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CDer:000413886 楼主: havok
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SMEE 800系列光刻机图形用户界面

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CDer:001128160
发表于 2020-2-12 16:53 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

A-SET 发表于 2020-2-12 15:52
中国也可以从德国获得极紫外光源来着的 而且本子极紫外光源有关键器件供货是中国的...

超过50w以上的g光源,日德能给中国吗
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CDer:001086487
发表于 2020-2-12 17:21 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

havok 发表于 2020-2-12 16:00
一条国产设备消息:
2019年9月28日,中国电科集成电路成套装备国产化集成及验证平台建设项目厂房主体结构 ...

这个主要是验证什么
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CDer:000159547
发表于 2020-2-12 17:27 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

1764019380 发表于 2020-2-12 17:21
这个主要是验证什么

验证国产集成电路生产设备,但是不是含光刻机就不清楚了。不过最重要的,这是条军用线,你看到里面有军民融合之类字眼,就是产品是军队用,设备验证后可以投入民用。应该是这个意思吧。
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CDer:001112352
发表于 2020-2-12 17:28 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

fireeyes 发表于 2020-2-12 16:47
你这个完全是从你利益最优化的角度来看,但人家是从他的利益最优化来看,他的角度就是我已经搞定了一部分 ...

那就这么说吧 Gigaphoton的EUV世代产品关键器件有不少是中国供货的 而且其工业化生产的唯一能力也只在中国
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CDer:001112352
发表于 2020-2-12 17:29 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

fireeyes 发表于 2020-2-12 17:27
验证国产集成电路生产设备,但是不是含光刻机就不清楚了。不过最重要的,这是条军用线,你看到里面有军民 ...

就是那个KBBF晶体 Gigaphoton的EUV产品用了不少那些玩意制造的光学部件 而非线性光学材料与应用的领头羊都是咱们
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CDer:000413886
 楼主| 发表于 2020-2-12 17:38 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

1764019380 发表于 2020-2-12 17:21
这个主要是验证什么

离子注入机、平坦化装备(CMP)、电化学沉积设备(ECD)

国产集成电路制造企业用上“中国造”

  11月27日,从北京烁科中科信电子装备有限公司(以下简称“烁科中科信”)传来好消息:烁科中科信自主研发的离子注入机正在进入国内各大集成电路制造厂商,其中中束流离子注入机CI P900系列早已通过中芯国际产业化验证,为实现大批量应用打下坚实基础。截至目前,烁科中科信已拥有中束流离子注入机、大束流离子注入机、高能离子注入机和定制离子注入机四种产品,构建了较为系统的集成电路离子注入机谱系,2019年公司销售各型离子注入机达11台。

  离子注入机是将特定种类离子以指定参数(能量、流强、角度等)注入至特定材料中的一种设备。离子注入机是半导体尤其是集成电路的核心装备,执行的是核心的掺杂工艺。半导体要做成器件,要改变电性能,必须掺入杂质,离子注入机就是执行掺杂工艺的标准设备。每一个器件生产过程中,需要进行很多次离子注入,注入到器件不同的位置,注入的次数对于不同器件类型和工艺节点有差异,例如对于28nm逻辑器件,注入次数约为40次。

  “经过多年的技术积累,我们实现了离子注入机这一集成电路制造核心关键设备在28nm以上工艺领域的进口替代能力和自主可控,具备年产30台离子注入机的能力。”烁科中科信总经理舒勇东介绍说,研发的中束流离子注入机65-28nm工艺量产12英寸晶圆超过400万片,达到了国外同类型设备水平,产品已经批量进入市场。大束流离子注入机工艺覆盖至28nm,65-28nm工艺量产晶圆超过20万片,高能机预计2020年底进入客户端验证。定制离子注入机主要针对6英寸及以下市场,设备应用比较广泛,可根据客户具体需求定制。针对SiC市场,基于中束流离子注入机技术,推出SiC注入机并应用于客户端,适用晶圆尺寸为主流的4-6英寸。
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CDer:001112352
发表于 2020-2-12 17:47 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

havok 发表于 2020-2-12 17:38
离子注入机、平坦化装备(CMP)、电化学沉积设备(ECD)

国产集成电路制造企业用上“中国造”

