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CDer:001157395 楼主: xxxx502
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急死个人,中国光刻机现在到什么地步了?

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CDer:001153246
发表于 2020-05-18 10:09 超大游击队员 | 显示全部楼层
瓦肯奥巴马 发表于 2020-05-18 08:31
美国感染140万甚至更多是任何人都没想到的事情。

只能说抗击疫情不仅需要医疗能力,也需要整体社会动 ...

连医护人员的防护服都凑不齐,应检尽检应收尽收也做不到,政府却急着复工,治疗新冠还要收费,这可不是社会动员能力的问题,而且政府责任心和选举体制的问题。
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CDer:001153246
发表于 2020-05-18 10:11 超大游击队员 | 显示全部楼层
webweb 发表于 2020-05-18 09:37
是既不用下跪,也不自杀。
首先从管住嘴和脑子,别张口就来,别自己骗自己开始。

你自己的脑子和嘴管好没有?
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CDer:000640605
发表于 2020-05-18 10:12 超大游击队员 | 显示全部楼层
gdwmcy 发表于 2020-05-18 09:37
航发没有突破吗?

目前也就整体达到美苏80年代水平,部分还达不到。

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CDer:000640605
发表于 2020-05-18 10:20 超大游击队员 | 显示全部楼层
彦道 发表于 2020-05-18 09:23
是你自己没想到吧

和想不想到没什么关系。

只能说美国承平日久,社会结构高度成熟,若想在民意导向下要做出重大决策比较难。
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CDer:001067895
发表于 2020-05-18 10:23 | 显示全部楼层

RE: 急死个人,中国光刻机现在到什么地步了?

qtn 发表于 2020-05-18 09:44
就一个光学吗?你想的太~~~

光源是最大的困难,你可能不信,解决了光源问题。中国很快就会有自己的euv
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CDer:001067895
发表于 2020-05-18 10:24 | 显示全部楼层

RE: 急死个人,中国光刻机现在到什么地步了?

sturm1 发表于 2020-05-18 10:11
你自己的脑子和嘴管好没有?

管好了,我很少张口就来,也不会活在幻觉里,什么五年内就会有euv
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CDer:001112352
发表于 2020-05-18 11:00 | 显示全部楼层

RE: 急死个人,中国光刻机现在到什么地步了?

瓦肯奥巴马 发表于 2020-05-18 08:31
美国感染140万甚至更多是任何人都没想到的事情。

只能说抗击疫情不仅需要医疗能力,也需要整体社会动 ...

所以当初诸位人士的FLAG立的好啊
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CDer:001112352
发表于 2020-05-18 11:01 | 显示全部楼层

RE: 急死个人,中国光刻机现在到什么地步了?

webweb 发表于 2020-05-18 09:34
你知道吗,asml最核心的光源就是美国的。不是中国的。
另外一个小常识,军用和民用没可比性,丰田汽车很 ...

那就不好意思了,ICF的技术还真可以迁移到LPP-EUV上面去 不然你以为中国极紫外开发联盟为什么有中国工程物理研究院?
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CDer:001112352
发表于 2020-05-18 11:02 | 显示全部楼层

RE: 急死个人,中国光刻机现在到什么地步了?

webweb 发表于 2020-05-18 10:23
光源是最大的困难,你可能不信,解决了光源问题。中国很快就会有自己的euv

哈工大两年前就验收了125瓦的DPP-EUV光源,那么中国的极紫外光刻机在那儿?
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CDer:000640605
发表于 2020-05-18 11:23 超大游击队员 | 显示全部楼层
A-SET 发表于 2020-05-18 11:00
所以当初诸位人士的FLAG立的好啊

料敌从宽而已。

再说了,即便到了三月,国内无论是张文宏,还是钟南山都认为5月底可以结束疫情,谁都没想到形成目前全球扩散的烂摊子。
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CDer:000762741
发表于 2020-05-18 11:42 超大游击队员 | 显示全部楼层

