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CDer:000413886 楼主: havok
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SMEE 800系列光刻机图形用户界面

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发表于 2020-2-11 19:08 超大游击队员 | 显示全部楼层
cmgy 发表于 2020-2-7 22:17
都是被逼出来的,包括现在这个拥有联合国全部产业门类的头衔,其实想想,美帝带领全西方对我们的长期一贯 ...

我们敌人们属于吃打不记吃的类型,我就纳闷,他们没有发现凡是他们拼命封锁的领域,都被我们很快的突破并反过来好好的教训他们,远的不说,就说雷达,预警机就是如此,凡是对我们放开,能给现货,价格也好商量的,我们就发展不起来,典型就是民航大飞机,不管美国还是欧洲,我们要什么给什么,价格也好商量,服务也好,结果就是我们自己的民航飞机就发展不起来。
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发表于 2020-2-11 19:09 超大游击队员 | 显示全部楼层
zxd1981 发表于 2020-2-8 08:21
ArF加浸液系统加多重曝光,可以支持到7nm工艺,潜力是很大的

这个要靠厂家自己研发了,现在我们使劲从鬼岛,韩国挖人,就为了这个
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发表于 2020-2-11 19:14 超大游击队员 | 显示全部楼层
lizhiling 发表于 2020-2-8 14:43
这个有做10纳米的潜力吗?

可以做到7nm duv,就是现在手机旗舰sco用的,下一代基本就是euv,这个就做不了了
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发表于 2020-2-11 19:18 超大游击队员 | 显示全部楼层
白衫少年 发表于 2020-2-8 13:50
但是用euv的话效率是不是要比duv高很多,而且成本也更低?

正好相反,尤其成本,前几天有说法,制程继续发展,3nm,1nm能搞出来,但用不起
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发表于 2020-2-11 19:20 超大游击队员 | 显示全部楼层
贫道本是昆仑客 发表于 2020-2-9 17:31
上海微电坚持了这么多年,真不容易,之前一直在90纳米左右徘徊,如今堪称大跃进了。

国家重视了,投钱了,剩下的就好办很多了,这也是我们制度的优点
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发表于 2020-2-11 19:27 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

urin1010 发表于 2020-2-11 17:12
找日本,不如找德国,关键是他们会给你吗?日本的研究就是靠德国的。要合作只有找有能力的并且目前没有直 ...

这种东西不要指望任何人,顶多跟别人交流一下拓宽一下思路,有用的人可以挖一下,还是要自己搞。因为这在哪个国家都是最高科技了,别人不会给的。
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发表于 2020-2-11 19:28 超大游击队员 | 显示全部楼层
surfman 发表于 2020-2-10 16:02
ASML的EUV光刻机,也是在光源上卡了好几年,所以看起来光源是最难的。其他部件也要突破,但时间上可能会更 ...

高端芯片说实话应用范围不大,手机芯片可以说是最大的部分,其他的应用28nm都是奢侈的,尤其军用的45nm就足够足够了。别的不说,pc机的芯片现在主要是14nm,而且英特尔也不太想往更低制程发展,倒是AMD为了和英特尔竞争,用7nm,但性能什么的还不如英特尔
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CDer:000460126
发表于 2020-2-11 19:35 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

ryjgb 发表于 2020-2-11 19:14
可以做到7nm duv,就是现在手机旗舰sco用的,下一代基本就是euv,这个就做不了了

如果真能做到7NM的话,那足够未来5年的使用了.关键还是要国内厂要掌握好工艺才行啊.
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发表于 2020-2-11 19:43 超大游击队员 | 显示全部楼层
lizhiling 发表于 2020-2-11 19:35
如果真能做到7NM的话,那足够未来5年的使用了.关键还是要国内厂要掌握好工艺才行啊.

