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终于找到国产28纳米光刻机消息的来源了!源于江苏省开发区协会的一则新闻

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CDer:001099410
发表于 2021-01-21 23:13 | 显示全部楼层 |阅读模式

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 楼主| 发表于 2021-01-21 23:13 | 显示全部楼层

RE: 终于找到国产28纳米光刻机消息的来源了!源于江苏省开发区协会的一则新闻

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 楼主| 发表于 2021-01-21 23:14 | 显示全部楼层
不过这写的2020年就该完成28nm国产光刻机的集成了。。。
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CDer:001207800
发表于 2021-01-21 23:26 | 显示全部楼层
发表于 2020-12-17 16:42 | 显示全部楼层
RE: 28纳米工艺光刻机已经造出来了?
mac_sed 发表于 2020-12-17 15:46
这个基地是未来研究下一代工件台的主要基地吗

EUV工件台主要研发基地在北京和上海。现在28nm光刻机已总装完成,北京华卓二期也已开工。

样机去年12月17日消息,已经总装完成了。
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CDer:001086200
发表于 2021-01-21 23:28 | 显示全部楼层

RE: 终于找到国产28纳米光刻机消息的来源了!源于江苏省开发区协会的一则新闻

yoder 发表于 2021-01-21 23:14
不过这写的2020年就该完成28nm国产光刻机的集成了。。。

经常逛IT版的都知道啊。已经完成了,等待验收。
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CDer:000688924
发表于 2021-01-22 00:23 超大游击队员 | 显示全部楼层
28纳米的应该已经妥妥的了,不然的话,阿斯麦尔不可能会放开买
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CDer:001126912
发表于 2021-01-22 00:47 超大游击队员 | 显示全部楼层

Re.终于找到国产28纳米光刻机消息的来源了!源于江苏省开发区协会的一则新闻

我记得有人科普说没有28nm光刻机这个说法,应该是193nm波长的duv,通过套刻可以做到7nm,再往下就要用euv了,据说我们现在搞得就是这个东西。非专业人士,有懂的可以给解解惑。
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CDer:001196239
发表于 2021-01-22 01:33 | 显示全部楼层

RE: 终于找到国产28纳米光刻机消息的来源了!源于江苏省开发区协会的一则新闻

我爱中国蔚蓝 发表于 2021-01-22 00:47
我记得有人科普说没有28nm光刻机这个说法,应该是193nm波长的duv,通过套刻可以做到7nm,再往下就要用euv了 ...

论坛里大佬havok说这个光刻机改进后在几年内达到ASML的1980Di的水平,只能说后面是不断改进之后通过套刻和双重曝光后有做到7nm潜力,毕竟ASML的最新的NXT:2050i也可用于7/5nm工艺,而且ASML这台光刻机光刻精度可以达到1.9nm,远低于5nm要求的2.4nm以及7nm的3.5nm精度,目前台积电现在也可以用比NXT:2050i型号之前的DUV光刻机做到6nm了,国产这台DUV光刻机后续改进能做到什么样现在谁也不知道,只能说是很有潜力,毕竟ASML最新的DUV光刻机也有做7/5nm工艺的能力了,不过也要看华卓精科,国望光学,中芯国际等这些中国半导体公司的努力了,这几年也会有小批量的光刻机产品了,真正的有起色也要4年后吧,毕竟现在中芯等还有光刻机产业链上的公司新产线都要在4年后竣工
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CDer:001099410
 楼主| 发表于 2021-01-22 09:49 超大游击队员 | 显示全部楼层
采用ArF光源,使用的套刻精度在1.9nm左右,多次曝光可以实现11nm制程工艺,如果改用套刻精度优于1.7nm的华卓精科工作台通过多重曝光可实现7nm制程工艺。假如这一技术得以实现,那么有可能会在2021年或者年底进行量产。
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CDer:001207800
发表于 2021-01-22 10:55 | 显示全部楼层

RE: 终于找到国产28纳米光刻机消息的来源了!源于江苏省开发区协会的一则新闻

yoder 发表于 2021-01-22 09:49
采用ArF光源,使用的套刻精度在1.9nm左右,多次曝光可以实现11nm制程工艺,如果改用套刻精度优于1.7nm的华 ...

