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CDer:000413886 楼主: havok
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SMEE 800系列光刻机图形用户界面

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发表于 2020-2-9 14:14 超大游击队员 | 显示全部楼层
fireeyes 发表于 2020-2-9 13:22
谢谢。那2000I和3400B之间有什么区别呢,要这么说的话2000I也可以做5NM的芯片了,3400B有什么优势。

nxt2000I只能做到7nm,其出光精度也就是原始分辨率只有小于38nm,而nxe3400b是目前最主流的量产euv型号,分辨率是小于13nm。nxe3300-3400c分辨率没有变化,区别在于效率,越高型号效率越高。
另外arf光源湿式曝光和euv是差一代(中间型号实际上都是同代不同优化产品),也就是这台smee800和asml差一代。此研发型号,就相对于nxt的二阶型号,已经超过尼康最高级量产型号了,二者分辨率和实际工程应用是同级的,而尼康是倒现在都没搞定双工作台。而asml之前超越尼康就是依靠twinscan,也就是双工作台机制。作为尼康机台的供应商富士,是搞了那么多年都没搞定。
富士本身就是半导体设备大厂,主要业务是封装机和贴片机,这块富士和京瓷代表日本获得全球最大份额。
www.fuji.co.jp。由于日本叫富士的企业实在太多,为了区分,个人贴了他们的官网。另外这家公司在70年代还引进过中国的等离子刻蚀机。这块中国是在东德的帮助下实现。
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CDer:001112352
发表于 2020-2-9 15:49 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

havok 发表于 2020-2-9 11:19
ASML旗下套刻精度(overlay)最高的产品:NXT:2000i,达到了和3400B一样的1.9nm(5nm要求至少2.4nm,7nm要 ...

那个双工件台好像是1.9纳米的精度来着
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CDer:000413886
 楼主| 发表于 2020-2-9 17:19 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

A-SET 发表于 2020-2-9 15:49
那个双工件台好像是1.9纳米的精度来着

量产型的双工件台比最早的原型机性能有大幅的提升
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CDer:000818220
发表于 2020-2-9 17:31 超大游击队员 | 显示全部楼层
上海微电坚持了这么多年,真不容易,之前一直在90纳米左右徘徊,如今堪称大跃进了。
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CDer:000807661
发表于 2020-2-9 21:58 超大游击队员 | 显示全部楼层
bloodsquare 发表于 2020-2-8 20:06
传统镜头对焦马达也没问题啊,比如松下的反差对焦系统配合高刷新率镜头,单次对焦就非常快又准。

松下的東西比較少注意。印象中鏡身馬達很吵。
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CDer:000159547
发表于 2020-2-9 22:43 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

urin1010 发表于 2020-2-9 14:14
nxt2000I只能做到7nm,其出光精度也就是原始分辨率只有小于38nm,而nxe3400b是目前最主流的量产euv型号, ...

那我们这台SMEE800有具体点的性能参数吗。比如分辨率什么的。
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CDer:000336475
发表于 2020-2-9 22:52 | 显示全部楼层
90nm吃透了吗 90nm都没人用 28nm整出来也是摆设
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发表于 2020-2-10 07:56 超大游击队员 | 显示全部楼层
fireeyes 发表于 2020-2-9 22:43
那我们这台SMEE800有具体点的性能参数吗。比如分辨率什么的。

如果这台能做28nm,那么他的分辨率起码和asml的nxt是一样的。
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发表于 2020-2-10 07:58 超大游击队员 | 显示全部楼层
jeciq 发表于 2020-2-9 22:52
90nm吃透了吗 90nm都没人用 28nm整出来也是摆设

你以为做这玩意只是市场考量?太幼稚了。
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CDer:000229971
发表于 2020-2-10 11:49 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

jeciq 发表于 2020-2-9 22:52
90nm吃透了吗 90nm都没人用 28nm整出来也是摆设

90nm据说是只是研制了样机,无法量产,因为核心部件禁运了。如果不禁运,也许可以少量进入国产芯片厂。193 ArF如果搞定,应该不会是摆设,一方面可以覆盖从28nm到7nm工艺,另一方面在目前形势下,国内有足够的需求和国家支持。SMEE加油!

担心的是EUV,不是整机厂能搞定的,其中光源看来是个大问题。是不是考虑和俄罗斯合作研发光源?老毛子在这方面功底还是挺强的,缺的是钱。
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CDer:001112352
发表于 2020-2-10 11:52 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

surfman 发表于 2020-2-10 11:49
90nm据说是只是研制了样机,无法量产,因为核心部件禁运了。如果不禁运,也许可以少量进入国产芯片厂。19 ...

做什么梦呢?我搜索了EUV相关论文毛子的就没几篇 去找日本人PY不好吗?Gigaphoton有现成的!
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CDer:001112352
发表于 2020-2-10 11:53 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

fireeyes 发表于 2020-2-9 22:43
那我们这台SMEE800有具体点的性能参数吗。比如分辨率什么的。

线宽达到了11纳米
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CDer:001038011
发表于 2020-2-10 12:51 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

surfman 发表于 2020-2-10 11:49
90nm据说是只是研制了样机,无法量产,因为核心部件禁运了。如果不禁运,也许可以少量进入国产芯片厂。19 ...