是的,光刻机给你了,但工艺是要你自己搞,我们最近这些年从鬼岛和韩国甚至日本挖了不少半导体行业人才,就是为了这个,中芯国际就是挖了一个鬼岛这方面的大拿,技术才突破的。本来中芯国际的意思是要跨越式发展,跨过10nm这一步,直接到7nm,并开始为以后的做准备,因此才购买euv光刻机,目前看有点难,至少会受到阻碍耽误时间。
实际上高制程应用的范围不大,主要是手机高端芯片用,连pc机芯片用14nm就足够了。
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CDer:000927657
发表于 2020-2-11 20:14 超大游击队员 | 显示全部楼层
为什么交互界面是纯英文的,谁开发的
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CDer:000037176
发表于 2020-2-11 20:58 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

ryjgb 发表于 2020-2-11 19:08
我们敌人们属于吃打不记吃的类型,我就纳闷,他们没有发现凡是他们拼命封锁的领域,都被我们很快的突破并 ...

不是发展不起来,而是慢一些,就好像通讯设备一样,开始中兴华为大唐那叫一个烂,只能当不入流的小角色,结果现在起来了,老美的看法就是反正你最后都会发展起来,我要保有优势,必须能打压就打压,特别是军事安全方面,卖产品的方式最好(比如客机),卖技术免谈。
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发表于 2020-2-11 21:01 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

中线小兵 发表于 2020-2-11 20:14
为什么交互界面是纯英文的,谁开发的

半导体行业都这样,英语是工作语言。反正国内搞半导体的都能熟练使用英语,搞一种统一文字的界面就行了,除非那一天世界上绝大多数科技文献都是以汉语的面目出现,外国人为了跟踪研究前沿科技必须学习汉语,才可能出现转机。
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发表于 2020-2-11 21:27 超大游击队员 | 显示全部楼层
cmgy 发表于 2020-2-11 20:58
不是发展不起来,而是慢一些,就好像通讯设备一样,开始中兴华为大唐那叫一个烂,只能当不入流的小角色, ...

问题是如果给我们,我们可能就有了依靠心理,就放慢发展脚步,可能就发展不起来,像民航飞机那种。你越封锁打压,我们早晚发展出来,然后再反手,整死你
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发表于 2020-2-11 21:41 超大游击队员 | 显示全部楼层
ryjgb 发表于 2020-2-11 19:09
这个要靠厂家自己研发了,现在我们使劲从鬼岛,韩国挖人,就为了这个

台湾和韩国设备真的不行,台湾干脆就没有什么像样的。咱们光刻机还是有点积累,差不多世界第三水平可以了。
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发表于 2020-2-11 21:47 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

1154214316 发表于 2020-2-11 21:41
台湾和韩国设备真的不行,台湾干脆就没有什么像样的。咱们光刻机还是有点积累,差不多世界第三水平可以了 ...


现在的问题是我们做芯片的人又太少,技术高手就更少,还不如台湾韩国。好象也没见哪个学校在这个专业上有什么名气,甚至有没有学校专门培养这个专业都不清楚,哪怕就是个技工学校。你应用的人不行,那做设备的就更不行了。这种世界第三比世界第一相差太远,除了安慰自己没什么用。
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发表于 2020-2-11 22:03 超大游击队员 | 显示全部楼层
ryjgb 发表于 2020-2-11 19:43
是的,光刻机给你了,但工艺是要你自己搞,我们最近这些年从鬼岛和韩国甚至日本挖了不少半导体行业人才, ...

其实这些14nm啊7nm啊就是个文字游戏.,把周期做小才是关键,一个芯片才能集成更多的晶体管。高制程下可不仅仅是光刻机难什么都很难,比如刻蚀精度刻蚀液和气体纯度高的可怕 cmp的平整度啊你为了光刻的精准度必须平导致抛光液都特别难以制造 还有离子注入的剂量和能量以及角度必须超级准确不然晶圆就废了一半等等,大家怎么都认为有光刻机就完事了呐,中芯根本不可能跨越式发展只能依托现有装备等国产设备发展共同发展。
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发表于 2020-2-11 22:09 超大游击队员 | 显示全部楼层
hbhsicbc 发表于 2020-2-7 18:57
好,好,好。能研制光刻机说明自动对焦镜头的精度,灵敏度非常高,有产能时顺便造几个自动相机镜头,不想再 ...

现在可以和日本合作,把东亚主导权拿回来。
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发表于 2020-2-11 22:17 超大游击队员 | 显示全部楼层
fireeyes 发表于 2020-2-11 21:47
现在的问题是我们做芯片的人又太少,技术高手就更少,还不如台湾韩国。好象也没见哪个学校在这个专业上 ...