涂胶显影设备也是一个痛点 比光刻机还落后一些
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CDer:001120943
发表于 2020-2-12 18:00 超大游击队员 | 显示全部楼层

Re.SMEE 800系列光刻机图形用户界面

EUV光刻机国家有规划,是2025规划的重点项目,中科院好几个单位都在公关。计划2030年搞出来。
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发表于 2020-2-12 18:23 超大游击队员 | 显示全部楼层
言谈者 发表于 2020-2-12 18:00
EUV光刻机国家有规划,是2025规划的重点项目,中科院好几个单位都在公关。计划2030年搞出来。

2030年花黄菜都凉了
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CDer:000413886
 楼主| 发表于 2020-2-12 19:01 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

A-SET 发表于 2020-2-12 17:28
那就这么说吧 Gigaphoton的EUV世代产品关键器件有不少是中国供货的 而且其工业化生产的唯一能力也只在中 ...

科益虹源领导说他们有到2030年的长远目标,要成为有国际话语权的专业光刻光源公司。这样看来他们目标不止仅做准分子光源,也许想做中国的Gigaphoton。
现在全国研究euv光源的力量太分散了,到时候完全可以把他们集中起来形成合力
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CDer:000279531
发表于 2020-2-12 19:39 | 显示全部楼层
https://www.dzwww.com/xinwen/guoneixinwen/201805/t20180503_17329498.htm
2018年3月,从事光刻机光源技术开发、承担国家02重大专项“准分子激光技术”的科益虹源,其技术刚刚获得芯片代工“行业老大”台积电的采购
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CDer:001112352
发表于 2020-2-12 20:05 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

havok 发表于 2020-2-12 19:01
科益虹源领导说他们有到2030年的长远目标,要成为有国际话语权的专业光刻光源公司。这样看来他们目标不止 ...

2030...哦 真的挺长期的目标...
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CDer:000926907
发表于 2020-2-12 20:13 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

urin1010 发表于 2020-2-11 23:28
ikon不是蔡司的品牌,zessi ikon才是蔡司的品牌。ikon实际上是几家德国公司合并后首字母的缩写,蔡司和他 ...

这个解释可信
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CDer:001137415
发表于 2020-2-12 22:07 超大游击队员 | 显示全部楼层
A-SET 发表于 2020-2-12 17:47
涂胶显影设备也是一个痛点 比光刻机还落后一些

确实涂胶只有55的还是65的来着,感觉光刻胶涂均匀竟然比cmp还难有点意外。我听说有的学校光刻胶直接用手涂,没想到高制程还挺难。
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CDer:001137415
发表于 2020-2-12 22:25 超大游击队员 | 显示全部楼层
havok 发表于 2020-2-12 19:01
科益虹源领导说他们有到2030年的长远目标,要成为有国际话语权的专业光刻光源公司。这样看来他们目标不止 ...

为了半导体设备,研究经费给够,补贴也给够,大基金也不计较得失的搞,只希望在十年之后不要再重导晋华 中兴的复折的屈辱。虽然感觉美国不会给咱们这么长时间,只要几年后晋华能量产就好。但是感觉除了设备高频电源 光罩 反应腔啥的水平还得练啊,零部件部分国产化率更低。
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CDer:000413886
 楼主| 发表于 2020-2-12 22:43 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

1154214316 发表于 2020-2-12 22:25
为了半导体设备,研究经费给够,补贴也给够,大基金也不计较得失的搞,只希望在十年之后不要再重导晋华  ...

这也就是为什么国家要投这么多钱建北京燕东国产线和我前面贴的那个长沙成套装备国产化集成及验证平台的原因,这两个项目非常重要但关注度比较低。你想一般哪个工厂愿意使用70%和100%的国产设备来生产半导体器件?这也只有国家力量才办得到。
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CDer:001137415
发表于 2020-2-12 22:58 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

havok 发表于 2020-2-12 22:43
这也就是为什么国家要投这么多钱建北京燕东国产线和我前面贴的那个长沙成套装备国产化集成及验证平台的原 ...

