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28纳米工艺光刻机已经造出来了?

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CDer:000782212
发表于 2020-11-12 13:10 超大游击队员 | 显示全部楼层
夜雨连天 发表于 2020-11-12 13:04
但在手机这类消费端几乎不可行,比如台积电生产一片麒麟7nm芯片要300元人民币,中芯用28nm多次曝光后生产 ...

最新的锐龙好像也没有用上evu,差价没辣么大
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CDer:000140985
发表于 2020-11-12 14:07 超大游击队员 | 显示全部楼层
台积电第一代7nm不是多次暴光的么?
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CDer:000140985
发表于 2020-11-12 14:08 超大游击队员 | 显示全部楼层
华为自研显卡代号dq
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CDer:000755172
发表于 2020-11-12 14:25 | 显示全部楼层

RE: 28纳米工艺光刻机已经造出来了?

lijiasheng1984 发表于 2020-11-11 22:43
在官网都能搜索这个型号的台式机了,只是没有对外出售,连产品手册都做好了。

海思显卡的擎云W510 创 ...

如果出来了我还真考虑采购用在项目上,wintel的台式主机总是被业主的使用人员整来干别的,对项目整个系统的稳定性造成很大影响,同时他们自己用出问题了却老是叫我的人去运维,无形中也在托高我这边的成本。
这个就没这个顾虑了,性能也够用,用b/s架构也不用考虑专门开发软件的问题,同时一般人也没法拿来干别的,真是不要太爽啊。
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CDer:001050969
发表于 2020-11-12 15:03 | 显示全部楼层

RE: 28纳米工艺光刻机已经造出来了?

inmark2013 发表于 2020-11-12 13:10
最新的锐龙好像也没有用上evu,差价没辣么大

锐龙用的是阿斯麦最新的光刻机,不用上到EVU就可以做到7nm,现在说的是还没有量产的国产28nm光刻机
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CDer:001169952
发表于 2020-11-12 15:59 | 显示全部楼层

RE: 28纳米工艺光刻机已经造出来了?

夜雨连天 发表于 2020-11-12 13:04
但在手机这类消费端几乎不可行,比如台积电生产一片麒麟7nm芯片要300元人民币,中芯用28nm多次曝光后生产 ...

其实现在这个局面 台积电又没法代工 说不定真能试试看了
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CDer:001118429
发表于 2020-11-12 16:18 | 显示全部楼层

RE: 28纳米工艺光刻机已经造出来了?

mac_sed 发表于 2020-11-12 09:13
计划是这么定的 可能会慢 明年要验收 啥时候交付也不好说

不会的,因为华为急需
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CDer:001169952
发表于 2020-11-12 16:19 | 显示全部楼层

RE: 28纳米工艺光刻机已经造出来了?

js530408 发表于 2020-11-12 16:18
不会的,因为华为急需

这个东西也得看SMEE那边的速度 何况似乎之前还有点小摩擦 预期低一点慢一点也可以接受的
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CDer:001118429
发表于 2020-11-12 16:27 | 显示全部楼层

RE: 28纳米工艺光刻机已经造出来了?

mac_sed 发表于 2020-11-12 16:19
这个东西也得看SMEE那边的速度 何况似乎之前还有点小摩擦 预期低一点慢一点也可以接受的

不可能滞后,你注意这次光刻机中科院都下了军令状,很可能要追责
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CDer:000114850
发表于 2020-11-12 16:49 超大游击队员 | 显示全部楼层
我爱中国蔚蓝 发表于 2020-11-11 20:05
知乎上很多业内,越专业的人越能看到差距,确实差距挺大的,不只是光刻机,光刻机只是其中的一个环节,追上 ...

五年追平不太现实,不过按这几年国产设备在半导体工艺线里的增速,五年应该能搞定DUV下的全套工艺线
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CDer:001129712
发表于 2020-11-12 19:27 超大游击队员 | 显示全部楼层
一些事儿 发表于 2020-11-11 19:54
中国缺高薪岗位,不缺人才。不明白的念三遍。

说白了是缺人才本位思想
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CDer:000140985
发表于 2020-11-12 19:50 | 显示全部楼层

RE: 28纳米工艺光刻机已经造出来了?

夜雨连天 发表于 2020-11-12 15:03
锐龙用的是阿斯麦最新的光刻机,不用上到EVU就可以做到7nm,现在说的是还没有量产的国产28nm光刻机

台积电第一代7nm用的阿斯麦最的1980i的duv(还不是最新的),多次曝光可达28nm,再加多几次可达7nm(台积电标称);国产光刻机同样也能通过同样的工艺步骤达到7nm的量产
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CDer:001169952
发表于 2020-11-12 19:57 | 显示全部楼层

RE: 28纳米工艺光刻机已经造出来了?

firmsoul 发表于 2020-11-12 19:50
台积电第一代7nm用的阿斯麦最的1980i的duv(还不是最新的),多次曝光可达28nm,再加多几次可达7nm(台积 ...

