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终于找到国产28纳米光刻机消息的来源了!源于江苏省开发区协会的一则新闻

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CDer:001099410
发表于 2021-01-21 22:54 | 显示全部楼层 |阅读模式

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 楼主| 发表于 2021-01-21 22:55 | 显示全部楼层

RE: 终于找到国产28纳米光刻机消息的来源了!源于江苏省开发区协会的一则新闻

本帖最后由 yoder 于 2021-01-21 23:15 编辑

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CDer:001176560
发表于 2021-01-21 22:55 | 显示全部楼层
点进去就看见了秋裤楼...
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CDer:001099410
 楼主| 发表于 2021-01-21 22:55 | 显示全部楼层
不过这写的2020年就该完成28nm国产光刻机的集成了。。。
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CDer:001207800
发表于 2021-01-21 23:01 | 显示全部楼层

RE: 终于找到国产28纳米光刻机消息的来源了!源于江苏省开发区协会的一则新闻

yoder 发表于 2021-01-21 22:55
不过这写的2020年就该完成28nm国产光刻机的集成了。。。

隔壁有一位时不时会透露一些中国半导体的情报的业内人士,之前曝出过新DUV的图片,操作界面,还有目前在研的EUV的原理图和上微周年庆的一些动作,不过现在那些图片可能涉及泄密已经删改掉了。
据他所说的话,去年年尾的时候第一台DUV光刻机已经集成完毕了。现在应该在验收了。
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CDer:001207800
发表于 2021-01-21 23:02 | 显示全部楼层

RE: 终于找到国产28纳米光刻机消息的来源了!源于江苏省开发区协会的一则新闻

yoder 发表于 2021-01-21 22:55
不过这写的2020年就该完成28nm国产光刻机的集成了。。。

而且年尾好像还是拖延了一段时间的,本来应该还早一些就该完成了。
今年说不定会有大动作。
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CDer:000907937
发表于 2021-01-21 23:05 超大游击队员 | 显示全部楼层
补短板,强制造
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CDer:001090616
发表于 2021-01-21 23:10 超大游击队员 | 显示全部楼层
28nm能不能制7nm的芯片?
记得之前好像有新闻说中芯国际掌握了类似技术?
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CDer:000739967
发表于 2021-01-21 23:23 超大游击队员 | 显示全部楼层

Re.终于找到国产28纳米光刻机消息的来源了!源于江苏省开发区协会的一则新闻

发这个等着美国佬来制裁吗
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CDer:001055716
发表于 2021-01-21 23:26 超大游击队员 | 显示全部楼层
zz的海角@大本营 发表于 2021-01-21 23:10
28nm能不能制7nm的芯片?
记得之前好像有新闻说中芯国际掌握了类似技术?

极紫外28nm可以通过多重曝光刻14nm乃至7nm,ASML就是这么做的。现在就看我国独步天下的极紫外光技术(对美封锁)能不能很好的整合到光刻机上了。
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CDer:000675490
发表于 2021-01-21 23:30 超大游击队员 | 显示全部楼层
zz的海角@大本营 发表于 2021-01-21 23:10
28nm能不能制7nm的芯片?
记得之前好像有新闻说中芯国际掌握了类似技术?

Intel的10nm一直是DUV技术,台积电的第一代7nm(2080显卡)也是DUV,这些都是28nm ArF光刻机可以做到的,但是更进一步就需要7nm的EUV机器,西方为了保证垄断,防止中国弯道超车,严格限制机器出口

28nm的机器,也不是有机器就可以做7nm台积电或者10nm的Intel的,可以看下Intel在14nm停留了多久就知道不是有机器才能搞定的,机器只是工具,设计比机器还重要。
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CDer:000261568
发表于 2021-01-21 23:36 | 显示全部楼层

RE: 终于找到国产28纳米光刻机消息的来源了!源于江苏省开发区协会的一则新闻

zz的海角@大本营 发表于 2021-01-21 23:10
28nm能不能制7nm的芯片?
记得之前好像有新闻说中芯国际掌握了类似技术?

通过多重曝光,做的到7nm,5nm不行,光刻机就是一个制图员,腐刻机才是施工工人。
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CDer:000990707
发表于 2021-01-22 00:01 超大游击队员 | 显示全部楼层
kanhai1978 发表于 2021-01-21 23:36
通过多重曝光,做的到7nm,5nm不行,光刻机就是一个制图员,腐刻机才是施工工人。

上海的中微半导体有5nm刻蚀机
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CDer:001130643
发表于 2021-01-22 00:02 超大游击队员 | 显示全部楼层

Re.终于找到国产28纳米光刻机消息的来源了!源于江苏省开发区协会的一则新闻

ZTyoho 发表于 2021-01-21 23:26:02
极紫外28nm可以通过多重曝光刻14nm乃至7nm,ASML就是这么做的。现在就看我国独步天下的极紫外光技术(对美封锁)能不能很好的整合到光刻机上了。
是深紫外DUV
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CDer:000830872
发表于 2021-01-22 00:05 | 显示全部楼层
半导体一旦突破就让蛙岛变成贫民窟!
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CDer:000140985
发表于 2021-01-22 00:07 | 显示全部楼层

RE: 终于找到国产28纳米光刻机消息的来源了!源于江苏省开发区协会的一则新闻

kanhai1978 发表于 2021-01-21 23:36
通过多重曝光,做的到7nm,5nm不行,光刻机就是一个制图员,腐刻机才是施工工人。

出奇招在DUV上搞NA值等于1.5的,说不定可以搞到5nm
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CDer:001126354
发表于 2021-01-22 00:52 超大游击队员 | 显示全部楼层
Aotobus 发表于 2021-01-21 23:30
Intel的10nm一直是DUV技术,台积电的第一代7nm(2080显卡)也是DUV,这些都是28nm ArF光刻机可以做到的, ...