Re.急死个人,中国光刻机现在到什么地步了?

gdwmcy 发表于 2020-05-17 23:26:11
我不这么认为,首先中国攻城师的效率与国外而言不可同日而语,其次,事情的迫切程度又与外国那种慢悠悠搞研发不一样,还有中国现在估计搞的是全国协同作战,目前中国高科技已到一个比较紧要的关头,估计各个厂家都是处于签请战书的状态,所以,技术上追平现在的ASML,个人认为3-5年就可以了,
你太乐观了,估计3年可以把7nm量产搞定算可以了
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CDer:000762741
发表于 2020-05-18 11:51 超大游击队员 | 显示全部楼层

Re.急死个人,中国光刻机现在到什么地步了?

webweb 发表于 2020-05-18 10:23:21
光源是最大的困难,你可能不信,解决了光源问题。中国很快就会有自己的euv
光源方面我记得中国好像水平不低呀,为啥最终是这个卡住了,求教一下
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CDer:001067895
发表于 2020-05-18 12:39 | 显示全部楼层

RE: 急死个人,中国光刻机现在到什么地步了?

A-SET 发表于 2020-05-18 11:02
哈工大两年前就验收了125瓦的DPP-EUV光源,那么中国的极紫外光刻机在那儿?

那个透露小道消息SSA800/10W和euv曝光机的就是你??
先给出点证据来,
然后你自己也说,预计2年后出曝光机,对吧???
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CDer:001163788
发表于 2020-05-18 12:41 | 显示全部楼层

RE: 急死个人,中国光刻机现在到什么地步了?

webweb 发表于 2020-05-18 12:39
那个透露小道消息SSA800/10W和euv曝光机的就是你??
先给出点证据来,
然后你自己也说,预计2年后出曝 ...


这两天发帖有点多啊,华为这事这么高兴?
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CDer:000829992
发表于 2020-05-18 13:11 | 显示全部楼层

RE: 急死个人,中国光刻机现在到什么地步了?

HUANG1979 发表于 2020-05-18 00:34
不好讲,现在TG的DUV和EUV研制是并行展开的,别搞得像蒸弹和电弹一样就有意思了

国内DUV和EUV是同一拨团队在研制
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CDer:000286889
发表于 2020-05-18 13:14 超大游击队员 | 显示全部楼层
EWCt 发表于 2020-05-18 12:41
这两天发帖有点多啊,华为这事这么高兴?

看起来应该是打心眼里高兴吧。。。
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CDer:001067895
发表于 2020-05-18 13:43 | 显示全部楼层

RE: 急死个人,中国光刻机现在到什么地步了?

EWCt 发表于 2020-05-18 12:41
这两天发帖有点多啊,华为这事这么高兴?

同样的话送给你,号挺新啊,这么积极参与?
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CDer:001112352
发表于 2020-05-18 14:55 | 显示全部楼层

RE: 急死个人,中国光刻机现在到什么地步了?

webweb 发表于 2020-05-18 12:39
那个透露小道消息SSA800/10W和euv曝光机的就是你??
先给出点证据来,
然后你自己也说,预计2年后出曝 ...

SSA800/10W原始资料来自Havok你自己问他去
125瓦的DPP-EUV光源来自个人渠道资料收集,或者说这个就是2017年验收的那个长春光机所极紫外光刻关键技术研究项目的光源部分验收指标
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CDer:001113860
发表于 2020-05-18 15:04 超大游击队员 | 显示全部楼层
光刻机这个反倒不是怎么着急,国内能够买到的最先进光刻机NXT2000i,最高可以加工5nm的。
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CDer:001089626
发表于 2020-05-18 15:11 | 显示全部楼层

RE: 急死个人,中国光刻机现在到什么地步了?

