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中芯国际不用EUV光刻机、也能搞定7nm工艺?

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发表于 2020-02-14 20:05 超大游击队员 | 显示全部楼层 |阅读模式

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本帖最后由 尘世游人 于 2020-2-15 00:07 编辑

国内最大的晶圆代工厂中芯国际,在(2019)Q4季度中已经量产14nm工艺,贡献了1%的营收,该工艺能够满足国内95%的芯片生产。

中芯国际14nm工艺现在最重要的问题还是产能,主要是在上海的中芯南方12英寸晶圆厂生产,去年底也就生产了1000片晶圆左右,产量很低。

根据中芯国际联席CEO梁孟松的说法,14nm月产能将在今年3月达到4K,7月达到9K,12月达到15K。

中芯国际的14nm产能在15K晶圆/月之后应该不会继续提升了,还有更新的工艺。

其中基于14nm改良的12nm工艺也进入客户导入阶段了,该工艺相比14nm晶体管尺寸进一步缩微,功耗降低20%、性能提升10%,错误率降低20%。

不过14nm工艺相比台积电、三星的工艺依然存在2-3代的差距,而且满足不了制造当前最高性能水平的处理器,所以中芯国际还在发展更新一代的N+1、N+2工艺。

在这次的财报会议上,梁孟松博士也首次公开了N+1、N+2代工艺的情况,他说N+1工艺和14nm相比,性能提升了20%,功耗降低了57%,逻辑面积缩小了63%,SoC面积减少了55%。

中芯国际一直没有明确14nm之后是否跳过10nm工艺,所以这个N+1到底是10nm还是7nm不能确定,但根据上面的说法 ,N+1基本上可以确定是7nm级别的工艺了,因为芯片面积缩减55%意味着晶体管密度提升了1倍,这超过了14nm到10nm工艺的进化水平,台积电从14nm到7nm也就是提升了1倍的密度。

不过梁孟松也提到了,N+1代工艺在功耗及稳定性上跟7nm工艺非常相似,但性能不如,业界标准是提升35%,所以中芯国际的N+1工艺主要开始面向低功耗的。

N+1之后还会有N+2,这两种工艺在功耗上表现差不多,区别在于 性能及成本, N+2显然是面向高性能的,成本也会增加。

至于备受关注的EUV光刻机,梁孟松表示在当前的环境下,N+1、N+2代工艺都不会使用EUV工艺,等到设备就绪之后,N+2之后的工艺才会转向EUV光刻工艺。

从梁孟松的解释来看,中芯国际的7nm工艺发展跟台积电的路线差不多,7nm节点一共发展了三种工艺,分别是低功耗的N7、高性能的N7P、使用EUV工艺的N7+,前两代工艺也没用EUV光刻机,只有N7+工艺上才开始用EUV工艺,不过光罩层数也比较少,5nm节点寸是充分利用EUV光刻工艺的,达到了14层EUV光罩。

还有就是中芯国际的7nm级工艺问世时间,之前的财报中梁孟松提到是在2020年底开始试验产能,真正生产要到2021年了。

https://m.sohu.com/a/373025052_163726/?pvid=000115_3w_a
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 楼主| 发表于 2020-02-14 20:10 超大游击队员 | 显示全部楼层
本帖最后由 尘世游人 于 2020-2-15 05:13 编辑

很早之前就说过了,国内目前现在的设备最高是能够支持开发到7nm工艺的。
总有那么一帮人,扯什么做不了先进工艺,是因为没有先进的设备等等,来找借口,完全不提人才是最重要的因素。
按文章的说法是,2020年开始大规模的生产14/12nm工艺,然后试产7nm,2021-2022开始量产7nm。
不得不说,有牛逼的人带队,进度就是不一样。

时间节点与世界先进水平的差距年份
2015年:
台积电:16nm、三星14nm、中芯:28nm
2016年:
台积电:16nm+、三星14nm+、中芯:28nm
2017年:
台积电:10nm、三星10nm、中芯:28nm+
2018年:
台积电:7nm、三星10nm、中芯:28nm+
2019年:
台积电:7nm+/7nm++、三星7nm、中芯:14nm
2020年:
台积电:5nm、三星?、中芯:12nm

目前的技术应用差距在4-5年
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发表于 2020-02-14 20:36 | 显示全部楼层
ASML NXT2000i就可以供应7纳米了 日本 NSR-S635e宣传也可以到5纳米级别 这些都是DUVi
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发表于 2020-02-14 20:37 | 显示全部楼层
问题就是看资料 ASML的Wafer处理是170Wph 而日本是275Wph 但是为啥日本一台都卖不出去呢?
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发表于 2020-02-14 20:40 超大游击队员 | 显示全部楼层
尘世游人 发表于 2020-2-14 20:10
很早之前就说过了,国内目前现在的设备最高是能够支持开发到7nm工艺的。
总有那么一帮人,扯什么做不了先 ...

