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CDer:000413886 楼主: havok
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SMEE 800系列光刻机图形用户界面

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CDer:001038011
发表于 2020-2-8 13:50 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

zxd1981 发表于 2020-2-8 08:21
ArF加浸液系统加多重曝光,可以支持到7nm工艺,潜力是很大的

但是用euv的话效率是不是要比duv高很多,而且成本也更低?
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CDer:000423848
发表于 2020-2-8 13:55 超大游击队员 | 显示全部楼层
白衫少年 发表于 2020-2-8 13:48
长阳科技能否生产这种镀膜?

所谓“镀膜”是一种技术能力,而不是特指产品。

大家都会画画,用的工具也一样。

然而唐伯虎可以画 百鸟朝凤,而我只能画小鸡吃米。
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CDer:001153701
发表于 2020-2-8 14:10 | 显示全部楼层
我是外行,就想知道技术比起asml差多少年
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发表于 2020-2-8 14:16 超大游击队员 | 显示全部楼层
challenger2000 发表于 2020-2-8 14:10
我是外行,就想知道技术比起asml差多少年

不说差多少年,只说具体光源对应类型。如果这套沉浸式曝光系统正式投产和asml差一代,已经反超尼康最高阶量产型号。
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CDer:000460126
发表于 2020-2-8 14:43 超大游击队员 | 显示全部楼层
这个有做10纳米的潜力吗?
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CDer:000460126
发表于 2020-2-8 14:45 超大游击队员 | 显示全部楼层
hbhsicbc 发表于 2020-2-7 18:57
好,好,好。能研制光刻机说明自动对焦镜头的精度,灵敏度非常高,有产能时顺便造几个自动相机镜头,不想再 ...

日本相机镜头好,为啥向荷兰光刻机没有日本镜头?
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CDer:000460126
发表于 2020-2-8 14:49 超大游击队员 | 显示全部楼层
为什么不用中文界面?
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CDer:000807661
发表于 2020-2-8 15:00 超大游击队员 | 显示全部楼层
本帖最后由 tp040906 于 2020-2-8 15:08 编辑
bloodsquare 发表于 2020-2-8 12:10
说的其实是对焦马达,镜片国产没什么问题,镀膜可能差点


超音波那個是不是專利的問題?所以才會一直用的傳統馬達。
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CDer:000458061
发表于 2020-2-8 15:03 超大游击队员 | 显示全部楼层
lizhiling 发表于 2020-2-8 14:45
日本相机镜头好,为啥向荷兰光刻机没有日本镜头?

欧洲有德国的蔡司公司。
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发表于 2020-2-8 15:38 超大游击队员 | 显示全部楼层
liuchaojiann 发表于 2020-2-8 15:03
欧洲有德国的蔡司公司。

欧洲有一堆光学公司,不止蔡司一家。蔡司是其中水平最高的,其他几家水平也不低。比如徕卡,其拆分出的徕卡微系统公司和奥地利微电子公司联手开发的无掩膜曝光机。施耐德,另一家德国老牌光学,工业镜头里具有非常强的竞争力(收购自东德潘太康集团)。耶拿光学,从前东德卡尔蔡司耶拿改组后成立,全球激光巨头,euv光源原始方案供应商之一。法国jobin-y-von,全球光栅一哥,光栅是光栅尺的核心部件,光栅尺是数控机床精度测量工具,关系到整个机床的精度。
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CDer:000037176
发表于 2020-2-8 16:14 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

lizhiling 发表于 2020-2-8 14:45
日本相机镜头好,为啥向荷兰光刻机没有日本镜头?

因为日本人成本控制好,花同样的钱它能拿出最好的性能,但如果不在乎钱的问题,仅就能拿出的最高性能而言,荷兰光刻机的性能就远超日本了。
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CDer:000037176
发表于 2020-2-8 16:16 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

lizhiling 发表于 2020-2-8 14:49
为什么不用中文界面?