我说的是设备啊不是生产。还有生产芯片这东西需要的不是大量的操作工(熟练的是需要的但是不需要这么多)而是头部专家,对各项设备参数性能和需要的环境出现的问题非常了解和解决的专家,大部分生产人员只能解决单一设备的简单问题,其实大部分都解决不了就直接找厂家了,他们连参数都有可能接触不到。还有中科院微电子所挺强啊,大部分学校没有产线毕业了都没流过片其实都是企业培养的。我们只要设备厂商起来了,国内维持一个不弱的半导体厂不难,毕竟我们要对抗美国及其附属。不要这么灰心战略角度来讲我感觉设备比生产重要的多最多良率不行。
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发表于 2020-2-11 22:23 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

1154214316 发表于 2020-2-11 22:17
我说的是设备啊不是生产。还有生产芯片这东西需要的不是大量的操作工(熟练的是需要的但是不需要这么多)而 ...

根据客观规律你首先是应用强才能设备跟着做强,光伏、液晶无不如此。这两个算是简单的半导体,光伏已经做到世界一半多,设备也大多完成国产化还出口。液晶刚做到全球第一,但设备还要大量进口,不过国产化设备已经进入低端的产品线。如果我们的芯片生产这块不强起来,设备是永远没有希望的。

当然在现在美国打压的情况下未雨绸缪把设备这块同步进行是应该的,但是现在的重点真的是制造这一块,尤其是人材的培养。
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发表于 2020-2-11 22:26 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

1154214316 发表于 2020-2-11 21:41
台湾和韩国设备真的不行,台湾干脆就没有什么像样的。咱们光刻机还是有点积累,差不多世界第三水平可以了 ...

世界第二水平 中国的这个是浸入式双工件台深紫外光刻机 曝光线宽可以到11纳米 胜过日本货不少了
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发表于 2020-2-11 22:36 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

fireeyes 发表于 2020-2-11 22:23
根据客观规律你首先是应用强才能设备跟着做强,光伏、液晶无不如此。这两个算是简单的半导体,光伏已经做 ...

头部专家我们已经有了,要不中芯和华虹不能一前一后量产14nm。但是因为短期无论是自主还是外购先进euv都得不到只能先搞搞实验室理论和产品,本就落后的产业雪上加霜,想追一追等国产设备或者美国松口吧。还有你不会真以为我们的设备是生产厂商拱起来的吧,他们买的那点量根本不够研发国内高制程厂基本都是几台几台买,其实全是补贴 专项基金和大基金供养起来的,我们到最后还真有可能就卡7nm了然后等国产设备追上再研发,然后把补贴生产厂的钱全都给设备厂。要不就换思路但是希望不大,有点无奈了,说实话重点真的该是设备厂因为这是没办法的的办法。
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发表于 2020-2-11 22:44 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

A-SET 发表于 2020-2-11 22:26
世界第二水平 中国的这个是浸入式双工件台深紫外光刻机 曝光线宽可以到11纳米 胜过日本货不少了

我主要算的是量产的,咱们这个怕是还得很多年。
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发表于 2020-2-11 23:24 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

1154214316 发表于 2020-2-11 22:44
我主要算的是量产的,咱们这个怕是还得很多年。

肯定不要很久的 今年就下线 预计量产也就三五年的事情
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发表于 2020-2-11 23:28 超大游击队员 | 显示全部楼层
破网 发表于 2020-2-11 17:20
尼康Nikon是Nippon的ikon,ikon是德国蔡司的品牌。

ikon不是蔡司的品牌,zessi ikon才是蔡司的品牌。ikon实际上是几家德国公司合并后首字母的缩写,蔡司和他们抱团就是为了一个对手莱兹相机-也就是徕卡。尼康原名日本光学-nippon kogaku k.k,起家就是靠挖了八个蔡司的工程师,山寨蔡司伊康的相机,连品牌都山寨了。宾得的品牌也是从东德kw公司(后来的潘太康,从前的蔡司伊康德累斯顿总厂)买来的。
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发表于 2020-2-12 00:08 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

1154214316 发表于 2020-2-11 22:36
头部专家我们已经有了,要不中芯和华虹不能一前一后量产14nm。但是因为短期无论是自主还是外购先进euv都 ...