可以了解一下即将量产的5nm还有后续的3nm这才是最先进工艺,还有duv的7nm价格更高因为是多重曝光需要更多光罩,留片的费用相当一大部分都在光罩上了,euv曝光次数更少便宜且后续的制程确实需要更短的波长的极紫外光刻,而且我感觉我们的设备厂商需要把它研究透来更快的搞我们的euv。
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发表于 2020-02-14 20:40 超大游击队员 | 显示全部楼层
7纳米可以不用euv,用euv效果更好,台积电第一代7纳米就不是euv工艺。
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发表于 2020-02-14 20:42 | 显示全部楼层

RE: 中芯国际不用EUV光刻机也能搞定7nm?

1154214316 发表于 2020-2-14 20:40
可以了解一下即将量产的5nm还有后续的3nm这才是最先进工艺,还有duv的7nm价格更高因为是多重曝光需要更多 ...

对了 你知道日本那个NSR-635E是怎么会事吗?日本宣传的每小时曝光晶圆是275片 远胜于NXT2000i的175片水平 但是为啥ASML打的Nikon溃不成军啊
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发表于 2020-02-14 20:46 超大游击队员 | 显示全部楼层
A-SET 发表于 2020-2-14 20:36
ASML NXT2000i就可以供应7纳米了 日本 NSR-S635e宣传也可以到5纳米级别 这些都是DUVi

我感觉只要套刻精度够,实现更高的都有可能,但是duv的波长问题就需要多重曝光,越多的曝光次数需要的光罩就越多,光罩可太贵了,流片的相当一部分费用都在光罩上了,所以duv稳定便宜就好。当然了都是我的猜测。
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发表于 2020-02-14 20:47 | 显示全部楼层

RE: 中芯国际不用EUV光刻机也能搞定7nm?

1154214316 发表于 2020-2-14 20:46
我感觉只要套刻精度够,实现更高的都有可能,但是duv的波长问题就需要多重曝光,越多的曝光次数需要的光 ...

不是 ASML的NXT2000i也是DUVi' 而且看宣传每小时也就175片 比日本宣传的275片少了100片每小时 看宣传日本的机台价格还更便宜 但是Nikon完全卖不出去几台啊
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发表于 2020-02-14 20:48 | 显示全部楼层

RE: 中芯国际不用EUV光刻机也能搞定7nm?

A-SET 发表于 2020-2-14 20:37
问题就是看资料 ASML的Wafer处理是170Wph 而日本是275Wph 但是为啥日本一台都卖不出去呢?


因为台积电是asml的大股东之一啊。
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发表于 2020-02-14 20:50 超大游击队员 | 显示全部楼层
A-SET 发表于 2020-2-14 20:42
对了 你知道日本那个NSR-635E是怎么会事吗?日本宣传的每小时曝光晶圆是275片 远胜于NXT2000i的175片水平 ...

我猜啊,原因可能是稳定性和价格问题。因为我除了asml都没关注过别的厂商,没想到日本进步这么多。euv光源日本也不错样机除了功率不行估摸着比咱们现在还要强一些,国内怕制裁的厂商可以关注一下。
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发表于 2020-02-14 20:50 | 显示全部楼层

RE: 中芯国际不用EUV光刻机也能搞定7nm?

自行电磁炮 发表于 2020-2-14 20:48
因为台积电是asml的大股东之一啊。

绝对不是这个问题 假如真的如同日本人宣传一般产能高了50% 精度还更高 还便宜了不少为啥因特尔都从尼康阵营跑走了?
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发表于 2020-02-14 20:52 | 显示全部楼层

RE: 中芯国际不用EUV光刻机也能搞定7nm?

1154214316 发表于 2020-2-14 20:50
我猜啊,原因可能是稳定性和价格问题。因为我除了asml都没关注过别的厂商,没想到日本进步这么多。euv光 ...

