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武汉光谷做的国产9纳米双光束超分辨投影(唯一可量产芯片)光刻实验样机外形?

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CDer:000001437
发表于 2020-08-21 19:11 超大游击队员 | 显示全部楼层 |阅读模式
本帖最后由 hswz 于 2020-08-21 19:38 编辑

2020年7月22日,湖北省省委常委,武汉市市委书记王忠林分别来到武汉生物技术研究院、武汉光电工研院,详细了解国家级人类遗传资源样本库等项目进展,察看纳米光刻系统、OLED有机发光材料等创新产品产业化情况,

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 楼主| 发表于 2020-08-21 19:13 超大游击队员 | 显示全部楼层
注意目前光刻机种类中,只有投影光刻才能大规模量产芯片,直写的,电子束的目前还做不到。
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发表于 2020-08-21 19:15 超大游击队员 | 显示全部楼层
是光刻机吗
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 楼主| 发表于 2020-08-21 19:27 超大游击队员 | 显示全部楼层
阳光旭日东升 发表于 2020-08-21 19:15
是光刻机吗


事实上,除了LPP-EUV光源,探索光刻光源国产化过程中,以中国科学院、华中科技大学为代表的多家科研院所和半导体厂商亦进行了不少另辟蹊径的探索。其中双激光束技术路线的出现,有效规避了国外专利封锁和主流EUV光源研发难题,让光刻机光源突破光学衍射极限成为可能,不用刻意追求短波长也能达到10nm以内的光刻制程。
7月初,中科院研究团队就在Nano Letters上发表题为《超分辨率激光光刻技术制备5nm间隙电极和阵列》的论文[3]。实验室环境下,研究团队在无机钛膜光刻胶上,采用双激光束(波长为405nm)交叠技术,实现1/55衍射极限的突破(NA=0.9),达到了最小5nm特征线宽,一时引发热议。

同样,在中国光谷,武汉光电国家研究中心相关团队早在2018年就发布专利[4],提出一种双光束微纳光学制造方法,通过调制辅助光,搭配自研光刻胶,使可见光制造实现10纳米以下的特征尺寸和50纳米的分辨率。
目前,该技术正依托武汉光电工研院进行产业化,团队基于双光束超分辨纳米光刻技术已经实现了最小线宽9nm、最小线间距52nm的高精度直写光刻,9nm双光束超分辨直写光刻机已实现商用销售。双光束超分辨投影光刻实验样机也于2019年完成测试,正在开展大型工程样机的研发,快速推进产业化进程。相关研究机构认为,在这样的格局下,实现光刻机国产化势在必行。而当前国内与国外顶尖光刻机制程存在较大差距,短时间采取举国体制仍无法突破EUV路线衍射极限限制,在此背景下,基于双光束技术的超分辨技术路线的开辟,或将为光刻机国产替代带来曙光。


“通过上游并购和引入客户作股东的方式打通行业上下游,打造产业链利益共同体,ASML从默默无闻成长为光刻机霸主,我们也本着开放心态广邀各方开展技术合作,希望能趟出一条不一样的光源国产化路线。”
相关研究机构认为,在这样的格局下,实现光刻机国产化势在必行。而当前国内与国外顶尖光刻机制程存在较大差距,短时间采取举国体制仍无法突破EUV路线衍射极限限制,在此背景下,基于双光束技术的超分辨技术路线的开辟,或将为光刻机国产替代带来曙光
2018年9月5日至8日,第20届中国国际光电博览会(CIOE2018)在深圳会展中心举办。武汉光电国家研究中心、武汉光电工研院联合参展,并于9月6日在光电子创新馆(4号馆)4E06展位举办“源头创新技术和科技成果转化项目发布会”。华中科技大学副校长张新亮,武汉光电国家研究中心副主任周军、朱莅临展位视察指导工作。

制造芯片的光刻机,其精度决定了芯片性能的上限,然而作为芯片消费第一大国,我国在光刻技术方面远远落后于国外,如何开发具有自主知识产权的光刻机,向来是集成电路光刻制造领域的焦点话题。由武汉光电国家研究中心甘棕松教授团队带来的“超衍射极限纳米光刻技术”甫一亮相,立即引来广泛关注。



