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网上目前国产光刻机最乐观的信息

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CDer:000256657
发表于 2020-05-18 19:04 超大游击队员 | 显示全部楼层 |阅读模式

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http://blog.sina.cn/dpool/blog/s/blog_13dc978850102ztqg.html

我国的光刻机开发的怎么样了?
2020-04-29 14:33阅读:396
快了, 按照计划今年(2020年)12月就会下线SSA800/10W 。这玩意用了ArF光源 NA 1.35透镜组、超精密磁悬浮双工件台、超纯水浸入系统。预计的套刻精度按照华卓精科指标是高于1.7纳米的,也就是说这个机子有做到七纳米的潜力——当然也只是潜力。
我国的光刻机开发的怎么样了? 我国的光刻机开发的怎么样了? 从这儿可以看出这是一个双工件台曝光系统 我国的光刻机开发的怎么样了? 我国的光刻机开发的怎么样了?我国的光刻机开发的怎么样了?启尔机电的产品报告  我国的光刻机开发的怎么样了?

近日有知乎网友“A-SET”贴出国产先进光刻机的研制进展信息,声称按计划上海微电子将于今年(2020年)12月下线首台采用ArF光源的可生产11纳米的SSA800/10W光刻机(单次曝光28nm节点浸没光刻机),采用NA1.35透镜组,并搭载超精密磁悬浮双工件台和超纯水浸入系统。同时采用华卓精科工作台的套刻精度指标优于1.7纳米。该光刻机有生产7nm制程的潜力(多次曝光)。该网友同时贴出SMEE的双工件台曝光系统的操作控制界面。同时还透露长春光机所正基于哈工大DPP-EUV光源研制EUV曝光机,预计两年内可推出。
光刻机的两大核心部件为双工件台和曝光系统。根据此前媒体透露消息,清华大学朱煜教授带领的团队在2014年研发出工件台样机,掩模台/硅片台同步扫描指标实测达到MA:2.2nm、MSD:4.7nm,使中国成为第二个掌握此技术的国家。随后依托该技术产业化成立华卓精科向市场推出商用光刻机双工件台产品。另外在EUV曝光系统方面,长春光机所于2002年研制国内第一套EUV光刻原理装置,于2016年成功研制了波像差优于0.75 nm RMS 的两镜EUV 光刻物镜系统,2017年32nm线宽的13.5nm极紫外光EUV光刻曝光系统通过验收。科益虹源在2018年成功商用的浸没式193nm准分子激光器。
其它核心器件技术方面,依托浙江大学研发团队的启尔机电推出了可用于最高11nm制程浸没式光刻机的浸液系统。中微半导体也推出用于5nm制程蚀刻机。南大光电研发出193nm光刻胶。华为自研EDA已进行7纳米验证。
根据以上媒体公开信息,国望光学、长春光机所、上海光机、科益虹源光电、中微半导体等在国产光刻机各项关键子系统在技术上已经攻关完成,推出相应的自主技术代替的商用产品是水到渠成的,我们可以推断该网友的信息十分可靠。总之,上海微电子预计将于2021年交付首台国产28nm的immersion光刻机。
按照国产光刻机的研发进度,我们可以判断ASML未来可能不会对中国禁售EUV光刻机,但是拖延交付时间来延缓中国芯片制造业的发展,尤其是在中芯国际已经量产14nm并将推出7nm制程的关键时间节点,相信只要我国的芯片设计产业如华为龙芯等更多支持自主技术晶圆芯片生产制造的话,中芯会最终向更先进的5nm甚至3nm工艺制程进军。
国产深紫外浸入式光刻机(DUV)在今年就要下线了,其中:
1. 由上海微电子负责总体集成,超精密光栅系统来自中国科学院上海光学精密机械研究所。
2. 光刻机物镜组来自北京国望光学。
3. 光源来自科益虹源。
4. 浸液系统来自浙江启尔机电。
5. 双工件台来自华卓精科。
这个光刻机的套刻精度为4纳米,可以适用于11纳米曝光。由双工件台技术指标可以得知这个光刻机每小时可以曝光160—180片12英寸晶片。
极紫外光刻机(EUV):
1. 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所在2016年验收了原理技术样机,在近两年会下线第一台验证机。
2. 极紫外光源方面,哈尔滨工业大学方面负责的DPP—EUV光源已经到了接近125W的水平,基本可以支持中国科学院长春光学精密机械与物理研究所完成一套一小时曝光60—70片12英寸晶片极紫外光刻机验证机。
3. 在光刻机物镜方面由北京某企业负责的物镜超精密加工机床也通过了验收。
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CDer:000149535
发表于 2020-05-18 20:09 | 显示全部楼层
“A-SET”不就是本坛网友吗!
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CDer:001155182
发表于 2020-05-18 22:50 | 显示全部楼层

RE: 网上目前国产光刻机最乐观的信息

taohaihua 发表于 2020-05-18 20:09
“A-SET”不就是本坛网友吗!

出口转内销
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CDer:000767685
发表于 2020-05-19 05:23 超大游击队员 | 显示全部楼层
所以注明消息来源很重要
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CDer:001067895
发表于 2020-05-19 05:42 | 显示全部楼层
首先真实性存疑,基本没有证据,全是小道消息。
其次,有和能用完全不是一回事,SMEE的上一代产品SSA600,可靠性很低没人愿意用,没有实际大规模生产,只能做个技术储备。
最后,完全解决不了实际困难,28纳米光刻机屁用没有,duv可以随便买,最要命最急需的euv连曝光机都还没弄好,02核高基制定的2030年拥有完全自主的euv是合理科学的,那问题来了,这十年怎么过。
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CDer:000336475
发表于 2020-05-19 06:58 | 显示全部楼层

RE: 网上目前国产光刻机最乐观的信息

本帖最后由 jeciq 于 2020-05-19 07:10 编辑
webweb 发表于 2020-05-19 05:42
首先真实性存疑,基本没有证据,全是小道消息。
其次,有和能用完全不是一回事,SMEE的上一代产品SSA600, ...


你所说的也都是个人猜测和推断,也没有事实依据,那我也猜测下虽然我也不是很乐观,但这次产业化力度远比600时候强多了,这些系统公司都是国家扶持startup,而且每一家都是实打实的在做技术攻关和积累,我还猜测作为国产唯一中端光刻机600机型10多年了不可能一直放那落灰,肯定有厂商一直在用它给上微提供支持,虽然可能不能用于实际量产,总之希望光刻机能像J20一样给国人惊喜
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CDer:001041171
发表于 2020-05-19 07:49 超大游击队员 | 显示全部楼层
taohaihua 发表于 2020-05-18 20:09
“A-SET”不就是本坛网友吗!

还真是,论坛里有这个ID。
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CDer:000979950
发表于 2020-05-19 08:19 | 显示全部楼层
从坛子转出去的又转回来了
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