首先,无论是中芯还是华虹都不能算真正量产。因为他这个试产的产品是没有上市的,没有经过市场的考核。所以这个14NM的工艺是不是不同公司的各门各类的14NM芯片都能生产,性能到底如何现在还是个未知数。只有在他们的产品搭载手机、电脑等等上市以后客户反馈才能确定。或者说至少要等到2021年以后。

第二,ASML和台积电及三星之间的关系不是简单的厂家和客户的关系,后两者深度参与了光刻机的研制,或者说光刻机的整个设计与他们两的工艺是相互配套的。而我们现在这种研究所、大学的做法跟实际生产脱节,走不长远。还是得实际靠这个赚钱的人来研究。

第三,钱当然重要,但这行最重要的是人。我们都没有培养出足够的人,不管是生产还是研制,也不论是设备还是工艺,这是我们这一块落后的根本原因。90年代个人电脑兴起的时候我们就没有想过自己要做芯片、板卡,只是简单的组装。一般来说1万个熟手里头能出几个牛人,但是问题是我们熟手都不多。
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发表于 2020-2-12 09:16 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

fireeyes 发表于 2020-2-12 00:08
首先,无论是中芯还是华虹都不能算真正量产。因为他这个试产的产品是没有上市的,没有经过市场的考核。所 ...

都是finfet有什么做不了的最多换光罩,参数再做调整呗。像咱们接受的都是落后工艺,大厂早就玩透了玩够了,性能就是晶体管密度这玩意应该和台积电差不多毕竟梁孟松主导的。半导体厂需要搞的是良率,我们需要的就是维持良率人才,高制程我们早就在实验室实现了你可以百度一下中科院的3nm晶体管。还有大部分的工艺大佬都是高学历或者研究所培养的然后因为学历高又有研发经验参加了企业的先进研发因为经验丰富根本不是你说的熟手培养模式,你怎么老把这个行业当成一般制造业那就是一般制造业普工也无法参加研发啊,半导体厂一线员工主要还是操作机器维持维护,因为设备核心工艺都是设备厂家的你什么也接触不到最多处理日常异常,大佬们都在劝退你只有接触工艺才算研发好吧,学历不是博士你又不能主导你就想吧。
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发表于 2020-2-12 10:41 超大游击队员 | 显示全部楼层
1154214316 发表于 2020-2-11 21:41
台湾和韩国设备真的不行,台湾干脆就没有什么像样的。咱们光刻机还是有点积累,差不多世界第三水平可以了 ...

我说的是人
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 楼主| 发表于 2020-2-12 11:36 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

本帖最后由 havok 于 2020-2-12 11:42 编辑
1154214316 发表于 2020-2-11 22:44
我主要算的是量产的,咱们这个怕是还得很多年。


小规模量产大概2022年,主要看几个子系统厂商的建设情况,到今年底华卓和启尔应该就已具备初步的量产能力了。记得某位smee大佬采访时说他们内部没有做样机的概念,因为光刻机都价值不菲所以他们把样机都当商品机来做的,他们做的每一台都是商品机。言下之意他们样机也可以卖的。
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发表于 2020-2-12 12:09 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

havok 发表于 2020-2-12 11:36
小规模量产大概2022年,主要看几个子系统厂商的建设情况,到今年底华卓和启尔应该就已具备初步的量产能 ...

国产极紫外光刻机要是可以外购光源可以快一点出产品吗?
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 楼主| 发表于 2020-2-12 12:23 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

A-SET 发表于 2020-2-12 12:09
国产极紫外光刻机要是可以外购光源可以快一点出产品吗?

外购肯定比自研要快,euv是完全自研还是与国外合作我也不知道。但这东西的关键设备要是与国外合作不确定性就太大了。当年最早的ssa600就是因为买国外的镜头曝光系统被美国卡了导致只做了一台就没下文了
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发表于 2020-2-12 12:23 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

A-SET 发表于 2020-2-12 12:09
国产极紫外光刻机要是可以外购光源可以快一点出产品吗?