海陆空火 发表于 2020-05-18 15:04
光刻机这个反倒不是怎么着急,国内能够买到的最先进光刻机NXT2000i,最高可以加工5nm的。

这个机器放一个美国零件就好。
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 楼主| 发表于 2020-05-18 16:34 超大游击队员 | 显示全部楼层
海陆空火 发表于 2020-05-18 15:04
光刻机这个反倒不是怎么着急,国内能够买到的最先进光刻机NXT2000i,最高可以加工5nm的。

duv如何加工,而且如果美国也禁了呢?
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CDer:001067895
发表于 2020-05-18 17:23 | 显示全部楼层

RE: 急死个人,中国光刻机现在到什么地步了?

海陆空火 发表于 2020-05-18 15:04
光刻机这个反倒不是怎么着急,国内能够买到的最先进光刻机NXT2000i,最高可以加工5nm的。

euv不管是质量还是效率都远比duv好。
另外,能是一回事,难度是另一回事。
切记,没法凑合,不然大家早就凑合用了。
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CDer:000421955
发表于 2020-05-18 17:47 超大游击队员 | 显示全部楼层

Re.急死个人,中国光刻机现在到什么地步了?

webweb 发表于 2020-05-18 17:23:16
euv不管是质量还是效率都远比duv好。另外,能是一回事,难度是另一回事。切记,没法凑合,不然大家早就凑合用了。
你这第一句就是外行话了,我这业余旁观者都晓得不妥当。
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CDer:000256657
发表于 2020-05-18 19:01 超大游击队员 | 显示全部楼层
目前最乐观的消息
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CDer:000256657
发表于 2020-05-18 19:02 超大游击队员 | 显示全部楼层
海陆空火 发表于 2020-05-18 15:04
光刻机这个反倒不是怎么着急,国内能够买到的最先进光刻机NXT2000i,最高可以加工5nm的。

买没用,有美国技术的不能用来加工华为芯片
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CDer:000767685
发表于 2020-05-19 05:31 超大游击队员 | 显示全部楼层
很讨厌超大 发表于 2020-05-18 09:09
专利难绕过去

这个好绕,你东西卖给我才有专利一说,你不卖给我,那就是垄断,反垄断法里面添一条就可以过去了
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CDer:001122883
发表于 2020-05-19 08:45 超大游击队员 | 显示全部楼层
瓦肯奥巴马 发表于 2020-05-18 11:23
料敌从宽而已。

再说了,即便到了三月,国内无论是张文宏,还是钟南山都认为5月底可以结束疫情,谁都 ...

人家说的是中国,而不是外国。

当年 川王 也说过,病毒会在夏季突然消失。美国人民都在等着呢。。。
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CDer:001118429
发表于 2020-05-19 21:37 | 显示全部楼层
给楼主一个目前最为可信的消息报道