该团队具有自主知识产权的首台商用化超分辨光刻设备——Super Lithography 3D纳米光刻系统提供纳米级高精度的无掩膜光刻和纳米级3D微纳结构打印,配合定制的软件系统,可以智能完成高精度光刻掩膜的制造和其它纳米级3D器件的激光直写光刻,打破了国外企业在三维微纳加工技术的垄断

====
双光束超分辨投影光刻实验样机也于2019年完成测试,正在开展大型工程样机的研发,快速推进产业化进程。
注意,目前只有投影光刻机才能实现芯片的大规模量产,直写的,电子束的目前还做不到。

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发表于 2020-08-21 19:39 超大游击队员 | 显示全部楼层
hswz 发表于 2020-08-21 19:27
事实上,除了LPP-EUV光源,探索光刻光源国产化过程中,以中国科学院、华中科技大学为代表的多家科研院 ...

就是目前的困境这个解决不了
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CDer:001109843
发表于 2020-08-21 19:45 超大游击队员 | 显示全部楼层
不知道大家有没有注意到这篇报道里提到已经设计制造出了双束激光投影式曝光的样机了。
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发表于 2020-08-21 20:07 超大游击队员 | 显示全部楼层
hswz 发表于 2020-08-21 19:27
事实上,除了LPP-EUV光源,探索光刻光源国产化过程中,以中国科学院、华中科技大学为代表的多家科研院 ...

看新闻有两个光刻机
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 楼主| 发表于 2020-08-21 20:11 超大游击队员 | 显示全部楼层
凤鸣九皋 发表于 2020-08-21 19:45
不知道大家有没有注意到这篇报道里提到已经设计制造出了双束激光投影式曝光的样机了。

很多人没有基本的阅读理解能力
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发表于 2020-08-21 20:13 超大游击队员 | 显示全部楼层
hswz 发表于 2020-08-21 20:11
很多人没有基本的阅读理解能力

我阅读不仔细,不过这东西的加工效率不知如何。要是和ASML一样的话那简直是一场震动。
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发表于 2020-08-21 20:16 | 显示全部楼层

RE: 武汉光谷做的国产9纳米双光束超分辨投影(唯一可量产芯片)光刻实验样机外形?

hswz 发表于 2020-08-21 20:11
很多人没有基本的阅读理解能力

主要是关键的信息隐藏在一堆背景信息后面。一般人第一眼是注意不到的。
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发表于 2020-08-21 20:23 超大游击队员 | 显示全部楼层
hswz 发表于 2020-08-21 19:13
注意目前光刻机种类中,只有投影光刻才能大规模量产芯片,直写的,电子束的目前还做不到。

不是所有芯片都需要大批量制造的,比如太湖一号的CPU ,超算上用了4w片,没听说其他地方有用到。 算上备份的10w片到顶了。 和手机芯片差几个数量级。
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发表于 2020-08-21 20:45 | 显示全部楼层

RE: 武汉光谷做的国产9纳米双光束超分辨投影(唯一可量产芯片)光刻实验样机外形?

wnhb 发表于 2020-08-21 20:23
不是所有芯片都需要大批量制造的,比如太湖一号的CPU ,超算上用了4w片,没听说其他地方有用到。 算上备 ...

能不能实现逻辑电路的光刻致关重要。

上次那个超分辨率光刻机,不是说也能刻10nm芯片吗,实际呢。
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 楼主| 发表于 2020-08-21 20:45 超大游击队员 | 显示全部楼层
wnhb 发表于 2020-08-21 20:23
不是所有芯片都需要大批量制造的,比如太湖一号的CPU ,超算上用了4w片,没听说其他地方有用到。 算上备 ...

