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北方华创研发进度成谜

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CDer:001220742
发表于 2021-04-30 13:37 | 显示全部楼层 |阅读模式

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2017年14nm设备就进入了工艺验证,然而直到今天都没有明确的量产消息,7nm设备更是没有明确消息。

2017年9月的新闻稿
http://www.naura.com/index.php/news/news_art/1481.html
“北方华创8-12英寸设备实现了在集成电路、先进封装、微机电系统、化合物半导体领域的应用,其中,12英寸刻蚀机、PVD、CVD、单片退火炉和ALD等6种设备进入14nm工艺验证阶段,12英寸刻蚀机、PVD、CVD、单片退火炉、清洗机和ALD等12种设备实现了28nm/65nm产线应用。”

2019年
https://www.sohu.com/a/317005422_117925
北方华创:14nm设备在评估验证 多款设备进入存储器生产线应用


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CDer:000294737
发表于 2021-04-30 13:50 | 显示全部楼层
北创这两年很低调,搞出来的不少新设备都没有公开宣传。

另外,北创也缺乏顶级的fab做机台验证,要是能找台积电和三星买相关服务就好了。像7nm的刻蚀机,国内连7nm的产线都没有,无从验证,自然无法量产。
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CDer:001083245
发表于 2021-04-30 14:46 | 显示全部楼层
中芯的N+2节点不就是7NM吗?
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CDer:001193351
发表于 2021-04-30 14:50 超大游击队员 | 显示全部楼层
安安心心搞设备。
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CDer:001166596
发表于 2021-04-30 15:07 | 显示全部楼层
官网介绍上倒是已经有几种达到14nm范围的产品了。总不能拿验证机上官网吧。
NMC612D 12英寸硅刻蚀机
NMC612D 12 Inch Si Etcher
NMC612D 12英寸硅刻蚀机是应用于28-14nm制程集成电路的干法刻蚀设备,用于FinFET,STI和Gate刻蚀工艺。

NMC612M 12英寸氮化钛金属硬掩膜刻蚀机


Polaris PE系列PEALD 设备 Polaris PE series ALD system
  Polaris PE系列PEALD设备是设计适用于科学研究、企业研发和大规模自动化生产的灵活、可靠的等离子体增强型原子层沉积工艺平台。该设备非常适合从研发阶段的薄膜沉积扩大到大规模的工业化生产。

  区别于普通CVD或PECVD原理,PEALD可沉积超薄的、高深宽比的膜层。Polaris PE系列PEALD设备是用射频的方式,通过在工艺循环周期内分步向真空腔内添加前驱体、实现对膜层厚度的精确控制,可用于沉积SiO2、SiNx、TiN、ALN等多种薄膜。

  Polaris PE系列PEALD设备通过高效能CCP等离子体能提供足够多的活性源,同时将自由离子对衬底薄膜的损伤降低,独特的气路、腔体结构设计、配合相应的工艺配方,成功实现了不同薄膜的沉积厚度可控性;此设备可升级更多的前驱体源和气路、高真空泵、原位清洗和其他选项;特殊设计的进气结构,解决了传统腔室的颗粒问题,使之具有良好的洁净度,改善产品的电性能和良率;设备系统易于安装维护,大大提高了装机和PM的周期。

NMC612M 12 Inch TiN Metal HardMask Etcher
NMC612M 12英寸氮化钛金属硬掩膜刻蚀机是应用于40-14nm制程集成电路的金属干法刻蚀设备

Promi 系列ALD 系统
Promi Series ALD System
设备满足28-14nm FinFET、Double pattern和3D NAND原子层沉积工艺要求;可根据需求量身定制硬件升级方案。

Polaris A系列ALD 设备
Polaris A series ALD system
设备满足28-14nm FinFET、double pattern和3D NAND原子层沉积工艺要求;可根据客户需求量身定制硬件升级方案。

剩下的品类里基本都是上限到28nm的。
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CDer:001166596
发表于 2021-04-30 15:08 | 显示全部楼层
官网有好几种达到14nm的设备,这些应该是已经量产了的吧,还没通过验证的产品应该不能放上官网给人查看吧。
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CDer:001198559
发表于 2021-04-30 15:14 | 显示全部楼层
涉密企业在进度上不口胡才是不负责任
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CDer:001115174
发表于 2021-04-30 15:26 超大游击队员 | 显示全部楼层
不泄密是王道
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CDer:001179667
发表于 2021-04-30 15:56 | 显示全部楼层
热处理设备包括卧式炉、立式炉和快速升温炉(RTP)等,主要是对硅片进行氧化、扩散、退火等工艺处理。