ASML宣传是稳定生产能力平均175片/小时 Nikon说是最快可以支持到275片/小时 我怀疑又是日本人偷换概念造假了
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发表于 2020-02-14 20:52 超大游击队员 | 显示全部楼层
A-SET 发表于 2020-2-14 20:47
不是 ASML的NXT2000i也是DUVi' 而且看宣传每小时也就175片 比日本宣传的275片少了100片每小时 看宣传日本 ...

还有可能是因为没有双工件台,没法检测光刻同时进行虽然速度快但是算上检测可能就慢了。
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发表于 2020-02-14 20:53 | 显示全部楼层

RE: 中芯国际不用EUV光刻机也能搞定7nm?

A-SET 发表于 2020-2-14 20:50
绝对不是这个问题 假如真的如同日本人宣传一般产能高了50% 精度还更高 还便宜了不少为啥因特尔都从尼康阵 ...

不同设备工艺不同。
台积电和三星用惯了asml的设备
要是转向日本的,那光设备调试就要花很长时间。
目前没时间给他们这么折腾
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发表于 2020-02-14 20:53 超大游击队员 | 显示全部楼层
A-SET 发表于 2020-2-14 20:52
ASML宣传是稳定生产能力平均175片/小时 Nikon说是最快可以支持到275片/小时 我怀疑又是日本人偷换概念造 ...

尼康卖的不好可不得吹波嘛,稳定性肯定也不行出错率高。
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发表于 2020-02-14 20:57 | 显示全部楼层

RE: 中芯国际不用EUV光刻机也能搞定7nm?

1154214316 发表于 2020-2-14 20:52
还有可能是因为没有双工件台,没法检测光刻同时进行虽然速度快但是算上检测可能就慢了。

确实尼康那个产品还是没有双工件台
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发表于 2020-02-14 20:57 | 显示全部楼层

RE: 中芯国际不用EUV光刻机也能搞定7nm?

自行电磁炮 发表于 2020-2-14 20:53
不同设备工艺不同。
台积电和三星用惯了asml的设备
要是转向日本的,那光设备调试就要花很长时间。

台积电三星一开始用的也是日系产品 为啥转ASML其实日系厂商还是应该有逼数的
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发表于 2020-02-14 20:59 | 显示全部楼层

RE: 中芯国际不用EUV光刻机也能搞定7nm?

1154214316 发表于 2020-2-14 20:53
尼康卖的不好可不得吹波嘛,稳定性肯定也不行出错率高。

按照尼康那个数据来看清华大学朱教授确实厉害 他那个工件台的精度足矣支持用到7纳米并且具备向5纳米进步的能力 就是不知道长春光机所的透镜组怎么样
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发表于 2020-02-14 21:00 | 显示全部楼层

RE: 中芯国际不用EUV光刻机也能搞定7nm?

A-SET 发表于 2020-2-14 20:57
台积电三星一开始用的也是日系产品 为啥转ASML其实日系厂商还是应该有逼数的

那是因为从台积电挖的那批人熟悉asml啊
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发表于 2020-02-14 21:02 超大游击队员 | 显示全部楼层
自行电磁炮 发表于 2020-2-14 20:53
不同设备工艺不同。
台积电和三星用惯了asml的设备
要是转向日本的,那光设备调试就要花很长时间。

要是真的好,这些厂商会毫不犹豫的打击asml,然后双企业供货压低价格,尼康虽然没落了但是光刻机一年还能卖几台不会那么费劲的,接口绝对和产线上的设备接的上。只有一个厂商垄断绝对不符合企业的利益,万一这个厂商出问题所有的下游企业的利益都要受损,除非另一个企业真的不行不符合厂商的标准。
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发表于 2020-02-14 21:08 超大游击队员 | 显示全部楼层
理论上可以搞定7nm duv,也就是现在855,865的制程,但做不了7nm euv以及以下的制程,例如麒麟990就是7nm euv
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发表于 2020-02-14 21:08 超大游击队员 | 显示全部楼层
A-SET 发表于 2020-2-14 20:59
按照尼康那个数据来看清华大学朱教授确实厉害 他那个工件台的精度足矣支持用到7纳米并且具备向5纳米进步 ...