直写根本不可行,太废掩膜板了

===

接触式曝光

接触式曝光是将掩膜与待加工基片的光胶层直接接触进行的曝光。掩膜和基片通过机械装置压紧或通过真空吸住等方法实现两者紧密接触。

优点:设备简单、造价便宜、分辨率较高,约1-2?m。由于掩膜与光胶层紧密接触,所以相差小,分辨率高。

缺点:由于掩膜与基片紧密接触,容易损坏掩膜与光胶层。

非接触式曝光

非接触式曝光是指掩膜和基片上的光胶层不直接接触实现图形复印曝光的方法。

优点:克服接触式曝光容易损坏掩膜和基片的缺点。

缺点:由于光的衍射效应会使图形的分辨率下降。

投影式曝光

投影式曝光是指掩膜与基片并不直接接触,而是以类似投影仪的投影方式来进行图形的转移。

优点:曝光均匀,没有色差、象差,可进行缩小投影曝光,因此掩膜的尺寸可比基片大很多倍,掩膜中的图形线条可做得较粗。

缺点:装置价格昂贵。
https://www.whchip.com/news/shownews.php?id=1185&lang=cn&met_mobileok=1
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CDer:001086200
发表于 2020-08-21 20:47 | 显示全部楼层
这算是有官方背景的机构,第一次主动发布可量产芯片的10nm以下的光刻机的消息?


还等什么,沸腾起来。
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发表于 2020-08-21 20:47 超大游击队员 | 显示全部楼层
cjco 发表于 2020-08-21 20:47
这算是有官方背景的机构,第一次主动发布可量产芯片的10nm以下的光刻机的消息?



这个,还不确定吧。
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CDer:001109023
发表于 2020-08-21 20:47 超大游击队员 | 显示全部楼层
阳光旭日东升 发表于 2020-08-21 20:13
我阅读不仔细,不过这东西的加工效率不知如何。要是和ASML一样的话那简直是一场震动。

我们大量的高端领域对高端芯片需要的量并不是很大,比如超算芯片,用这个光刻机加工就行,根本不需要大规模量产,所以对生产效率要求不高但是对芯片制程要求很高,几千几万颗芯片的量就可以解决问题!
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CDer:001086200
发表于 2020-08-21 20:51 | 显示全部楼层

RE: 武汉光谷做的国产9纳米双光束超分辨投影(唯一可量产芯片)光刻实验样机外形?


“而当前国内与国外顶尖光刻机制程存在较大差距,短时间采取举国体制仍无法突破EUV路线衍射极限限制,在此背景下,基于双光束技术的超分辨技术路线的开辟,或将为光刻机国产替代带来曙光。”

看看原文的措辞,这是用来替代EUV光刻机的啊。不然没必要提什么与国外顶尖光刻机制程存在较大差距。

对标的就是国外顶尖光刻机。不是拿来生产芯片,拿来干啥?
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CDer:001165272
发表于 2020-08-21 20:53 超大游击队员 | 显示全部楼层
简直2017 发表于 2020-08-21 20:47
我们大量的高端领域对高端芯片需要的量并不是很大,比如超算芯片,用这个光刻机加工就行,根本不需要大规 ...

至少华为手机需要
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CDer:001165272
发表于 2020-08-21 20:55 超大游击队员 | 显示全部楼层
cjco 发表于 2020-08-21 20:51
“而当前国内与国外顶尖光刻机制程存在较大差距,短时间采取举国体制仍无法突破EUV路线衍射极限限制,在 ...

如果是真的,那真值得沸腾。
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CDer:001109023
发表于 2020-08-21 21:20 超大游击队员 | 显示全部楼层
阳光旭日东升 发表于 2020-08-21 20:53
至少华为手机需要

记得两年多以前有一个悬浮屏手机概念,不知道研发到那一步了,要是很快能推出,那么高端手机就和芯片制程无关了,这是一种全新的概念,全球高端手机市场只会剩下中国玩家!所以不要总盯着芯片不放,我们可以变道超车!
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CDer:000339134
发表于 2020-08-21 21:49 | 显示全部楼层

RE: 武汉光谷做的国产9纳米双光束超分辨投影(唯一可量产芯片)光刻实验样机外形?