没那么快。ASML的DUV也不是第一代就能加工到7nm的,即便推出第一代也需要持续迭代,不是说一出来就能7nm了。
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CDer:000045040
发表于 2021-01-22 14:00 | 显示全部楼层

RE: 终于找到国产28纳米光刻机消息的来源了!源于江苏省开发区协会的一则新闻

yoder 发表于 2021-01-22 09:49
采用ArF光源,使用的套刻精度在1.9nm左右,多次曝光可以实现11nm制程工艺,如果改用套刻精度优于1.7nm的华 ...

2024年能做出去美化7nm就烧高香了。
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发表于 2021-01-22 14:03 | 显示全部楼层

RE: 终于找到国产28纳米光刻机消息的来源了!源于江苏省开发区协会的一则新闻

遥远7900 发表于 2021-01-22 14:00
2024年能做出去美化7nm就烧高香了。

2024年?过于乐观了吧?
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CDer:000229529
发表于 2021-01-22 15:38 超大游击队员 | 显示全部楼层
哈拉赫特 发表于 2021-01-22 10:55
没那么快。ASML的DUV也不是第一代就能加工到7nm的,即便推出第一代也需要持续迭代,不是说一出来就能7nm ...

至少在中短期内造国产duv是为了更方便的大量进口asml的duv,能不能加工出7nm不重要。
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CDer:001207800
发表于 2021-01-22 15:57 | 显示全部楼层

RE: 终于找到国产28纳米光刻机消息的来源了!源于江苏省开发区协会的一则新闻

本帖最后由 哈拉赫特 于 2021-01-22 16:39 编辑
guoxing1987 发表于 2021-01-22 15:38
至少在中短期内造国产duv是为了更方便的大量进口asml的duv,能不能加工出7nm不重要。


零几年的时候。如果只是为了更方便大量进口duv那现在已经做到了。现在进duv没有任何障碍。
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CDer:001207800
发表于 2021-01-22 15:59 | 显示全部楼层

RE: 终于找到国产28纳米光刻机消息的来源了!源于江苏省开发区协会的一则新闻

guoxing1987 发表于 2021-01-22 15:38
至少在中短期内造国产duv是为了更方便的大量进口asml的duv,能不能加工出7nm不重要。

想太多,那是以前。
现在至少也要保证国内有几条产线运转起DUV。否则上微现在就已经可以像零几年那时一样宣布自己集成完毕通过验收给大家看,而不需要再送上产线调试了。euv也是,真以为大家都是傻子么。
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CDer:001207800
发表于 2021-01-22 16:03 | 显示全部楼层

RE: 终于找到国产28纳米光刻机消息的来源了!源于江苏省开发区协会的一则新闻

guoxing1987 发表于 2021-01-22 15:38
至少在中短期内造国产duv是为了更方便的大量进口asml的duv,能不能加工出7nm不重要。

零几年的时候上微拼凑出90nm光刻机,刚通过验收立刻就急不可耐地公布成果了。
现在你看看上微有没有动静?隔壁表示都已经送上产线调试了现在上微的官网上都什么东西都没有。包括另外一台新型的封装设备都已经开始使用起来了,官网上也照样不公布。今时不同往日,研究这些东西的目标已经和十二五那时不同,不是为了逼国外放开倾销,而是真的有想用起来了。
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发表于 2021-01-22 16:08 超大游击队员 | 显示全部楼层
哈拉赫特 发表于 2021-01-22 15:59
想太多,那是以前。
现在至少也要保证国内有几条产线运转起DUV。否则上微现在就已经可以像零几年那时一 ...

搞得你们这些人下订单似的。笑死我了
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发表于 2021-01-22 16:26 | 显示全部楼层

RE: 终于找到国产28纳米光刻机消息的来源了!源于江苏省开发区协会的一则新闻

deal205 发表于 2021-01-22 16:08
搞得你们这些人下订单似的。笑死我了

死了没?没死啊?真可怜。
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发表于 2021-01-22 16:30 | 显示全部楼层

RE: 终于找到国产28纳米光刻机消息的来源了!源于江苏省开发区协会的一则新闻

本帖最后由 哈拉赫特 于 2021-01-22 16:31 编辑
deal205 发表于 2021-01-22 16:08
搞得你们这些人下订单似的。笑死我了


你自己都觉得自己的命贱,在意这些东西干嘛?我不用996有空关注这些,你既然在那喊着自己是996厂工,今天好像是星期五吧?哪来那么多空闲看这些东西?失业了?
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CDer:001169128
发表于 2021-01-22 16:31 超大游击队员 | 显示全部楼层
哈拉赫特 发表于 2021-01-22 16:26
死了没?没死啊?真可怜。