这就跟为什么SCI文章都用英文一个道理,英文就是事实上的标准语言。
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CDer:000082226
发表于 2020-2-8 16:23 | 显示全部楼层
用英文界面有啥奇怪的,难道SMEE只为中国提供产品?不用对外开拓市场吗?我还想着有一天能在国际市场上把阿斯麦打趴下,省的人家动不动拿这个卡脖子。
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CDer:000159547
发表于 2020-2-8 17:36 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

challenger2000 发表于 2020-2-8 14:10
我是外行,就想知道技术比起asml差多少年


差4代,90、65、DUV(28)、EUV(7、5),我们现在完全国产的,已经上线的是90NM,严格的说是上线考核,还没有真正成熟,ASML已经是EUV,台积电已经用他试产5NM了。
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CDer:000252200
发表于 2020-2-8 17:45 | 显示全部楼层
"日本相机镜头好,为啥向荷兰光刻机没有日本镜头?"

远不及哈苏的 。 三到四年之前大疆入股了哈苏, 但花了多少钱买了多少股份不对外公布。  国人环视很识货的。  
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CDer:000423848
发表于 2020-2-8 18:09 超大游击队员 | 显示全部楼层
本帖最后由 momoranshi 于 2020-2-8 18:29 编辑
洪堡骑士 发表于 2020-2-8 17:45
"日本相机镜头好,为啥向荷兰光刻机没有日本镜头?"

远不及哈苏的 。 三到四年之前大疆入股了哈苏, 但 ...


哈苏相机早就不行了,最后孤注一掷的小型中画幅 暴死。

啃502、503的老本太久,后来机身靠买富士的645这种公版技术,哈苏现在就一个贴牌公司。

欧厂现在是 飞思一统江湖,除了卖机器还卖软件。

不管是日厂相机还是欧厂相机都要靠飞思的软件
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发表于 2020-2-8 18:20 超大游击队员 | 显示全部楼层
洪堡骑士 发表于 2020-2-8 17:45
"日本相机镜头好,为啥向荷兰光刻机没有日本镜头?"

远不及哈苏的 。 三到四年之前大疆入股了哈苏, 但 ...

实际上哈苏如今的镜头是富士和日东光学做的。飞思上的施耐德水平比他们还高一些。
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CDer:001137415
发表于 2020-2-8 18:58 超大游击队员 | 显示全部楼层
fireeyes 发表于 2020-2-8 17:36
差4代,90、65、DUV(28)、EUV(7、5),我们现在完全国产的,已经上线的是90NM,严格的说是上线考核, ...

aml的EUV都已经两代产品了,DUV也好几代产品,这个产品套刻精度没出来之前大概不能这么算。
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发表于 2020-2-8 18:58 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

洪堡骑士 发表于 2020-2-8 17:45
"日本相机镜头好,为啥向荷兰光刻机没有日本镜头?"

远不及哈苏的 。 三到四年之前大疆入股了哈苏, 但 ...

照相用的镜头和光刻镜头没有可比性,光刻机的误差必须控制在纳米以内,而相片就算有点变形一般人也看不出。
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CDer:000159547
发表于 2020-2-8 19:54 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

1154214316 发表于 2020-2-8 18:58
aml的EUV都已经两代产品了,DUV也好几代产品,这个产品套刻精度没出来之前大概不能这么算。

你要这么算的话相差十几代了,厂商宣称的代数往往有商业的考虑,同一代产品进行了一些改进就说是下一代,有的甚至换了个外观也说是另一代。

我们还是以他能够实现的性能作为划时代吧,90NM及以上,65-90NM,7-65NM,7NM以下共四代。
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发表于 2020-2-8 19:57 超大游击队员 | 显示全部楼层