不可以,这种光源在全世界都是顶尖科技,而且掌握在美国手里,人家的压箱底不会卖给你的。
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发表于 2020-2-12 12:24 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

fireeyes 发表于 2020-2-12 12:23
不可以,这种光源在全世界都是顶尖科技,而且掌握在美国手里,人家的压箱底不会卖给你的。

日本与德国有啊
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发表于 2020-2-12 12:34 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

A-SET 发表于 2020-2-12 12:09
国产极紫外光刻机要是可以外购光源可以快一点出产品吗?

当年也是这么想的,所以被卡的很惨。这东西还是自己来靠谱,这年头老美啥缺德事儿都干的出来了,趁你病要你命。
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发表于 2020-2-12 12:43 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

A-SET 发表于 2020-2-12 12:24
日本与德国有啊

那不跟在美国手里一样,这种东西对于任何一个国家来说都是顶尖科技,就算没有美国,但人家也一样有理想,他会想我已经把这个搞出来了再努把力就把最先进的光刻机搞出来了,为什么要便宜你个中国佬。
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发表于 2020-2-12 12:54 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

胖安达 发表于 2020-2-12 12:34
当年也是这么想的,所以被卡的很惨。这东西还是自己来靠谱,这年头老美啥缺德事儿都干的出来了,趁你病要 ...

这个吗...咱们可以靠提供日本没有的磁悬浮超精密双工件台与超精密光栅测量仪来相互捆绑啊
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发表于 2020-2-12 12:55 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

fireeyes 发表于 2020-2-12 12:43
那不跟在美国手里一样,这种东西对于任何一个国家来说都是顶尖科技,就算没有美国,但人家也一样有理想, ...

不好说 日本人在超精密磁悬浮双工件台与光栅测量仪没搞定但是我们正好搞定了这两个啊
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发表于 2020-2-12 15:14 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

A-SET 发表于 2020-2-12 12:55
不好说 日本人在超精密磁悬浮双工件台与光栅测量仪没搞定但是我们正好搞定了这两个啊


交易不对等,日本能从其他国家获得工件台,中国只能与日本合作。合作中我们处于被动。日本学会了工件台,回头就能把我们甩了
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发表于 2020-2-12 15:52 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

生者为过客 发表于 2020-2-12 15:14
交易不对等,日本能从其他国家获得工件台,中国只能与日本合作。合作中我们处于被动。日本学会了工件台 ...

中国也可以从德国获得极紫外光源来着的 而且本子极紫外光源有关键器件供货是中国的...
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 楼主| 发表于 2020-2-12 16:00 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

一条国产设备消息:
2019年9月28日,中国电科集成电路成套装备国产化集成及验证平台建设项目厂房主体结构封顶仪式隆重举行。
微信图片_20200212151612.jpg
微信图片_20200212151547.jpg
中电科项目为高新区2019年重点建设项目之一,是致力于解决集成电路关键装备受制于人、“卡脖子”问题,建设8英寸集成电路装备验证工艺线、带动国产装备研发、成体系成建制打造国产设备的重要项目。该项目是国内第一条集成电路装备验证工艺线,其建成将有效推进高新区军民融合产业的快速发展,促进该领域关键核心技术自主可控发展。其位于高新区麓延路西路北侧、雷高路东侧约200米,总占地面积183亩,总建筑面积12.7万平方米,总投资25亿元。其中,厂房建设部分2019年度预估投资3亿元。自2019年4月15日该项目厂房启动建设以来,集团上下统筹调度,精心铺排,在参建各方的协力推动下,经过5个多月的努力,保质保量完成主体结构封顶。10月份起,项目将进入装饰装修工程等施工,预计2020年6月可完成安装调试,2020年11月实现整线试生产。
166.jpg
中电科集成电路成套装备国产化集成及验证平台项目效果图
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发表于 2020-2-12 16:47 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

A-SET 发表于 2020-2-12 12:55
不好说 日本人在超精密磁悬浮双工件台与光栅测量仪没搞定但是我们正好搞定了这两个啊

你这个完全是从你利益最优化的角度来看,但人家是从他的利益最优化来看,他的角度就是我已经搞定了一部分再努把力就能做到世界第二了,为什么要便宜你?

除非是我们把光源搞定了,最好是刚搞出来还不行的时候人家就大卖,封杀你又能赚钱,这才是他的利益最优化。
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