1980Di单次曝光就不是28了 我没记错的话应该是单次曝光能满足14nm逻辑工艺节点 多次可以做进10nm以下 多次曝光28纳米是很老的机器了(1950i之类的)
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CDer:000140985
发表于 2020-11-12 20:02 | 显示全部楼层

RE: 28纳米工艺光刻机已经造出来了?

mac_sed 发表于 2020-11-12 19:57
1980Di单次曝光就不是28了 我没记错的话应该是单次曝光能满足14nm逻辑工艺节点 多次可以做进10nm以下 多 ...

用的都是193um的光源,想要低于这个,就得多次曝光,没有啥duv能单次吧曝光达到28nm
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CDer:000140985
发表于 2020-11-12 20:06 | 显示全部楼层
euv的光源是13nm,所以单次就是13nm,整到7nm也需要多次曝光
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CDer:001169952
发表于 2020-11-12 20:16 | 显示全部楼层

RE: 28纳米工艺光刻机已经造出来了?

firmsoul 发表于 2020-11-12 20:02
用的都是193um的光源,想要低于这个,就得多次曝光,没有啥duv能单次吧曝光达到28nm

不是的 你往前看havok的图,逻辑工艺节点和实际的栅极间距是有差距的
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CDer:000140985
发表于 2020-11-12 20:17 | 显示全部楼层

RE: 28纳米工艺光刻机已经造出来了?

mac_sed 发表于 2020-11-12 20:16
不是的 你往前看havok的图,逻辑工艺节点和实际的栅极间距是有差距的

那是台积电虚标,但工艺是没办法克服物理定律的
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CDer:001169952
发表于 2020-11-12 20:18 | 显示全部楼层

RE: 28纳米工艺光刻机已经造出来了?

firmsoul 发表于 2020-11-12 20:17
那是台积电虚标,但工艺是没办法克服物理定律的

不 全世界的逻辑工艺的栅极间距都和你说的单次曝光线宽有差距,7纳米的实际线宽也远比7纳米要大 我们现在并不追求做完全满足线宽的工艺节点,追求的是TSMC SS Intel都普遍认可的逻辑工艺节点
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CDer:001169952
发表于 2020-11-12 20:24 | 显示全部楼层

RE: 28纳米工艺光刻机已经造出来了?

firmsoul 发表于 2020-11-12 20:17
那是台积电虚标,但工艺是没办法克服物理定律的

另外,业内主流的DUV浸入式光刻机的单次曝光线宽(或者说分辨率)是38纳米,做到7纳米的工艺采用的多重曝光技术主要是自对准多重曝光技术(比如台积电7纳米采用了自对准四重曝光技术),这些不光光取决于原先光刻机的单次曝光精度,还取决于套刻精度(和工件台密切相关)、刻蚀机能力和其他材料(比如硅片)、软件的配合度,缺一不可。
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CDer:000140985
发表于 2020-11-12 20:34 | 显示全部楼层

RE: 28纳米工艺光刻机已经造出来了?

mac_sed 发表于 2020-11-12 20:24
另外,业内主流的DUV浸入式光刻机的单次曝光线宽(或者说分辨率)是38纳米,做到7纳米的工艺采用的多重曝 ...

38nm那是浸入式通过折射缩小了,所以28nm还是得多重曝光
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CDer:001169952
发表于 2020-11-12 20:35 | 显示全部楼层

RE: 28纳米工艺光刻机已经造出来了?

firmsoul 发表于 2020-11-12 20:34
38nm那是浸入式通过折射缩小了,所以28nm还是得多重曝光

你说的那是DUV干式光刻机 做不到28纳米 最多做到45纳米 明年会量产供货,然后明年验收交付的就是浸入式光刻机
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CDer:001169952
发表于 2020-11-12 21:40 | 显示全部楼层

RE: 28纳米工艺光刻机已经造出来了?

havok 发表于 2020-11-12 08:39
单次曝光就能达到28nm,这里28nm指的是逻辑技术节点不是实际线宽,实际线宽要大于逻辑线宽

这张图中显 ...

有7纳米和5纳米的栅极层/金属层线宽数据嘛 比较好奇 公开资料给的基本都是pitch
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发表于 2020-11-12 22:16 | 显示全部楼层

RE: 28纳米工艺光刻机已经造出来了?

夜雨连天 发表于 2020-11-12 13:04
但在手机这类消费端几乎不可行,比如台积电生产一片麒麟7nm芯片要300元人民币,中芯用28nm多次曝光后生产 ...

不是说产品拿到市场上去竞争,而是造出来练手。假设中芯一个7纳米的芯片是台积电的十倍,搞得一个手机价格上万,那肯定竞争不过,但是华为内部造出来了,验证新的设计和工艺同时在手机上实验鸿蒙之类的,这就有价值。否则你芯片设计完了无法验证,相当于没有。同样道理还有汽车芯片之类的,只要保证设计能力不流失,工艺早晚会慢慢追上,之后就好办。所以中芯国际若是能低良品率的生产7纳米让华为有练手的能力,那华为岂不是做梦都笑醒。
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CDer:000140985
发表于 2020-11-13 00:55 | 显示全部楼层

RE: 28纳米工艺光刻机已经造出来了?