刚看到了另一个帖子,广智院启动了光源项目基础研究,要使用时空多路光纤激光取代CO2激光作为驱动源激发液滴锡靶产生极紫外辐射,不知道啥时候能搞出来

https://lt.cjdby.net/forum.php?mod=viewthread&tid=2610522&extra=page%3D1
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CDer:000229971
发表于 2020-2-10 14:08 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

A-SET 发表于 2020-2-10 11:52
做什么梦呢?我搜索了EUV相关论文毛子的就没几篇 去找日本人PY不好吗?Gigaphoton有现成的!

没有投入当然不会有论文,但俄罗斯理论人才底子很厚,可以利用。当然我只是个想法而已,是否符合实际不必太在意。Gigaphoton虽然现在还未能达到EUV光刻机的实用要求,但比中国还是强,只是日本也属于西方阵营,也是瓦森纳协议签约国,没法合作。
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发表于 2020-2-10 14:45 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

白衫少年 发表于 2020-2-10 12:51
刚看到了另一个帖子,广智院启动了光源项目基础研究,要使用时空多路光纤激光取代CO2激光作为驱动源激 ...

这个好!

但项目刚启动,要从原理验证开始,到真正的样机,再到商用,快的话恐怕也要6、7年吧?希望成功,并替代CO2方案,走出真正的中国自主技术的EUV光刻机的道路。
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CDer:000159547
发表于 2020-2-10 14:55 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

白衫少年 发表于 2020-2-10 12:51
刚看到了另一个帖子,广智院启动了光源项目基础研究,要使用时空多路光纤激光取代CO2激光作为驱动源激 ...

这个时候才开始没有个十几二十年那是达不到实用状态的。当然喽,做总比不做好。
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CDer:001112352
发表于 2020-2-10 14:58 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

surfman 发表于 2020-2-10 14:08
没有投入当然不会有论文,但俄罗斯理论人才底子很厚,可以利用。当然我只是个想法而已,是否符合实际不必 ...

你找一亿人 十分之一科研投入的俄罗斯要丰富积累?
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CDer:001128160
发表于 2020-2-10 15:07 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

surfman 发表于 2020-2-10 14:08
没有投入当然不会有论文,但俄罗斯理论人才底子很厚,可以利用。当然我只是个想法而已,是否符合实际不必 ...

冷战结束时期,毛子理论功底可能很雄厚,毕竟极紫外光刻是毛子提出来的,磁流体抛光也是毛子搞的,但现在毛子有两把刷子的都移民了,留在国内的也没有足够的科研经费,人才和技术也断档了。
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CDer:000159547
发表于 2020-2-10 15:28 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

生者为过客 发表于 2020-2-10 15:07
冷战结束时期,毛子理论功底可能很雄厚,毕竟极紫外光刻是毛子提出来的,磁流体抛光也是毛子搞的,但现在 ...

我们发展太快了,毛子解体那会我们还在用蒸汽机车,有线电话才刚开始普及,根本没想到会在30年后就会需要这种东西。
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 楼主| 发表于 2020-2-10 15:43 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

surfman 发表于 2020-2-10 14:45
这个好!

但项目刚启动,要从原理验证开始,到真正的样机,再到商用,快的话恐怕也要6、7年吧?希望成 ...

不止是光源哦还有反射镜、EUV光刻胶、光刻环境控制等等,需要攻关的东西太多了。而且smee也需要扩充自己的研发人员和研发基地增强自己的产线规模,看smee以前的专利很少有涉及EUV光刻的,说明smee还没有正式开始研发EUV光刻机。
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发表于 2020-2-10 15:48 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

havok 发表于 2020-2-10 15:43
不止是光源哦还有反射镜、EUV光刻胶、光刻环境控制等等,需要攻关的东西太多了。而且smee也需要扩充自己 ...

唉 太难了...没准我们DUVi出来后结果日本人搞出EUV让我们滚回第三名去了...
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CDer:000829992
发表于 2020-2-10 15:54 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

havok 发表于 2020-2-10 15:43
不止是光源哦还有反射镜、EUV光刻胶、光刻环境控制等等,需要攻关的东西太多了。而且smee也需要扩充自己 ...

去年北京燕东的新闻稿提到90nm前道光刻机的应用,这是指验证SMEE的SSA600/20还是燕东自己要干光刻机?

http://gzw.beijing.gov.cn/yggq/qydt/201910/t20191024_449060.html
...
燕东公司90nm前道光刻机及国产关键装备验证与应用工程项目通过02专项答辩
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CDer:000829992
发表于 2020-2-10 15:56 | 显示全部楼层
这首台90nm光刻机到底运到哪去?
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CDer:000229971
发表于 2020-2-10 16:02 | 显示全部楼层
ASML的EUV光刻机,也是在光源上卡了好几年,所以看起来光源是最难的。其他部件也要突破,但时间上可能会更快一点。

虽然能保证2030年国产EUV商用就不错了,但十年实在有点久,高端芯片严重受限,随时可能扑街。没办法,这十年可能只能忍了。
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 楼主| 发表于 2020-2-10 16:04 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

A-SET 发表于 2020-2-10 15:48
唉 太难了...没准我们DUVi出来后结果日本人搞出EUV让我们滚回第三名去了...