其实这俩关注度不算低了,其实还是制程低导致的,如果制程高得话关注度得超高。还有那些设备厂商挺怕制裁的,大家国产化率都不算很高,高制程设备能有百分之7 80国产化算是很不错了,这里弄不好还有百分之 4 50的,一制裁怕是搞不下去,反而是这台光刻机国产化率怕是得百分之8 90,我感觉得相当高。
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CDer:000229971
发表于 2020-2-13 12:40 | 显示全部楼层
半导体制造设备有一大堆尚未国产化的,但光刻机还是核心。主要是光刻机的研发难度和周期最长,如果现在开始均给予充分的资金和资源,其他设备或许2、3年,最多6、7年就能搞定,唯有光刻机(尤其是光源)可能要7、8年,甚至10年才能搞定,所以从进度看,光刻机是绝对的短板,会严重影响半导体设备自主化进程的。
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CDer:001112352
发表于 2020-2-13 12:44 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

1154214316 发表于 2020-2-12 22:58
其实这俩关注度不算低了,其实还是制程低导致的,如果制程高得话关注度得超高。还有那些设备厂商挺怕制裁 ...

放心 大家国产化水平都不高 真出事情总研发商肯定可以找到替换方案的
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CDer:001128160
发表于 2020-2-13 13:53 | 显示全部楼层
我们的光源是现有专利绕不过去,还是技术水平真的做不到实用化水平?
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CDer:001137415
发表于 2020-2-13 16:32 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

A-SET 发表于 2020-2-13 12:44
放心 大家国产化水平都不高 真出事情总研发商肯定可以找到替换方案的

最怕这里有美日垄断的零部件,之前忘了在哪里看到的,有个石磨盘我推测可能是cmp的研磨台之类的东西美日垄断,国内搞了好多年没搞定最怕的就是这种产品,不用他们的就没得选了,还是得低调等国内搞定了才放心。
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CDer:001112352
发表于 2020-2-13 17:29 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

1154214316 发表于 2020-2-13 16:32
最怕这里有美日垄断的零部件,之前忘了在哪里看到的,有个石磨盘我推测可能是cmp的研磨台之类的东西美日 ...

美国日本半导体装备也有中国关键部件 AMAT某个部件的关键供应商就在沈阳 而Gigaphoton的EUV光源的非线性光学器件唯一供应商就是TG某企业
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CDer:001112352
发表于 2020-2-13 17:31 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

1154214316 发表于 2020-2-13 16:32
最怕这里有美日垄断的零部件,之前忘了在哪里看到的,有个石磨盘我推测可能是cmp的研磨台之类的东西美日 ...

研磨抛光垫已经国产化了
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CDer:001137415
发表于 2020-2-13 18:05 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

A-SET 发表于 2020-2-13 17:31
研磨抛光垫已经国产化了

研磨台和抛光垫不是一个东西。主要是我有点忘了在哪里看到的不一定是研磨台。
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CDer:001137415
发表于 2020-2-13 18:07 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

A-SET 发表于 2020-2-13 17:29
美国日本半导体装备也有中国关键部件 AMAT某个部件的关键供应商就在沈阳 而Gigaphoton的EUV光源的非线性 ...

我很是感兴趣啊,能讲讲不还有没有其他的。
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CDer:001128160
发表于 2020-2-13 18:25 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

A-SET 发表于 2020-2-13 17:31
研磨抛光垫已经国产化了

超低膨胀系数的抛光盘,中国搞定了?
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CDer:000413886
 楼主| 发表于 2020-2-13 18:35 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

中微半导体拟在临港新片区建设高端半导体装备项目

2月12日,中微半导体设备(上海)股份有限公司发布公告称,拟与中国(上海)自由贸易试验区临港新片区管理委员会(以下简称“临港管委会”)签署《合作意向协议书》。
公告显示,中微半导体拟使用自有或自筹资金在中国(上海)自由贸易试验区临港新片区(以下简称“临港新片区”)建设高端半导体装备研发与产业化项目,项目名称和建设内容最终以相关政府主管机关的批准文件为准。
据披露,临港新片区设立于2019年8月份,临港管委会系上海市人民政府派出机构,统筹管理和协调临港新片区有关行政事务。
本次拟签署的《合作意向协议书》仅为框架性协议,截至本公告披露之日,双方暂未明确具体的合作方式及合作项目,不涉及具体金额,无需提交公司董事会或股东大会审议。
中微半导体表示,本次拟签署的合作意向协议,预计对公司2020年度的业绩不构成重大影响,对公司长期经营的影响需视后续具体业务的推进和实施情况而定;同时本次合作双方将充分发挥各自的资源优势推动双方在临港新片区的发展,符合公司长远规划,对公司未来主营业务的增长将产生积极影响。


看来中微想要冲击下世界半导体设备厂商15强了,这种项目肯定有助于提升产品的技术水平和国产化率,尹老曾透露中微刻蚀机的国产化率60%左右。
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CDer:001137415
发表于 2020-2-13 20:49 超大游击队员 | 显示全部楼层
havok 发表于 2020-2-13 18:35
中微半导体拟在临港新片区建设高端半导体装备项目

2月12日,中微半导体设备(上海)股份有限公司发布公 ...