Re.SMEE 800系列光刻机图形用户界面

momoranshi 发表于 2020-02-08 12:08:16
本帖最后由momoranshi于2020-2-812:10编辑游戏机也是低等的民用技术然而苏联没有雅达利任天堂飞利浦世嘉南梦宫来把电子技术技术直接转化成经济价值光有俄罗斯方块只能让日本人大赚特赚你以为市场上的相机就不用抗畸变和扫尘了?
别逗我笑好吗,民用相机有个毛抗镜片畸变和扫尘,顶多靠软件搞个坐标畸变矫正就不错了
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发表于 2020-2-8 20:04 超大游击队员 | 显示全部楼层

Re.SMEE 800系列光刻机图形用户界面

urin1010 发表于 2020-02-08 09:52:28
本帖最后由urin1010于2020-2-810:57编辑核心内容其实叫数值孔径和衍射控制。分辨率的关键在于如何有效扩大数值孔径,而具体解决时涉及衍射控制。波长越短,数值孔径越大,这也是为何那么多条光源路线最终选择了euv,而不是更短波长光源,目前euv下的镜头数值孔径是可操作可具有延伸发展的。
咱俩说的是两回事
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CDer:000168780
发表于 2020-2-8 20:06 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

tp040906 发表于 2020-2-8 15:00
超音波那個是不是專利的問題?所以才會一直用的傳統馬達。

传统镜头对焦马达也没问题啊,比如松下的反差对焦系统配合高刷新率镜头,单次对焦就非常快又准。
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发表于 2020-2-8 20:09 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

白衫少年 发表于 2020-2-8 13:48
长阳科技能否生产这种镀膜?

差别在好坏,比如抑制眩光能力。淘宝上十几块的杂牌UV镜都有镀膜。
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发表于 2020-2-8 22:32 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

bugs_j2 发表于 2020-2-7 19:24
实际上,全世界百分之六十的光学镜片是在广东中山产的

会不会剩下的40%都是高端货?
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CDer:000408631
发表于 2020-2-8 22:41 | 显示全部楼层
用英文的界面没问题,估计也是行业特殊性,以前用的设备、工艺等等都是英文的,你要是给人家换个中文的,用的人反而不习惯
就像自动挡汽车习惯了PND,你给人搞一个中文会很另类
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CDer:000423848
发表于 2020-2-8 23:23 超大游击队员 | 显示全部楼层
本帖最后由 momoranshi 于 2020-2-8 23:27 编辑
zxd1981 发表于 2020-2-8 19:57
别逗我笑好吗,民用相机有个毛抗镜片畸变和扫尘,顶多靠软件搞个坐标畸变矫正就不错了


你说没有就没有?

同一个焦段的不同镜头畸变就不一样,本来就是要参考的指标。
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CDer:000794045
发表于 2020-2-9 00:20 超大游击队员 | 显示全部楼层
感谢美国的封锁,让我们越来越强大!
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发表于 2020-2-9 01:12 超大游击队员 | 显示全部楼层
白衫少年 发表于 2020-2-8 13:50
但是用euv的话效率是不是要比duv高很多,而且成本也更低?

euv的芯片能耗比会更好点,但生产的成本和效率都不如duv的,极其费电,不过7nm继续往前就没得选了。
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发表于 2020-2-9 01:20 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

fireeyes 发表于 2020-2-8 19:54
你要这么算的话相差十几代了,厂商宣称的代数往往有商业的考虑,同一代产品进行了一些改进就说是下一代, ...