       上海微电子今年12月下线可生产11纳米的光刻机有生产7nm制程的潜力(多次曝光)
       上海微电子将于今年(2020年)12月下线首台采用ArF光源的可生产11纳米的SSA800/10W光刻机(单次曝光28nm节点浸没光刻机),采用NA1.35透镜组,并搭载超精密磁悬浮双工件台和超纯水浸入系统。同时采用华卓精科工作台的套刻精度指标优于1.7纳米。该光刻机有生产7nm制程的潜力(多次曝光)。该网友同时贴出SMEE的双工件台曝光系统的操作控制界面。同时还透露长春光机所正基于哈工大DPP-EUV光源研制EUV曝光机,预计两年内可推出。
        光刻机的两大核心部件为双工件台和曝光系统。根据此前媒体透露消息,清华大学朱煜教授带领的团队在2014年研发出工件台样机,掩模台/硅片台同步扫描指标实测达到MA:2.2nm、MSD:4.7nm,使中国成为第二个掌握此技术的国家。随后依托该技术产业化成立华卓精科向市场推出商用光刻机双工件台产品。另外在EUV曝光系统方面,长春光机所于2002年研制国内第一套EUV光刻原理装置,于2016年成功研制了波像差优于0.75 nm RMS 的两镜EUV 光刻物镜系统,2017年32nm线宽的13.5nm极紫外光EUV光刻曝光系统通过验收。科益虹源在2018年成功商用的浸没式193nm准分子激光器。
        其它核心器件技术方面,依托浙江大学研发团队的启尔机电推出了可用于最高11nm制程浸没式光刻机的浸液系统。中微半导体也推出用于5nm制程蚀刻机。南大光电研发出193nm光刻胶。华为自研EDA已进行7纳米验证。
        国产深紫外浸入式光刻机(DUV)在今年就要下线了,其中:
        1. 由上海微电子负责总体集成,超精密光栅系统来自中国科学院上海光学精密机械研究所。
        2. 光刻机物镜组来自北京国望光学。
        3. 光源来自科益虹源。
        4. 浸液系统来自浙江启尔机电。
        5. 双工件台来自华卓精科。
        这个光刻机的套刻精度为4纳米,可以适用于11纳米曝光。由双工件台技术指标可以得知这个光刻机每小时可以曝光160—180片12英寸晶片。
       极紫外光刻机(EUV):
      1.  中国科学院长春光学精密机械与物理研究所在2016年验收了原理技术样机,在近两年会下线第一台验证机。
      2.  极紫外光源方面,哈尔滨工业大学方面负责的DPP—EUV光源已经到了接近125W的水平,基本可以支持中国科学院长春光学精密机械与物理研究所完成一套一小时曝光60—70片12英寸晶片极紫外光刻机验证机。
      3.  在光刻机物镜方面由北京某企业负责的物镜超精密加工机床也通过了验收。
      4. 2018年5月24日,国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”专项(以下简称02重大专项)实施管理办公室组织任务验收专家组、财务验收专家组对02重大专项”极紫外光刻胶材料与实验室检测技术研究”项目进行了任务验收和财务验收。

       这是报道地址:https://user.guancha.cn/main/content?id=298547&s=fwckhfbt
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CDer:001155804
发表于 2020-05-19 22:04 超大游击队员 | 显示全部楼层
这个估计也是超大传出去的
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CDer:001155804
发表于 2020-05-19 22:06 超大游击队员 | 显示全部楼层
这个时候特别希望有关公司透露一点消息,来鼓舞士气!
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CDer:001063626
发表于 2020-05-20 13:20 | 显示全部楼层

RE: 急死个人,中国光刻机现在到什么地步了?

上海微电子装备在研国产最好的DUV光刻机,成功后可以用于11nm制程;可以给你个项目名称叫SSA800/10W,自己去查。
长春光电所在研国产最好的EUV光刻机,成功后是用于7nm及以下制程的。
当然,光刻机并不是做出来就一定能工业化运用的;国产光刻机的问题就是做出来从没被主流Fab用过,所以上工业流片还需要很多磨合。
过去是咱的制程不够,可靠性就更不用提了,国内的Fab厂都不肯用,阿斯迈的现成光刻机现成参数工艺用着不香吗?
现在情况不同了,EUV阿斯麦不敢卖;DUV买到了,美国人不让国内的Fab厂用,理由就是里面有源自美国的零部件,因此中芯国际这样的也不敢硬顶。但是这不妨碍中芯国际买国产的光刻机啊?
美国的极限制裁,反而在阿斯麦构筑的铁幕上为国产光刻机和国产芯片代工产业链打开了一道缝……后面就看咱们自己给力不给力了。
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CDer:001063626
发表于 2020-05-20 13:25 | 显示全部楼层

RE: 急死个人,中国光刻机现在到什么地步了?

xcyoung 发表于 2020-05-18 11:51
光源方面我记得中国好像水平不低呀,为啥最终是这个卡住了,求教一下

光源水平的确不低,但阿斯麦用的不是中国光源,是美国光源,所以会被美国卡脖子。
而且中国的光源在光刻机的工程运用上用得少,所以工程上不成熟。
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CDer:000059635
发表于 2020-05-20 14:26 | 显示全部楼层
我觉得华为可以先用上。
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CDer:001118429
发表于 2020-05-20 16:48 | 显示全部楼层

RE: 急死个人,中国光刻机现在到什么地步了?