简直2017 发表于 2020-08-21 20:47
我们大量的高端领域对高端芯片需要的量并不是很大,比如超算芯片,用这个光刻机加工就行,根本不需要大规 ...

      觉得现在吵吵的7nm光刻目前主要用在最新一代的手机芯片上,目的是高性能与低能耗,而我们真正的压力来自与服务器和桌面计算机系统,这些CPU真正的瓶颈是结构设计和知识产权等开发领域的困境。
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CDer:001109023
发表于 2020-08-21 22:24 超大游击队员 | 显示全部楼层
zsj001601 发表于 2020-08-21 21:49
觉得现在吵吵的7nm光刻目前主要用在最新一代的手机芯片上,目的是高性能与低能耗,而我们真正的压 ...

这些就不是我们普通百姓讨论的话题了,普通百姓跟跟焦点新闻就行了!
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CDer:000893107
发表于 2020-08-21 22:35 超大游击队员 | 显示全部楼层
台积电的10nm工艺,是5.4nm线宽和35.1nm间距。换而言之,这玩意还做不了10nm
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CDer:000307718
发表于 2020-08-21 22:43 超大游击队员 | 显示全部楼层
划重点:直写式,这个最多用来打样,没有办法批量生产。
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CDer:000010726
发表于 2020-08-21 23:03 超大游击队员 | 显示全部楼层
anotherfish 发表于 2020-08-21 22:43
划重点:直写式,这个最多用来打样,没有办法批量生产。

据悉,甘棕松团队研发的第六代双光束超分辨光刻机,通过解决纳米光刻分辨率需要采用短波长紫外光源的关键难题,取得了绕过国际原有紫外光刻技术路线的突破。

“相比于荷兰的第五代极深紫外光刻机,我们研制的第六代双光束超分辨光刻机的样机目前离大规模集成电路制造尚有一点差距,这主要受制于资金而不是技术。”甘棕松告诉长江日报记者,第六代双光束超分辨光刻机因为是小型样机,一次曝光面积不大,但是较低性能版本的设备目前已经在国内实现了售卖。第六代双光束超分辨光刻机不仅可以解决我国高端光刻机有无问题,而且还能够以极高的性价比优势颠覆芯片制造领域的国外技术垄断。
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CDer:001169128
发表于 2020-08-21 23:08 超大游击队员 | 显示全部楼层
用奔四烧水 发表于 2020-08-21 22:35
台积电的10nm工艺,是5.4nm线宽和35.1nm间距。换而言之,这玩意还做不了10nm

还得看套刻精度,能小于3.5nm估计就可以了
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CDer:001169128
发表于 2020-08-21 23:09 超大游击队员 | 显示全部楼层
anotherfish 发表于 2020-08-21 22:43
划重点:直写式,这个最多用来打样,没有办法批量生产。

直写式已经生产了,投影式文章说完成样机,正研发大规模量产型
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CDer:000317956
发表于 2020-08-21 23:11 超大游击队员 | 显示全部楼层
anotherfish 发表于 2020-08-21 22:43
划重点:直写式,这个最多用来打样,没有办法批量生产。

两种,一种直写,一种投影
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CDer:000159547
发表于 2020-08-22 02:11 | 显示全部楼层

RE: 武汉光谷做的国产9纳米双光束超分辨投影(唯一可量产芯片)光刻实验样机外形?

凤鸣九皋 发表于 2020-08-21 19:45
不知道大家有没有注意到这篇报道里提到已经设计制造出了双束激光投影式曝光的样机了。

如果真这么好人家为什么不用,费力去搞EUV做什么,肯定有目前技术无法克服的困难,还是老老实实把DUV搞定才是正经。
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CDer:000424960
发表于 2020-08-22 03:58 超大游击队员 | 显示全部楼层
本帖最后由 sailormoons 于 2020-08-22 04:08 编辑
fireeyes 发表于 2020-08-22 02:11
如果真这么好人家为什么不用,费力去搞EUV做什么,肯定有目前技术无法克服的困难,还是老老实实把DUV搞定 ...