套刻误差挺重要的好不好,要是误差大哪怕都是arf浸没式多从曝光根本无法实现高制程,他们所说的最初的nxt1980因为套刻精度不行是无法实现7nm制程,华虹的新厂28到14nm用的就是这型号,它的下一代产品nxt2000也就是现在最先进的duv光刻机这个型号才能实现14nm以下,asml也花了好几年时间才搞定的吧。你直接忽视技术难度把高精密领域想象的太简单了。
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CDer:000114850
发表于 2020-2-9 08:02 超大游击队员 | 显示全部楼层

Re.SMEE 800系列光刻机图形用户界面

momoranshi 发表于 2020-02-08 23:23:38
本帖最后由momoranshi于2020-2-823:27编辑你说没有就没有?同一个焦段的不同镜头畸变就不一样,本来就是要参考的指标。
少玩偷换概念
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CDer:000261568
发表于 2020-2-9 10:15 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

lizhiling 发表于 2020-2-8 14:45
日本相机镜头好,为啥向荷兰光刻机没有日本镜头?

日本相机镜头好?问过蔡司吗?日本只是低成本镜头好,现在中国低成本镜头追上来,高端还真不如蔡司,蔡司的缺点就是太贵了,只好守着高端玩。
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CDer:000159547
发表于 2020-2-9 10:22 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

1154214316 发表于 2020-2-9 01:20
套刻误差挺重要的好不好,要是误差大哪怕都是arf浸没式多从曝光根本无法实现高制程,他们所说的最初的nxt ...

谢谢指点。我们行业外的人当然只能简单的用产品性能来分类,能介绍一下ASML光刻机的具体型号和性能不,28纳米以下的就行,谢谢。
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CDer:000242587
发表于 2020-2-9 10:35 超大游击队员 | 显示全部楼层
莱卡的镜头怎么样?
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 楼主| 发表于 2020-2-9 11:19 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

fireeyes 发表于 2020-2-9 10:22
谢谢指点。我们行业外的人当然只能简单的用产品性能来分类,能介绍一下ASML光刻机的具体型号和性能不,28 ...

ASML旗下套刻精度(overlay)最高的产品:NXT:2000i,达到了和3400B一样的1.9nm(5nm要求至少2.4nm,7nm要求至少3.5nm)。价格未披露。目前,NXE:3400B EUV光刻机的报价是1.2亿美元一台,传统的ArF沉浸式光刻机(14nm节点)报价是7200万美元之间, NXT:2000i肯定是在这两者之间了。
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CDer:000159547
发表于 2020-2-9 13:22 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

havok 发表于 2020-2-9 11:19
ASML旗下套刻精度(overlay)最高的产品:NXT:2000i,达到了和3400B一样的1.9nm(5nm要求至少2.4nm,7nm要 ...

谢谢。那2000I和3400B之间有什么区别呢,要这么说的话2000I也可以做5NM的芯片了,3400B有什么优势。
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CDer:000168780
发表于 2020-2-9 13:41 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

zxd1981 发表于 2020-2-8 19:57
别逗我笑好吗,民用相机有个毛抗镜片畸变和扫尘,顶多靠软件搞个坐标畸变矫正就不错了

畸变是镜头一个很重要的指标。用软件可也以矫正,甚至把鱼眼矫正成超广,但要损失分辨率。
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发表于 2020-2-9 13:41 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

胡汉山 发表于 2020-2-9 10:35
莱卡的镜头怎么样?

可乐标不错
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发表于 2020-2-9 13:49 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面


哪里偷换概念了?
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发表于 2020-2-9 13:55 超大游击队员 | 显示全部楼层
胡汉山 发表于 2020-2-9 10:35
莱卡的镜头怎么样?

徕卡如今有四家公司,每一家在各自领域都是一流公司。徕卡地理系统(搞激光测绘仪的),徕卡微系统(搞显微镜的,也包括光刻机镜头),徕卡生物(搞医学检测的,生物试剂盒的),徕卡相机(摄影镜头艺术质感成像质量依然一流,包括猎枪镜头望远镜镜头也是一线水平,潘那维申反哺的电影头也是奥斯卡得奖镜头里最常见的一类)
另外:潘那维申当初就靠徕卡加拿大米德兰工厂。如今这家厂成为雷神的企业,是美国三大光学武器研发主力之一,对外公示的产品是枪械瞄准镜。
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