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SMEE 800系列光刻机图形用户界面

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CDer:000413886
发表于 2020-2-7 16:38 | 显示全部楼层 |阅读模式

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本帖最后由 havok 于 2020-2-9 17:46 编辑

关注国产光刻机的动态, SMEE公开了一项800系列光刻机(800系列光刻机即在研的国产28nm节点浸没光刻机,可用于生产14nm芯片,预计今年完成样机)所用图形用户界面的专利,
专利可见新光刻机的操作软件的图形用户界面全英文显示,这个专利没有透露多少光刻机性能信息,唯一可确定的是光刻机采用了双工件台,以下是这专利的一些图片:
910bd0639bd802843d8210e8dad567c7.jpg
b8746ab3eae7673e1215a141bdc52f32.jpg
a356dccb3cdccb23c2c14041b4a5489b.jpg
dab1b57d8d486c4192e12ac37489104a.jpg
43c15302ed2ba71aacba89c898f8deb3 (1).jpg
ce14ca447461120a6f9fa6990bc77fa8.jpg

下图中A框内表示是光刻机交互控制的框架界面的位置,图中的光刻机外观与上微之前公开的光刻机外观略有不同,可能是800系列的另一个型号:
86ce092eac21a213caedc7d7090a047b.jpg

下图是上微之前公开的光刻机外观:
2b49e3e0c3c42f1d7092691157c1e195.jpg


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CDer:001092797
发表于 2020-2-7 16:49 | 显示全部楼层
600能大规模应用不
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CDer:000460643
发表于 2020-2-7 16:51 超大游击队员 | 显示全部楼层
nice呀,只是希望再快点。不知道smee有没有搞euv的计划,最好国家出来牵头组织一波。
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CDer:000413886
 楼主| 发表于 2020-2-7 16:58 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面


600很可能就几台样机没有量产,可能当时不具备量产能力。但是800系列是直接奔着量产去的研发的时候就考虑了的小规模量产能力的建设而不是只做几台样机而已
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发表于 2020-2-7 18:29 超大游击队员 | 显示全部楼层

Re.SMEE 800系列光刻机图形用户界面

围观_群众 发表于 2020-02-07 16:51:57
nice呀,只是希望再快点。不知道smee有没有搞euv的计划,最好国家出来牵头组织一波。
先把14nm搞定,euv荷兰就卖了
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CDer:000252200
发表于 2020-2-7 18:43 | 显示全部楼层
28纳米啃下来, 吃透, 则14纳米就不在话下了;  一步一步走吧。 最终中国及囊实全球唯一一个掌握全球所有高端和尖端技术及设备的自研和生产的国家。我对此毫无疑问。  
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CDer:000230506
发表于 2020-2-7 18:57 超大游击队员 | 显示全部楼层

Re.SMEE 800系列光刻机图形用户界面

好,好,好。能研制光刻机说明自动对焦镜头的精度,灵敏度非常高,有产能时顺便造几个自动相机镜头,不想再使用清一色日本货了,好。
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CDer:000413886
 楼主| 发表于 2020-2-7 19:01 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

洪堡骑士 发表于 2020-2-7 18:43
28纳米啃下来, 吃透, 则14纳米就不在话下了;  一步一步走吧。 最终中国及囊实全球唯一一个掌握全球所有 ...

别看写的是28纳米,这个可以生产14纳米芯片的。
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CDer:001075804
发表于 2020-2-7 19:10 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

havok 发表于 2020-2-7 19:01
别看写的是28纳米,这个可以生产14纳米芯片的。

对的,搞定了28纳米的光刻机,是可以直接生产7纳米的芯片的,但前提是生产工艺得你自己研发,实际上ASML对这类型光刻机并没有禁运,禁运的是EUV光刻机,是生产7纳米及以下芯片用的,所以国内这些代工厂应该加快提高利用现有设备生产先进制程芯片的能力,而不是一味抱怨别人禁运了你3,5年内还用不到的设备
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CDer:001100843
发表于 2020-2-7 19:24 超大游击队员 | 显示全部楼层
hbhsicbc 发表于 2020-2-7 18:57
好,好,好。能研制光刻机说明自动对焦镜头的精度,灵敏度非常高,有产能时顺便造几个自动相机镜头,不想再 ...

实际上,全世界百分之六十的光学镜片是在广东中山产的
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CDer:000413886
 楼主| 发表于 2020-2-7 19:28 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

Taliban班长 发表于 2020-2-7 19:10
对的,搞定了28纳米的光刻机,是可以直接生产7纳米的芯片的,但前提是生产工艺得你自己研发,实际上ASML ...