这人刚在超视距发疯,又来IT版发疯,估计是个1450,直接举报完事
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CDer:001207800
发表于 2021-01-22 16:33 | 显示全部楼层

RE: 终于找到国产28纳米光刻机消息的来源了!源于江苏省开发区协会的一则新闻

ztzhaha 发表于 2021-01-22 16:31
这人刚在超视距发疯,又来IT版发疯,估计是个1450,直接举报完事

一个自己996又歌颂996,仇视读过书的人的黑厂厂工来这宣泄一下情绪而已,让他一下无妨啦。
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CDer:000229529
发表于 2021-01-22 16:45 超大游击队员 | 显示全部楼层
哈拉赫特 发表于 2021-01-22 15:59
想太多,那是以前。
现在至少也要保证国内有几条产线运转起DUV。否则上微现在就已经可以像零几年那时一 ...

国产duv可以用的地方多了,你还怕没人买。
但等国产duv造7nm,乃至n年后的euv造5nm根本不现实。
对我们最好的选择是大量进口ntx2000i,ntx2050i满足5nm和7nm工艺的需求。立足进口五年,除了无法满足顶级soc的需求,其他都绰绰有余。
而且随着第二代euv量产,2系列duv理论上已经“落后两代”。
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发表于 2021-01-22 17:02 | 显示全部楼层

RE: 终于找到国产28纳米光刻机消息的来源了!源于江苏省开发区协会的一则新闻

guoxing1987 发表于 2021-01-22 16:45
国产duv可以用的地方多了,你还怕没人买。
但等国产duv造7nm,乃至n年后的euv造5nm根本不现实。
对我们 ...

那这肯定是不现实的,搞7nm肯定搞不到。
但目的肯定也不是为了多进口duv,事实上现在duv进口本来就没设过很大的限制,隔壁验证光刻胶的光刻机都已经到了。
更何况现在即便大量进口也无法满足5nm和7nm工艺需求,且不说国内现在突破到7nm工艺的也只有中芯,老二华虹现在14nm都还没成熟,即便成熟了,中芯华虹也被卡死了先进制程的材料设备,这个即便国产duv出来了也是解决不了的。
中国要满足大部分需求根本不需要要求到7nm或者5nm,28nm以上能全部在国内形成循环,那离目标就已经相差不很远了。
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发表于 2021-01-22 17:18 超大游击队员 | 显示全部楼层
哈拉赫特 发表于 2021-01-22 17:02
那这肯定是不现实的,搞7nm肯定搞不到。
但目的肯定也不是为了多进口duv,事实上现在duv进口本来就没设 ...

2050i这一代提升太大,可以帮助我们直接跳过第一代euv。
5nm和其改进工艺至少可以满足5年内中档soc的需求,用于cpu,gpu以及其他芯片则可以满足更长时间的需求。
当然我相信5年后我们的euv一定会搞出来。
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发表于 2021-01-22 17:33 | 显示全部楼层

RE: 终于找到国产28纳米光刻机消息的来源了!源于江苏省开发区协会的一则新闻

guoxing1987 发表于 2021-01-22 17:18
2050i这一代提升太大,可以帮助我们直接跳过第一代euv。
5nm和其改进工艺至少可以满足5年内中档soc的需 ...

但是那么大的提升人家也不傻啊。知道国产duv一时跟不上的话肯定不会那么容易放开的。
隔壁光刻胶验证买的还是二手ASML一代duv设备。这个情况哪怕国产duv现在就出来,估计在中短时间内也很难实现。除非euv也加紧完成。
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发表于 2021-01-22 17:47 超大游击队员 | 显示全部楼层
哈拉赫特 发表于 2021-01-22 17:33
但是那么大的提升人家也不傻啊。知道国产duv一时跟不上的话肯定不会那么容易放开的。
隔壁光刻胶验证买 ...

euv的产量已经上来了,庞大的duv产能卖谁去。
而且用duv造5nm成本劣势明显。
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CDer:000229529
发表于 2021-01-22 17:48 超大游击队员 | 显示全部楼层
哈拉赫特 发表于 2021-01-22 17:33
但是那么大的提升人家也不傻啊。知道国产duv一时跟不上的话肯定不会那么容易放开的。
隔壁光刻胶验证买 ...