确实真的很强,定位精度我这这些年的知识都想像不出怎么实现的。这个可是咱少数具有前瞻性的半导体部件研究成果,这东西euv都能用了可惜了除了这个咱们就都不太好了。那个透镜组归国望光学了吧,不过咱们光学领域不弱,高na应该不难实现,需要的就是时间了。
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发表于 2020-02-14 21:10 超大游击队员 | 显示全部楼层
汉唐大梦 发表于 2020-2-14 20:40
7纳米可以不用euv,用euv效果更好,台积电第一代7纳米就不是euv工艺。

865就是duv,不是euv,倒是麒麟990是euv
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发表于 2020-02-14 21:12 | 显示全部楼层

RE: 中芯国际不用EUV光刻机也能搞定7nm?

1154214316 发表于 2020-2-14 21:08
确实真的很强,定位精度我这这些年的知识都想像不出怎么实现的。这个可是咱少数具有前瞻性的半导体部件研 ...

长春光机所民用卫星可以把MHI军用卫星吊打的屁滚尿流 希望光刻机光学系统也可以做到吧
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发表于 2020-02-14 21:16 | 显示全部楼层

RE: 中芯国际不用EUV光刻机也能搞定7nm?

自行电磁炮 发表于 2020-2-14 21:00
那是因为从台积电挖的那批人熟悉asml啊

这么说吧 日系厂商一开始走的是157纳米路线 没走193纳米浸润式 结果就落后了 然后双工件台直到现在也没搞定 所以才没人要啊
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发表于 2020-02-14 22:10 | 显示全部楼层

RE: 中芯国际不用EUV光刻机也能搞定7nm?

A-SET 发表于 2020-2-14 21:16
这么说吧 日系厂商一开始走的是157纳米路线 没走193纳米浸润式 结果就落后了 然后双工件台直到现在也没搞 ...

与其卖不掉烂手里,还不如和TB合伙,取长补短一下,说不定还能打回去
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CDer:000004901
发表于 2020-02-14 22:36 超大游击队员 | 显示全部楼层
finset是用蚀刻代替光刻了,光刻的线宽只要30nm左右,但是套刻精度要求非常高
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发表于 2020-02-15 10:42 | 显示全部楼层
加油,加油。
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发表于 2020-02-15 11:16 | 显示全部楼层

RE: 中芯国际不用EUV光刻机、也能搞定7nm工艺?

A-SET 发表于 2020-2-14 20:47
不是 ASML的NXT2000i也是DUVi' 而且看宣传每小时也就175片 比日本宣传的275片少了100片每小时 看宣传日本 ...

估计是客户的技术惯性,因为买NSR-635E可能需要重新研发制程工艺,芯片工厂不愿意吧。
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发表于 2020-02-15 11:19 | 显示全部楼层

RE: 中芯国际不用EUV光刻机、也能搞定7nm工艺?

1154214316 发表于 2020-2-14 20:50
我猜啊,原因可能是稳定性和价格问题。因为我除了asml都没关注过别的厂商,没想到日本进步这么多。euv光 ...

我认为日本比荷兰还要不靠谱,以前日本公司买无人机给中国都要被日本政府制裁,一旦米帝给日本压力就会禁运。
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发表于 2020-02-15 11:20 | 显示全部楼层

RE: 中芯国际不用EUV光刻机、也能搞定7nm工艺?

yingzho2007 发表于 2020-2-15 11:16
估计是客户的技术惯性,因为买NSR-635E可能需要重新研发制程工艺,芯片工厂不愿意吧。

所以都是厂家原因吗?一开始他们用的都是日系产品为什么就可以转ASML呢?
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发表于 2020-02-15 11:24 | 显示全部楼层

RE: 中芯国际不用EUV光刻机、也能搞定7nm工艺?

yingzho2007 发表于 2020-2-15 11:16
估计是客户的技术惯性,因为买NSR-635E可能需要重新研发制程工艺,芯片工厂不愿意吧。

不会的,作为一个厂家绝对不愿意被一个厂商卡住脖,如果水平差不太多绝对会扶持的。另外换光刻机最多在涂胶 测量检测 去胶等几个方面变化实际上变化没那么大不至于让厂商大改。原来也有很多厂商支持尼康后来都放弃了,还是一个工件台问题和技术水平问题(他们自己写的ppt不要全信,吹牛的概率挺高的,尤其是稳定性上)。
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发表于 2020-02-15 11:26 | 显示全部楼层

RE: 中芯国际不用EUV光刻机、也能搞定7nm工艺?

yingzho2007 发表于 2020-2-15 11:19
我认为日本比荷兰还要不靠谱,以前日本公司买无人机给中国都要被日本政府制裁,一旦米帝给日本压力就会禁 ...

