要考虑光电效应吗?

ak777 发表于 2021-06-10 22:04
你想多了,光首先是打在光刻胶上面的,然后用干法刻蚀是用等离子喷上去的,比光照猛多了
金属层是把金 ...

关键可能不是功率,而是功率密度。电流的特点是不均匀,如果局部短路,那么电流都从短路处流过,局部功率密度就很大。
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CDer:001159365
发表于 2021-06-10 22:26 | 显示全部楼层

RE: 请教:光刻过程需要考虑光电效应吗?

qq499543375 发表于 2021-06-10 21:54
那光电流流过硅片表面的金属层,热效应有可能造成芯片缺陷吗?
光电流在这里就是“源”,光源的功率只 ...

光源不大于功率的百分之3转化为光电流。不可能烧毁硅片,如果有问题你可以加大线宽呀台湾话叫增加制程哦。
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CDer:001128658
 楼主| 发表于 2021-06-10 22:30 | 显示全部楼层

RE: 请教:光刻过程需要考虑光电效应吗?

goodyy123 发表于 2021-06-10 22:26
光源不大于功率的百分之3转化为光电流。不可能烧毁硅片,如果有问题你可以加大线宽呀台湾话叫增加制程哦 ...

您这个百分之三的数据是哪里来的?有相关的文献吗?
您的意思是光刻过程这个问题已经考虑过了吗?
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CDer:001128658
 楼主| 发表于 2021-06-10 22:34 | 显示全部楼层

RE: 请教:光刻过程需要考虑光电效应吗?

goodyy123 发表于 2021-06-10 22:26
光源不大于功率的百分之3转化为光电流。不可能烧毁硅片,如果有问题你可以加大线宽呀台湾话叫增加制程哦 ...

您的意思是光电效应对于一定线宽以下的芯片是需要考虑的,对吗?
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CDer:001159365
发表于 2021-06-11 10:51 | 显示全部楼层

RE: 请教:光刻过程需要考虑光电效应吗?

qq499543375 发表于 2021-06-10 22:34
您的意思是光电效应对于一定线宽以下的芯片是需要考虑的,对吗?

需不需要考虑,你不可自己做实验测试吗?
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CDer:001159365
发表于 2021-06-11 10:54 | 显示全部楼层

RE: 请教:光刻过程需要考虑光电效应吗?

qq499543375 发表于 2021-06-10 22:30
您这个百分之三的数据是哪里来的?有相关的文献吗?
您的意思是光刻过程这个问题已经考虑过了吗?

不要拿中科院那帮废物的思维来考虑工程院的事物。
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CDer:000114850
发表于 2021-06-11 10:57 超大游击队员 | 显示全部楼层
光刻这个词确实误导人
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CDer:001165676
发表于 2021-06-11 11:09 | 显示全部楼层
你知道半导体工艺中很多褪火工艺,都是直接用激光扫描芯片表面到400多度的高温
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CDer:000403002
发表于 2021-06-11 16:10 | 显示全部楼层

RE: 请教:光刻过程需要考虑光电效应吗?

本帖最后由 赶羚羊 于 2021-06-11 16:23 编辑
qq499543375 发表于 2021-06-10 22:18
关键可能不是功率,而是功率密度。电流的特点是不均匀,如果局部短路,那么电流都从短路处流过,局部功率 ...


中学物理也都忘了吗?光电效应产生的关键是啥?是单光子能量,也就是光子的频率。跟光的强度有啥关系?

只要单光子能量小于导带禁带能级宽,就没有光电效应。啥?你说为啥光伏电池会在可见光下有光电效应?因为PN结的结构不一样,参杂也不一样。
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