日本要搞EUV估计双工件台和反射镜等关键设备也需要外购,以前的光刻老大尼康跌落神坛后好像也没太多动力了 反正他老大也当过了,我们和他们不一样我们是被逼的不得不搞 动力更足些
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 楼主| 发表于 2020-2-10 16:14 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

statuepeace24 发表于 2020-2-10 15:54
去年北京燕东的新闻稿提到90nm前道光刻机的应用,这是指验证SMEE的SSA600/20还是燕东自己要干光刻机?

...

燕东怎么可能自己搞光刻机,这大概率是SMEE的SSA600 如果是真的绝对是好消息!
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 楼主| 发表于 2020-2-10 16:39 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

surfman 发表于 2020-2-10 16:02
ASML的EUV光刻机,也是在光源上卡了好几年,所以看起来光源是最难的。其他部件也要突破,但时间上可能会更 ...

其实也就手机芯片需要高制程,其他的CPU芯片等根本没必要做这么小,intel的14nmCPU芯片不是也挺香的
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发表于 2020-2-10 19:21 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

havok 发表于 2020-2-10 16:14
燕东怎么可能自己搞光刻机,这大概率是SMEE的SSA600 如果是真的绝对是好消息!

不是说燕东是有一条线测试国产设备吗
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 楼主| 发表于 2020-2-10 20:54 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

1764019380 发表于 2020-2-10 19:21
不是说燕东是有一条线测试国产设备吗

是啊,已经造好了
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发表于 2020-2-10 21:14 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

surfman 发表于 2020-2-10 11:49
90nm据说是只是研制了样机,无法量产,因为核心部件禁运了。如果不禁运,也许可以少量进入国产芯片厂。19 ...

请问具体是什么核心部件被禁运了呢?
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发表于 2020-2-10 22:29 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

havok 发表于 2020-2-10 20:54
是啊,已经造好了

现在这条国产线全线打通了吗,利用率和产能如何?
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发表于 2020-2-10 23:12 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

qtn 发表于 2020-2-10 21:14
请问具体是什么核心部件被禁运了呢?

之前网上有人说是光源和光学系统,没提到工件台。这个没有官方消息,不知道是否确实?
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CDer:001155804
发表于 2020-2-11 10:13 | 显示全部楼层
样机离实用还有多远?一年够吗?
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发表于 2020-2-11 10:27 超大游击队员 | 显示全部楼层
生者为过客 发表于 2020-2-10 15:07
冷战结束时期,毛子理论功底可能很雄厚,毕竟极紫外光刻是毛子提出来的,磁流体抛光也是毛子搞的,但现在 ...

可以找俄国人,euv工程基础是俄国人在70年代最先搞出来的准分子激光器。euv概念日本人提的,工程实现是德国和荷兰的。
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发表于 2020-2-11 10:30 超大游击队员 | 显示全部楼层
A-SET 发表于 2020-2-10 15:48
唉 太难了...没准我们DUVi出来后结果日本人搞出EUV让我们滚回第三名去了...

日本人搞不出来。镜头卡死了他们。双工作台也至今不会。
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发表于 2020-2-11 10:33 超大游击队员 | 显示全部楼层
surfman 发表于 2020-2-10 23:12
之前网上有人说是光源和光学系统,没提到工件台。这个没有官方消息,不知道是否确实?

假设卡,那么能卡的只有干涉仪。这块是美国货架商品,hp的看家本领之一,如今叫keysight品牌。
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 楼主| 发表于 2020-2-11 10:45 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

fireeyes 发表于 2020-2-10 22:29
现在这条国产线全线打通了吗,利用率和产能如何?

今年 1 季度就可以实现量产,不清楚他们用的是哪家的光刻机,用国产光刻机可能性比较大
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CDer:001137415
发表于 2020-2-11 10:45 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

havok 发表于 2020-2-10 16:04
日本要搞EUV估计双工件台和反射镜等关键设备也需要外购,以前的光刻老大尼康跌落神坛后好像也没太多动力 ...

估摸着光源也得外购,这些大厂的要求的功率和稳定性出光难度太高,不下点血本最多研发点实验室的东西.asml当时差点没顶住。还有收集镜之类的难度超高的光学装置(收集率超高)日本的厂子没啥压力估摸着也没有动力搞这些,最多就是个外购。
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 楼主| 发表于 2020-2-11 10:46 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

Guigui123 发表于 2020-2-11 10:13
样机离实用还有多远?一年够吗?

样机到小规模量产大概1,2年
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发表于 2020-2-11 10:48 | 显示全部楼层

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urin1010 发表于 2020-2-11 10:33
假设卡,那么能卡的只有干涉仪。这块是美国货架商品,hp的看家本领之一,如今叫keysight品牌。

超精密干涉仪是国产的 专项有
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