其实中国大陆的光刻机的发展路线有三条以上

        1 就是上微的光刻机

        2  就是成都光电所的sp光刻机

        这是报道“超分辨光刻装备项目”通过国家验收


       国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”29日通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制,光刻分辨力达到22纳米,结合双重曝光技术后,未来还可用于制造10纳米级别的芯片。

       中科院理化技术研究所许祖彦院士等验收组专家一致表示,该光刻机在365纳米光源波长下,单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米。项目在原理上突破分辨力衍射极限,建立了一条高分辨、大面积的纳米光刻装备研发新路线,绕过国外相关知识产权壁垒。

      光刻机是制造芯片的核心装备,我国在这一领域长期落后。它采用类似照片冲印的技术,把母版上的精细图形通过曝光转移至硅片上,一般来说,光刻分辨力越高,加工的芯片集成度也就越高。但传统光刻技术由于受到光学衍射效应的影响,分辨力进一步提高受到很大限制。

      为获得更高分辨力,传统上采用缩短光波、增加成像系统数值孔径等技术路径来改进光刻机,但技术难度极高,装备成本也极高。

       项目副总设计师胡松介绍,中科院光电所此次通过验收的表面等离子体超分辨光刻装备,打破了传统路线格局,形成一条全新的纳米光学光刻技术路线,具有完全自主知识产权,为超材料/超表面、第三代光学器件、广义芯片等变革性领域的跨越式发展提供了制造工具。

       据了解,这种超分辨光刻装备制造的相关器件已在中国航天科技集团公司第八研究院、电子科技大学、四川大学华西医院、中科院微系统所等多家科研院所和高校的重大研究任务中得到应用。

       http://news.sciencenet.cn/htmlnews/2018/11/420549.shtm

       3   甘棕松的9纳米光刻机

   
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CDer:000004985
发表于 2020-05-21 16:26 | 显示全部楼层
我建议能否考虑弯道超车啊。例如介质不用水,考虑有没有更合适的介质呢?
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CDer:000004901
发表于 2020-05-21 18:00 超大游击队员 | 显示全部楼层
我们研发真的不太行,按理说光刻机这些都有原型机的,抄都抄不出来,唉!
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CDer:001122859
发表于 2020-05-21 23:33 超大游击队员 | 显示全部楼层
A-SET 发表于 2020-05-18 08:10
讲一个笑话 TG光学不强 TG光学不强全世界第二个0.1米全色分辨率光学遥感卫星TG造的 全球第一的288 ...

你跟他较什么劲,明显就一外行加喷子。
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CDer:001122859
发表于 2020-05-21 23:42 超大游击队员 | 显示全部楼层
xcyoung 发表于 2020-05-18 11:51
光源方面我记得中国好像水平不低呀,为啥最终是这个卡住了,求教一下

它他懂个毛,在这跳大神。
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CDer:000076824
发表于 2020-05-22 10:10 | 显示全部楼层

RE: 急死个人,中国光刻机现在到什么地步了?

xxxx502 发表于 2020-05-18 16:34
duv如何加工,而且如果美国也禁了呢?

国产DUV已经出来了啊,DUVi今年底或者明年也会出来。
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CDer:000076824
发表于 2020-05-22 10:15 | 显示全部楼层

RE: 急死个人,中国光刻机现在到什么地步了?

hhhhh 发表于 2020-05-21 16:26
我建议能否考虑弯道超车啊。例如介质不用水,考虑有没有更合适的介质呢?

EUV就是干式的,不用水了。
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