第二代euv离量产一步之遥,duv自然还敏感。
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CDer:000475998
发表于 2021-01-22 17:56 | 显示全部楼层
我现在觉得这些个消息圈子里的人知道就好了,毕竟干活还是靠他们,咱们知不知道也就是个高兴的事
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发表于 2021-01-22 19:03 超大游击队员 | 显示全部楼层
guoxing1987 发表于 2021-01-22 17:47
euv的产量已经上来了,庞大的duv产能卖谁去。
而且用duv造5nm成本劣势明显。

这又不关产不产能的事。ASML自己别说duv,euv也很乐意卖中国。奈何人家不给啊。你就看现在大陆的duv一台一手货二代duv都没有就知道这方面他们算得很准。只要你还没达到,我就不卖。一旦你真达到了,立即倾销。
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发表于 2021-01-22 21:18 超大游击队员 | 显示全部楼层
按02专项课题计划,40W 4KHZ ArF光源开发应该在2020.12之前完成,但是目前没有任何验收信息,而且要想支持28—14nm工艺按ASML机型对照至少需要开发60w 6KHz光刻光源
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CDer:001112352
发表于 2021-01-22 22:38 | 显示全部楼层

RE: 终于找到国产28纳米光刻机消息的来源了!源于江苏省开发区协会的一则新闻

zxd1981 发表于 2021-01-22 21:18
按02专项课题计划,40W 4KHZ ArF光源开发应该在2020.12之前完成,但是目前没有任何验收信息,而且要想支持2 ...

看Havok 这个已经搞定了 都卖到TSMC去了
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发表于 2021-01-23 01:54 | 显示全部楼层

RE: 终于找到国产28纳米光刻机消息的来源了!源于江苏省开发区协会的一则新闻

guoxing1987 发表于 2021-01-22 16:45
国产duv可以用的地方多了,你还怕没人买。
但等国产duv造7nm,乃至n年后的euv造5nm根本不现实。
对我们 ...

你想到的人家也想到了。而且对方吸取了高铁的教训,不能让我们得到技术和设备,所以不是我们想进口就进口的。老老实实发展自己的设备才是正途,进口能进尽量进,但是估计也进不了太多,而且技术肯定也不是最先进的。
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发表于 2021-01-23 02:09 超大游击队员 | 显示全部楼层
fireeyes 发表于 2021-01-23 01:54
你想到的人家也想到了。而且对方吸取了高铁的教训,不能让我们得到技术和设备,所以不是我们想进口就进口 ...

光刻机需求是有限的,随着euv光刻机量产规模的扩大,现有的duv产能只有我国有强烈的接盘需求。特别是如果日本两家企业真的想重返光刻机中高端市场,也会从高端duv起步。
现在看duv依旧有潜力可挖,2050i关键指标已经达到和初代euv相当的水平。如果我们在深紫外领域的优势能够得以发挥,再进一步也是可以预期的。
当然这也给国产euv提出了更高的要求,也许初代国产euv并不会比高端duv有显著提高,不过潜力不可同日而语。
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发表于 2021-01-23 02:22 | 显示全部楼层

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guoxing1987 发表于 2021-01-23 02:09
光刻机需求是有限的,随着euv光刻机量产规模的扩大,现有的duv产能只有我国有强烈的接盘需求。特别是如果 ...

这从来就不是一个纯商业的市场,记得中芯以前进口设备美国人都要检查以防止用于军事。现在对方已经把半导体领域当成权力斗争的战场,他宁可信誉清零,宁可不赚钱也要跟我们斗,这个时候你不能只考虑商业了,斗争的原则就是只要对你有用的东西我都不能给你,哪怕我也有损失,但你损失比我大就值得做,这就是所谓坚壁清野。

现在国产设备刚刚起步,你要求太高是不可能的,未来几年内能稳定量产28NM就相当不错了,先把一些低端芯片的市场抢过来。
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 楼主| 发表于 2021-01-23 12:52 | 显示全部楼层
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发表于 2021-01-23 22:07 超大游击队员 | 显示全部楼层
商务部的新规出台了,什么时候能给台积电这些企业发禁令,要不就对他们罚款
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