北方华创是该领域龙头,在热处理设备的各个细分领域均有成熟的产品线。

今年上半年,公司在长江存储获得 3 台硅刻蚀、3 台 PVD、2 台炉管及 5 台退火设备订单,其中硅刻蚀设备市占率达 27%。

同时在华虹系获得 3 台硅刻蚀、1 台 PVD 及 2 台退火设备订单;在积塔半导体获得 2 台刻蚀、4 台氧化设备及 1 台退火设备订单。

北方华创不仅是热处理设备的龙头,还是光伏、锂电、半导体的硅刻蚀、薄膜沉积、清洗设备,甚至第三代碳化硅半导体设备的龙头之一。

今年上半年,公司的碳化硅(SiC)长晶炉、刻蚀机、PVD、PECVD 等第三代半导体设备开始批量供应市场;

12 寸硅刻蚀机、金属 PVD、立式氧化/退火炉、湿法清洗机等多款高端半导体设备也相继进入量产阶段,研发成果有种下饺子的感觉
刻蚀是硅片进行光刻之后最重要的流程,包括硅刻蚀、金属刻蚀和介质刻蚀设备等。

目前,我国的刻蚀设备是比较先进的,中微公司的第二代电介质刻蚀设备已广泛应用于28到7nm后段制程以及10nm前段制程,北方华创的硅刻蚀机也在14nm工艺上取得了重大进展。

中微公司是该领域的龙头,2020 年上半年公司实现营业收入 9.78 亿元,同比增 22.14%,实现归母净利润 1.19 亿元,同比增 291.98%。

其中,刻蚀设备营收约 6.13 亿元,同比增长约72.53%,在整体营收中占比超过一半。

公司是国内半导体设备研发投入强度最大的公司之一,最新定增融资约100亿元,用于研发7nm 以下制程的 CCP 刻蚀设备、介质刻蚀设备、高端 MEMS 等离子体刻蚀设备、先进3nm技术的多晶硅刻蚀、3D NAND 多层台阶刻蚀、ALE 原子层刻蚀设备、CVD 设备等


薄膜沉积工艺,分为物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)和外延三大类。

北方华创的PVD设备已经用于28nm生产线中,14nm工艺设备也已实现重大进展。

沈阳拓荆的PECVD设备已在中芯国际40-28nm产线使用,ALD设备也在14nm工艺产线通过验证


几乎所有工艺流程都需要清洗环节,这就用到了清洗设备。

盛美半导体是该领域的龙头,目前科创板上市申请已获受理,并已在2017年美国纳斯达克上市。

在国内的国产清洗设备市场中,盛美占据80%左右的市场份额,其余20%则由北方华创、芯源微和至纯科技三家公司瓜分。

除了盛美,北方华创的清洗设备也能满足28nm技术节点的需求



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CDer:001083805
发表于 2021-04-30 15:56 | 显示全部楼层

RE: 北方华创研发进度成谜

A-SET三号机 发表于 2021-04-30 15:14
涉密企业在进度上不口胡才是不负责任

说反了吧。。。
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CDer:001178084
发表于 2021-04-30 16:23 | 显示全部楼层
刻蚀机倒不是很急需,何况国内还有中微半导体更先进,倒是光刻机比较急,不知进展如何了
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CDer:001170122
发表于 2021-04-30 16:43 超大游击队员 | 显示全部楼层
北方目前还有大量零部件依赖进口,低调也是保护自己
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CDer:001196239
发表于 2021-04-30 17:00 超大游击队员 | 显示全部楼层
我之前看到消息有说他家7nmICCP刻蚀设备去年就开始验证了
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CDer:000290626
发表于 2021-04-30 17:02 | 显示全部楼层

RE: 北方华创研发进度成谜

ji300p32p17 发表于 2021-04-30 16:43
北方目前还有大量零部件依赖进口,低调也是保护自己

中微也依赖进口零部件,但是5nm蚀刻机还是出口到台积电了,全世界都知道中微的水平了

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CDer:000334765
发表于 2021-04-30 18:17 超大游击队员 | 显示全部楼层
kukiyi 发表于 2021-04-30 17:02
中微也依赖进口零部件,但是5nm蚀刻机还是出口到台积电了,全世界都知道中微的水平了