ASML虽然没有禁运,但是他一台DUV的价格摆在那里,交货期还很长,机器保养维修零件等等都是不小的费用,而且不能用来生产军用芯片。相比来说只要国产机器性能差不多是很有优势的
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CDer:000767685
发表于 2020-2-7 19:35 | 显示全部楼层
也有可能是战略欺骗
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CDer:001041171
发表于 2020-2-7 19:41 超大游击队员 | 显示全部楼层
半导体全产业链必须都拿下,没有退路了。
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CDer:000767685
发表于 2020-2-7 19:42 超大游击队员 | 显示全部楼层
我们的光刻机早日出来,大家忍一下,14nm将就用用!!
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CDer:001112352
发表于 2020-2-7 19:52 | 显示全部楼层
今年一定要出来啊!!
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 楼主| 发表于 2020-2-7 21:11 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

本帖最后由 havok 于 2020-2-9 10:53 编辑
A-SET 发表于 2020-2-7 19:52
今年一定要出来啊!!


我怎么觉得倒数第二张图就是样机实机的照片不是CG,在黄光区内拍的
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CDer:000114850
发表于 2020-2-7 21:13 超大游击队员 | 显示全部楼层

Re.SMEE 800系列光刻机图形用户界面

工件台,曝光系统,浸没装置都到位了,ArF光源目前还没有新的突破性消息,今年样机能搞定吗,不乐观
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CDer:000773683
发表于 2020-2-7 21:38 | 显示全部楼层
我总觉得 只有外国人禁止我们 我们才能进步。其实我挺喜欢川普的。
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CDer:001038011
发表于 2020-2-7 21:42 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

zxd1981 发表于 2020-2-7 21:13
工件台,曝光系统,浸没装置都到位了,ArF光源目前还没有新的突破性消息,今年样机能搞定吗,不乐观

北京国望是不是做光源的?
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发表于 2020-2-7 21:42 | 显示全部楼层
光双工作台这一项,尼康到现在都搞不定。如果顺利量产,已经超过尼康了。
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发表于 2020-2-7 21:43 | 显示全部楼层
看起来非常高大上的东东
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 楼主| 发表于 2020-2-7 22:04 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

本帖最后由 havok 于 2020-2-7 22:06 编辑
zxd1981 发表于 2020-2-7 21:13
工件台,曝光系统,浸没装置都到位了,ArF光源目前还没有新的突破性消息,今年样机能搞定吗,不乐观


ArF光源没什么问题,只是曝光系统的样机我还没看到,下面图片用90nm的曝光光学系统代替:
ArF光源:
12864dcc51604eb5abf2c8b54a51ca30.jpg
浸液系统样机:
0a353daa34c28511aacd492c753d727e.jpg nnl0.jpg
双工件台:
img-1.jpg
90nm工艺节点曝光光学系统:
微信图片_20181204132417.jpg
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CDer:000037176
发表于 2020-2-7 22:17 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

洪堡骑士 发表于 2020-2-7 18:43
28纳米啃下来, 吃透, 则14纳米就不在话下了;  一步一步走吧。 最终中国及囊实全球唯一一个掌握全球所有 ...

都是被逼出来的,包括现在这个拥有联合国全部产业门类的头衔,其实想想,美帝带领全西方对我们的长期一贯的封锁打压成了中国成长为巨无霸强国的关键动力,该给鹰酱记功还是记过真是个纠结的问题。
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CDer:001097058
发表于 2020-2-7 23:32 | 显示全部楼层
不错不错,继续突破。
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CDer:001120666
发表于 2020-2-7 23:48 | 显示全部楼层
一步一个脚印,努力补上光刻机短板
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CDer:000147915
发表于 2020-2-8 00:05 | 显示全部楼层
SMEE加油!  
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CDer:000424960
发表于 2020-2-8 00:38 超大游击队员 | 显示全部楼层
大家一同努力!
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CDer:000114850
发表于 2020-2-8 08:12 超大游击队员 | 显示全部楼层

Re.SMEE 800系列光刻机图形用户界面

白衫少年 发表于 2020-02-07 21:42:42
北京国望是不是做光源的?
做曝光系统的
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CDer:000114850
发表于 2020-2-8 08:19 超大游击队员 | 显示全部楼层

Re.SMEE 800系列光刻机图形用户界面

havok 发表于 2020-02-07 22:04:35
本帖最后由havok于2020-2-722:06编辑ArF光源没什么问题,只是曝光系统的样机我还没看到,下面图片用90nm的曝光光学系统代替:ArF光源:浸液系统样机:双工件台:90nm工艺节点曝光光学系统:
科益虹源的光源最近的消息是处在工程样机阶段,而且光源参数与当年光电所时代实验室产品参数相比没有任何变化,我个人认为这块可能遇到门槛了
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CDer:000114850
发表于 2020-2-8 08:21 超大游击队员 | 显示全部楼层