下游零部件啊还是硬伤
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CDer:000336475
发表于 2020-2-13 23:53 | 显示全部楼层
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CDer:001112352
发表于 2020-2-14 02:19 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

jeciq 发表于 2020-2-13 23:53
https://www.nikonprecision.com/products-and-technology/immersion-and-multiple-patterning/nsr-s635e/
...

浸入式 193纳米的型号 不是双工件台 没了
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CDer:001086487
发表于 2020-2-14 07:41 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

havok 发表于 2020-2-13 18:35
中微半导体拟在临港新片区建设高端半导体装备项目

2月12日,中微半导体设备(上海)股份有限公司发布公 ...

刻蚀机的核心部件是什么
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CDer:000004901
发表于 2020-2-14 10:07 超大游击队员 | 显示全部楼层
jeciq 发表于 2020-2-13 23:53
https://www.nikonprecision.com/products-and-technology/immersion-and-multiple-patterning/nsr-s635e/
...

尼康的arfi可以多买点,虽然套刻精度差一点,但是价格只有asml的一半,而且零部件自给率很高,受美国影响相对较小
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CDer:001112352
发表于 2020-2-14 10:55 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

fq176 发表于 2020-2-14 10:07
尼康的arfi可以多买点,虽然套刻精度差一点,但是价格只有asml的一半,而且零部件自给率很高,受美国影响 ...

都没人要的玩意也不是自己的买这些玩意干啥? 尼康一季度一台都出不了货
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发表于 2020-2-14 14:27 超大游击队员 | 显示全部楼层
A-SET 发表于 2020-2-14 10:55
都没人要的玩意也不是自己的买这些玩意干啥? 尼康一季度一台都出不了货

谁说没人要,2017年华力还买过,asml的设备不让加工自主设计cpu,尼康的可以
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CDer:001112352
发表于 2020-2-14 14:50 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

fq176 发表于 2020-2-14 14:27
谁说没人要,2017年华力还买过,asml的设备不让加工自主设计cpu,尼康的可以

看了尼康的财报...
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CDer:000336475
发表于 2020-2-14 22:45 | 显示全部楼层
尼康的设备应该都出给日本国内了 sony应该最大客户
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CDer:000004901
发表于 2020-2-14 23:01 超大游击队员 | 显示全部楼层
jeciq 发表于 2020-2-14 22:45
尼康的设备应该都出给日本国内了 sony应该最大客户

铠侠是最大用户
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CDer:000076824
发表于 2020-2-14 23:47 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

surfman 发表于 2020-2-10 11:49
90nm据说是只是研制了样机,无法量产,因为核心部件禁运了。如果不禁运,也许可以少量进入国产芯片厂。19 ...

就是镜头。去年还是前年把90纳米的镜头搞出来了,不过有意思的是,本来下一步应该是65纳米,却跳过直接搞浸润式的28纳米,说明整机和镜头等分系统厂家都还是很有信心的,希望他们的信心不要是虚假的就好。
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CDer:000076824
发表于 2020-2-15 00:13 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

A-SET 发表于 2020-2-10 15:48
唉 太难了...没准我们DUVi出来后结果日本人搞出EUV让我们滚回第三名去了...

日本不是连浸润式的都没有么?
说实话现在看半导体继续提高制程的经济效益很有限了,摩尔定律失效了,先把duv浸润式全套设备材料搞定,国家安全肯定没问题,经济产业安全也解决一大半了。
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发表于 2020-2-15 11:19 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

jeciq 发表于 2020-2-14 22:45
尼康的设备应该都出给日本国内了 sony应该最大客户

我建议你看尼康财报...他们的深紫外光刻机一年就卖不出几台...
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