荷兰人的自主率太低了,供应商严重依靠德 美,反而日本这个自主率高得多不易被制裁。日本人连苏联人的机床都供应主要还是一个商业问题,到底多少利益值得公司和国家一起冒险的问题。
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发表于 2020-02-15 23:37 | 显示全部楼层

RE: 中芯国际不用EUV光刻机、也能搞定7nm工艺?

1154214316 发表于 2020-2-15 11:26
荷兰人的自主率太低了,供应商严重依靠德 美,反而日本这个自主率高得多不易被制裁。日本人连苏联人的机 ...

荷兰这个自主率低恰恰是他的优点,他把全世界最高的科技全拉成一个团队来干,成就了世界上最先进的光刻机。日本人这种自主率高但是大家没好处都不来阻碍了他的发展。

在西方世界里这种自主率高没什么好处,他自主率高对我们也没什么吸引力,因为我们要的是自己自主,在日本手里跟在美国手里没区别,甚至比在荷兰手里还不如。
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发表于 2020-02-16 00:09 | 显示全部楼层

RE: 中芯国际不用EUV光刻机、也能搞定7nm工艺?

fireeyes 发表于 2020-2-15 23:37
荷兰这个自主率低恰恰是他的优点,他把全世界最高的科技全拉成一个团队来干,成就了世界上最先进的光刻机 ...

我比较支持自主,但是也得考虑万一出状况的解决方案和备用方案,万一全国的高制程厂受到制裁问题可就不仅仅是几家科技公司的问题了,而是严重的科技倒退和经济问题。还有任何被单公司垄断的产品都有可能出大问题扶植另一家是有必要的,在完全国产未实现的情况下,如果日本人真的愿意无疑是个好方案,在任何情况下都要两条腿平行发展,自主绝对不会放弃但也要有备用计划。
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发表于 2020-02-16 00:17 | 显示全部楼层

RE: 中芯国际不用EUV光刻机、也能搞定7nm工艺?

1154214316 发表于 2020-2-16 00:09
我比较支持自主,但是也得考虑万一出状况的解决方案和备用方案,万一全国的高制程厂受到制裁问题可就不仅 ...

日本比荷兰更不自主。除非尼康或者佳能愿意把技术卖给我们。如果要自主就是我们自己研制,舍此别无他途。

但自己研制没有个10年甚至15年是搞不定的,暂时只能用国外的,所以只有运用技术以外的手段和资源让大家不对我们禁运,至少不完全禁运。

现在关键是要让所有人明白美国这个搞法并不是他的安全受到了威胁,而是权力游戏,这只有少数美国政客受益,其他人不论是哪里人只要他不是美国政治圈的都拿不到好处甚至会为此付出代价。从而取得大家的理解,大家自觉的不配合(顶多就是个阳奉阴违)美国政府的封锁。
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发表于 2020-02-16 00:25 | 显示全部楼层

RE: 中芯国际不用EUV光刻机、也能搞定7nm工艺?

1154214316 发表于 2020-2-16 00:09
我比较支持自主,但是也得考虑万一出状况的解决方案和备用方案,万一全国的高制程厂受到制裁问题可就不仅 ...

日本人的自主与美帝掌握没区别
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发表于 2020-02-16 06:56 | 显示全部楼层

RE: 中芯国际不用EUV光刻机、也能搞定7nm工艺?

A-SET 发表于 2020-2-16 00:25
日本人的自主与美帝掌握没区别

有区别,虽然美国人及其手下情报部门对日本的掌控大的惊人,但是前提是日本国会及党派 财阀利益不受大的影响尤其是财阀,日本老是配合美国人的主要原因还是国内经济发展我们逐渐从高科技产品倾销地转为竞争对手以及领土争端,你看最近日本国内舆论又有新变化,日本国会捐款给我们甚至唱义勇军进行曲支持我们,我们能争取财阀的支持,日本可真是会反抗的哦,东芝要不为什么买机床给苏联明显日本高层默许了,但是实力不行让美国人好一顿制裁。
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发表于 2020-02-16 06:58 | 显示全部楼层

RE: 中芯国际不用EUV光刻机、也能搞定7nm工艺?

fireeyes 发表于 2020-2-16 00:17
日本比荷兰更不自主。除非尼康或者佳能愿意把技术卖给我们。如果要自主就是我们自己研制,舍此别无他途。 ...

虽然想聊一聊但是一发这种就审核,但是euv没有美国人点头荷兰人是不敢卖了,
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