汝儿乃我 发表于 2020-11-12 22:16
不是说产品拿到市场上去竞争,而是造出来练手。假设中芯一个7纳米的芯片是台积电的十倍,搞得一个手机价 ...

验证设计不需要流片的,可以用仿真和fpga验证,否则动不动一次流片几千万美金谁受得了
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CDer:000413886
发表于 2020-11-13 08:22 | 显示全部楼层

RE: 28纳米工艺光刻机已经造出来了?

mac_sed 发表于 2020-11-12 21:40
有7纳米和5纳米的栅极层/金属层线宽数据嘛 比较好奇 公开资料给的基本都是pitch

暂没有5纳米

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CDer:001169952
发表于 2020-11-13 08:50 | 显示全部楼层

RE: 28纳米工艺光刻机已经造出来了?


感谢分享 看来到14nm基本就必须得上SADP,10nm内各家都得上SAQP了
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CDer:001164713
发表于 2020-11-13 10:42 | 显示全部楼层

RE: 28纳米工艺光刻机已经造出来了?

mac_sed 发表于 2020-11-12 21:40
有7纳米和5纳米的栅极层/金属层线宽数据嘛 比较好奇 公开资料给的基本都是pitch

台积电5nm  

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CDer:001169952
发表于 2020-11-13 10:44 | 显示全部楼层

RE: 28纳米工艺光刻机已经造出来了?



我比较想看线宽,图里给的还是间距(pitch)
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CDer:001050969
发表于 2020-11-13 10:46 | 显示全部楼层

RE: 28纳米工艺光刻机已经造出来了?

firmsoul 发表于 2020-11-12 19:50
台积电第一代7nm用的阿斯麦最的1980i的duv(还不是最新的),多次曝光可达28nm,再加多几次可达7nm(台积 ...

曝光次数不是可以无限增加的,需要硬件工艺跟上才行,要不还要EVU干什么,多曝光几次不就可以做到1nm以下了吗?曝光次数越多废片率就越高,到一次数量就全报废了
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CDer:001164713
发表于 2020-11-13 10:51 | 显示全部楼层

RE: 28纳米工艺光刻机已经造出来了?

mac_sed 发表于 2020-11-13 10:44
我比较想看线宽,图里给的还是间距(pitch)

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CDer:001169952
发表于 2020-11-13 10:53 | 显示全部楼层

RE: 28纳米工艺光刻机已经造出来了?

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CDer:001169952
发表于 2020-11-13 10:57 | 显示全部楼层

RE: 28纳米工艺光刻机已经造出来了?


不过我看wikichip上说TSMC在N7DUV(18年)用的是SAQP来着 不知道采信哪边了
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CDer:001164713
发表于 2020-11-13 11:02 | 显示全部楼层

RE: 28纳米工艺光刻机已经造出来了?

mac_sed 发表于 2020-11-13 10:57
不过我看wikichip上说TSMC在N7DUV(18年)用的是SAQP来着 不知道采信哪边了

是不是N7 DUV在台积电本身也不止一个版本,毕竟工艺流程一直都在调整变化的
现在N7不又改进出了6nm版本
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CDer:000875359
发表于 2020-11-13 15:13 | 显示全部楼层

RE: 28纳米工艺光刻机已经造出来了?

戊己校尉 发表于 2020-11-12 09:31
整个半导体产业链,美国缺的环节也不少。只是它拳头大、可以不讲理,所以才能同步整个欧美日韩,约束它们 ...

里边没有中国技术吗?中国一样可以以其之道还其之身的。
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CDer:001176915
发表于 2020-11-13 16:18 超大游击队员 | 显示全部楼层
自媒体的消息可信度基本为零,博眼球点击量的。
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CDer:000886513
发表于 2020-11-13 21:14 超大游击队员 | 显示全部楼层
波长193nm的光刻机,就能做到22nm芯片,之后需要加一层水的沉浸式,但是波长依然是193nm。之后就是euv波长13.5。
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CDer:001169952
发表于 2020-11-13 21:20 | 显示全部楼层

RE: 28纳米工艺光刻机已经造出来了?


明年交付的干式双台机是193的吗?如果是KrF和i-line的话似乎解决不了65-55纳米芯片的生产需要吧
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CDer:001128160
发表于 2020-11-13 21:47 | 显示全部楼层

RE: 28纳米工艺光刻机已经造出来了?

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发表于 2020-11-13 22:35 | 显示全部楼层

RE: 28纳米工艺光刻机已经造出来了?

firmsoul 发表于 2020-11-13 00:55
验证设计不需要流片的,可以用仿真和fpga验证,否则动不动一次流片几千万美金谁受得了

验证芯片本身当然是,但是你要验证一个手机产品,还得有实体的芯片。
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CDer:000150968
发表于 2020-11-14 11:09 超大游击队员 | 显示全部楼层
良率达到了再说吧,基础科学需要补的太多
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