2080是12nm
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CDer:001110642
发表于 2021-01-22 00:58 超大游击队员 | 显示全部楼层
关键是浸润式光刻机,193nm的浸润式光刻机可以做7nm的,要是干式光刻机就不好说了
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CDer:001201292
发表于 2021-01-22 04:00 | 显示全部楼层
对于很多行业来讲,28nm够用。
首先解决了急需问题。
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CDer:000420313
发表于 2021-01-22 06:40 超大游击队员 | 显示全部楼层
好像光源未必是问题,难得是控制。另外,好像还得把要刻的芯片放到液体里,利用高密度介质对于光的减速作用进一步压缩光的波长,才能提高精度,这个要做到准确控制应该是很难的。
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头像被屏蔽
发表于 2021-01-22 06:51 超大游击队员 | 显示全部楼层
这种消息跟水氢车差不多吧!
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CDer:000447248
发表于 2021-01-22 07:15 | 显示全部楼层
倒是快点出来呀,把我一个门外汉都看急了
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CDer:000120028
发表于 2021-01-22 07:22 超大游击队员 | 显示全部楼层
样机集成,离工业应用还有一段距离
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CDer:000552437
发表于 2021-01-22 07:30 超大游击队员 | 显示全部楼层
水中望月,雾中观花
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CDer:001099410
 楼主| 发表于 2021-01-22 08:06 | 显示全部楼层
采用ArF光源,使用的套刻精度在1.9nm左右,多次曝光可以实现11nm制程工艺,如果改用套刻精度优于1.7nm的华卓精科工作台通过多重曝光可实现7nm制程工艺。假如这一技术得以实现,那么有可能会在2021年或者年底进行量产。
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CDer:001099410
 楼主| 发表于 2021-01-22 08:11 | 显示全部楼层

RE: 终于找到国产28纳米光刻机消息的来源了!源于江苏省开发区协会的一则新闻

火山石 发表于 2021-01-22 06:51
这种消息跟水氢车差不多吧!

至少说明我国正在攻坚的确实是28nm分辨率的光刻机
直接跨过65nm45nm了
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CDer:000443607
发表于 2021-01-22 08:13 | 显示全部楼层
28nm也不错了,应该能做14nm和N+1了吧
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CDer:001201383
发表于 2021-01-22 08:26 | 显示全部楼层

RE: 终于找到国产28纳米光刻机消息的来源了!源于江苏省开发区协会的一则新闻

ZTyoho 发表于 2021-01-21 23:26
极紫外28nm可以通过多重曝光刻14nm乃至7nm,ASML就是这么做的。现在就看我国独步天下的极紫外光技术(对 ...

法海你不懂爱,烦请去学习。
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CDer:000801727
发表于 2021-01-22 09:12 | 显示全部楼层

RE: 终于找到国产28纳米光刻机消息的来源了!源于江苏省开发区协会的一则新闻

哈拉赫特 发表于 2021-01-21 23:01
隔壁有一位时不时会透露一些中国半导体的情报的业内人士,之前曝出过新DUV的图片,操作界面,还有目前在 ...

那说明快了,这是个好消息
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CDer:000801727
发表于 2021-01-22 09:13 | 显示全部楼层

RE: 终于找到国产28纳米光刻机消息的来源了!源于江苏省开发区协会的一则新闻

yoder 发表于 2021-01-22 08:11
至少说明我国正在攻坚的确实是28nm分辨率的光刻机
直接跨过65nm45nm了

这是跨越式发展,先把28纳米做夯实了
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CDer:000801727
发表于 2021-01-22 09:13 | 显示全部楼层

RE: 终于找到国产28纳米光刻机消息的来源了!源于江苏省开发区协会的一则新闻

anliux 发表于 2021-01-22 08:13
28nm也不错了,应该能做14nm和N+1了吧

28纳米应用范围也很广了
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 楼主| 发表于 2021-01-22 09:50 | 显示全部楼层
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发表于 2021-01-22 09:56 | 显示全部楼层

RE: 终于找到国产28纳米光刻机消息的来源了!源于江苏省开发区协会的一则新闻

s37t 发表于 2021-01-22 00:05
半导体一旦突破就让蛙岛变成贫民窟!

这么重要吗      
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CDer:001195946
发表于 2021-01-22 10:02 | 显示全部楼层
只要我们有人才,迟早会出来
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CDer:000929614
发表于 2021-01-22 10:09 超大游击队员 | 显示全部楼层
有28NM,就有了最基本的安全感
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CDer:001171331
发表于 2021-01-22 12:30 | 显示全部楼层
进步就好,至少不会一无所有。
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CDer:000400533
发表于 2021-01-22 12:42 | 显示全部楼层
一步步走,总有超越的时候
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CDer:000137639
发表于 2021-01-22 12:55 超大游击队员 | 显示全部楼层
lmoshe 发表于 2021-01-22 07:22
样机集成,离工业应用还有一段距离

这玩意样机和工业应用,数量上差不多,样机2台,实际工业应用可能也就2台。
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CDer:001196624
发表于 2021-01-22 12:55 | 显示全部楼层
希望我国在光刻机领域尽快实现突破
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CDer:000506146
发表于 2021-01-22 13:20 | 显示全部楼层
不会是猴子捞月吧
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