但是北方是国企
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CDer:000334765
发表于 2021-04-30 18:18 超大游击队员 | 显示全部楼层
kukiyi 发表于 2021-04-30 17:02
中微也依赖进口零部件,但是5nm蚀刻机还是出口到台积电了,全世界都知道中微的水平了

但是北方是国企,更容易被针对。
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CDer:000290626
发表于 2021-04-30 18:30 | 显示全部楼层

RE: 北方华创研发进度成谜

老王是好人 发表于 2021-04-30 18:18
但是北方是国企,更容易被针对。

中微已经在美国黑名单上了

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CDer:001220742
 楼主| 发表于 2021-05-01 10:51 | 显示全部楼层
北方华创2019年就募资研发5/7nm工艺
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CDer:001220742
 楼主| 发表于 2021-05-05 20:31 | 显示全部楼层
北方华创获2.1亿元重大专项补助  2018-05-23 14:25 5月22日,半导体设备厂商北方华创(002371.SZ)公告称,公司及旗下全资子公司北方华创微电子收到北京经信委拨付的国家科技重大专项地方政府配套资金合计20978.00万元。  根据公告,这次拨付的配套资金项目有四个,分别是“45-32nm LPCVD设备产业化”项目、“14nm立体栅等离子体刻蚀机研发及产业化”项目、“28-14nm原子层沉积系统(ALD)产品研发及产业化”项目、“14-7nm CuBS多工艺腔室集成装备研发及产业化”项目。  这四个项目均属于国家科技重大专项02专项。2006年国务院发布《国家中长期科学和技术发展规划纲要(2006-2020年)》确定发展16个重大专项,其中“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”被列为“02专项”,该专项于2008年国务院批准实施。  02专项成立后,组织“产学研”联合开发,向世界先进芯片技术节点攻关并推动装备国产化,北京市作为组织牵头单位,对项目承担单位予以资金扶持,当时的北方微电子、七星华创(北方微电子、七星华创后重组为“北方华创”)等产业链企业开始集体攻关。  北方华创的四个项目中,“45-32nm LPCVD设备产业化”项目执行期六年(2011年~2016年),本次北方华创收到地方政府配套资金2328.00万元。据报道,北方华创已完成LPCVD的攻克任务,其LPCVD设备已成功进入中芯国际12英寸生产线。  “14nm立体栅等离子体刻蚀机研发及产业化”项目执行期四年(2014年-2017年),本次北方华创微电子收到地方政府配套资金9423.00万元。北方华创在2017年年报中表示“目前所承担的02专项在研课题14nm制程设备也已交付至客户端进行工艺验证。”  “28-14nm原子层沉积系统(ALD)产品研发及产业化”项目执行期四年(2015-2018年),本次北方华创微电子收到地方政府配套资金4811.00万元。2017年北方华创已推出其量产型单片ALD设备,并于2017年12月5日进驻上海集成电路研发中心。  “14-7nm CuBS多工艺腔室集成装备研发及产业化”项目执行期四年(2016年-2019年),本次北方华创微电 子收到地方政府配套资金4416.00万元。  02专项中政府补助经费是由中央财政资金及地方政府配套资金在项目执行期内分批拨付,本次仅为部分资金。  2017年5月,北方华创也曾收到了“14nm立体栅等离子体刻蚀机研发及产业化”项目、“28-14nm原子层沉积系统(ALD)产品研发及产业化”项目、“14-7nm CuBS多工艺腔室集成装备研发及产业化”项目的地方政府配套资金共约1.9亿元。据系,这三个项目总经费分别为12.35亿元、5.51亿元、6.78亿元,政府承诺将补贴8亿元、3.6亿元、2.98亿元。  公告称,公司将本次政府补助到账资金作为递延收益,在相关资产达到预定可使用状态后,在资产的使用期限内平均分摊计入损益,截至公告日,相关资产尚未达到可使用状态。北方华创预计本次政府补助资金不会影响公司2018年度税前利润总额。
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CDer:001097630
发表于 2021-05-05 20:59 超大游击队员 | 显示全部楼层
看标题怎么像是刺探科技情报的?
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CDer:001194669
发表于 2021-05-07 16:31 | 显示全部楼层

RE: 北方华创研发进度成谜

长和 发表于 2021-04-30 16:23
刻蚀机倒不是很急需,何况国内还有中微半导体更先进,倒是光刻机比较急,不知进展如何了

刻蚀机有三种,中微只是做介质刻蚀的
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