传统euv这么好 为什么除了asml别家不去生产?
只有一家用不代表他不好。
传统光刻机领域现在水平最高的肯定是asml 但是新技术的光刻机呢 阿斯麦不一定是最高水平 有些技术他可能做不来 再加上技术路线本身也有巨大惯性  经常可以看到一个国家选定一条技术路线几十年都不一定能改
阿斯麦没走那条路 不代表那条路就走不通 不代表那条路就不好

更何况国家从来也没有放松euv研究 我们国家现在缺的不是资金和资源  多方案并进 我看挺好  无论谁胜出都是成功  不成功的方案也会为未来的研究做储备
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CDer:000893107
发表于 2020-08-22 09:03 超大游击队员 | 显示全部楼层
sailormoons 发表于 2020-08-22 03:58
传统euv这么好 为什么除了asml别家不去生产?
只有一家用不代表他不好。
传统光刻机领域现在水平最高 ...

ASML美国扶持的,尼康想搞也不给技术和市场啊
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CDer:000979950
发表于 2020-08-22 09:33 | 显示全部楼层
直写式的已经商业销售,投影式的(能大规模量产芯片)19年完成测试,现在正进行工程样机试制。
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发表于 2020-08-22 09:49 超大游击队员 | 显示全部楼层
hswz 发表于 2020-08-21 20:45
直写根本不可行,太废掩膜板了

===

不是说直写不需要掩膜版嘛,掩膜版就是直写加工出来的吧??直写是无法大规模制造芯片吧
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CDer:001109843
发表于 2020-08-22 10:27 超大游击队员 | 显示全部楼层
fireeyes 发表于 2020-08-22 02:11
如果真这么好人家为什么不用,费力去搞EUV做什么,肯定有目前技术无法克服的困难,还是老老实实把DUV搞定 ...

本来就有team做duv。
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发表于 2020-08-22 11:22 超大游击队员 | 显示全部楼层
xdw076 发表于 2020-08-22 09:33
直写式的已经商业销售,投影式的(能大规模量产芯片)19年完成测试,现在正进行工程样机试制。

投影式的光刻机能生产10纳米CPU吗???如果成功的话,一下子给它干到10纳米,和台积电就是一两年的差距。
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发表于 2020-08-22 11:24 超大游击队员 | 显示全部楼层
fireeyes 发表于 2020-08-22 02:11
如果真这么好人家为什么不用,费力去搞EUV做什么,肯定有目前技术无法克服的困难,还是老老实实把DUV搞定 ...

我们国家几个技术路线的光刻机同时在搞,只要有一个搞成功了就行!!!这叫渔翁撒网,分散投资!!!
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发表于 2020-08-22 11:33 超大游击队员 | 显示全部楼层
lead 发表于 2020-08-22 11:22
投影式的光刻机能生产10纳米CPU吗???如果成功的话,一下子给它干到10纳米,和台积电就是一两年的差距 ...

想做10纳米以下那可不是有设备就行的,人也要跟上。
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发表于 2020-08-22 16:25 超大游击队员 | 显示全部楼层
就是不知道能不能做7纳米和以下制成了
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CDer:000460126
发表于 2020-08-22 17:51 | 显示全部楼层

RE: 武汉光谷做的国产9纳米双光束超分辨投影(唯一可量产芯片)光刻实验样机外形?

阳光旭日东升 发表于 2020-08-22 16:25
就是不知道能不能做7纳米和以下制成了

现在只要有10纳米的加工能力,就基本能满足我们3年的使用了。
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CDer:001164713
发表于 2020-08-22 19:21 | 显示全部楼层

RE: 武汉光谷做的国产9纳米双光束超分辨投影(唯一可量产芯片)光刻实验样机外形?

anotherfish 发表于 2020-08-21 22:43
划重点:直写式,这个最多用来打样,没有办法批量生产。

划毛线重点:去看人家官网上写的,两种,一种直写的已经在商用,一种投影式已经在2019年出样机目前正在工程化
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