Re.SMEE 800系列光刻机图形用户界面

洪堡骑士 发表于 2020-02-07 18:43:12
28纳米啃下来,吃透,则14纳米就不在话下了;一步一步走吧。最终中国及囊实全球唯一一个掌握全球所有高端和尖端技术及设备的自研和生产的国家。我对此毫无疑问。
ArF加浸液系统加多重曝光,可以支持到7nm工艺,潜力是很大的
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发表于 2020-2-8 08:26 超大游击队员 | 显示全部楼层

Re.SMEE 800系列光刻机图形用户界面

hbhsicbc 发表于 2020-02-07 18:57:25
好,好,好。能研制光刻机说明自动对焦镜头的精度,灵敏度非常高,有产能时顺便造几个自动相机镜头,不想再使用清一色日本货了,好。
相机的对焦技术只是最低等的民用技术,这种工业级和军用级相机曝光系统最核心的是镜头抗畸变和扫尘技术
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发表于 2020-2-8 09:52 超大游击队员 | 显示全部楼层
本帖最后由 urin1010 于 2020-2-8 10:57 编辑
zxd1981 发表于 2020-2-8 08:26
相机的对焦技术只是最低等的民用技术,这种工业级和军用级相机曝光系统最核心的是镜头抗畸变和扫尘技术


核心内容其实叫数值孔径和衍射控制。分辨率的关键在于如何有效扩大数值孔径,而具体解决时涉及衍射控制。波长越短,数值孔径越大,这也是为何那么多条光源路线最终选择了euv,而不是更短波长光源,目前euv下的镜头数值孔径是可操作可具有延伸发展的。
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CDer:000004901
发表于 2020-2-8 11:07 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

havok 发表于 2020-2-7 22:04
ArF光源没什么问题,只是曝光系统的样机我还没看到,下面图片用90nm的曝光光学系统代替:
ArF光源:
...

看到科益虹源后面放着一台CYMER,照着抄应该还是样机阶段吧
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 楼主| 发表于 2020-2-8 11:46 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

zxd1981 发表于 2020-2-8 08:19
科益虹源的光源最近的消息是处在工程样机阶段,而且光源参数与当年光电所时代实验室产品参数相比没有任何变 ...

出于某些原因现在各家企业都不对外发布光刻机的研制情况,网上看到的大多是几年前旧的信息,科益虹源连网站都关了但这并不表示就是遇到问题了。
科益虹源去年在江苏徐州开工了“科益虹源集成电路光刻光源制造项目”,该项目总投资约5亿元,建筑面积约1.2万平方米,年产RS222型光刻准分子激光器、光刻用准分子激光器、405光纤耦合头等各类设备30台(套)。一般这种制造项目的开工说明技术上已没什么问题了。
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 楼主| 发表于 2020-2-8 11:47 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

fq176 发表于 2020-2-8 11:07
看到科益虹源后面放着一台CYMER,照着抄应该还是样机阶段吧

呵呵,借鉴肯定有的
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CDer:000423848
发表于 2020-2-8 11:57 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

bugs_j2 发表于 2020-2-7 19:24
实际上,全世界百分之六十的光学镜片是在广东中山产的


镜片和镜头是两码事

镜片毛胚子 就更不要举例了
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CDer:000423848
发表于 2020-2-8 12:08 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

本帖最后由 momoranshi 于 2020-2-8 12:10 编辑
zxd1981 发表于 2020-2-8 08:26
相机的对焦技术只是最低等的民用技术,这种工业级和军用级相机曝光系统最核心的是镜头抗畸变和扫尘技术


游戏机也是 低等的民用技术

然而苏联没有 雅达利 任天堂 飞利浦 世嘉 南梦宫 来把电子技术技术直接转化成经济价值

光有 俄罗斯方块 只能让 日本人大赚特赚

你以为市场上的相机就不用 抗畸变和扫尘了?
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CDer:000670279
发表于 2020-2-8 12:08 超大游击队员 | 显示全部楼层
国产的为什么要用英文界面,是技术上的问题还是习惯上的问题?
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CDer:000168780
发表于 2020-2-8 12:10 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

bugs_j2 发表于 2020-2-7 19:24
实际上,全世界百分之六十的光学镜片是在广东中山产的

说的其实是对焦马达,镜片国产没什么问题,镀膜可能差点
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CDer:001038011
发表于 2020-2-8 13:48 | 显示全部楼层

RE: SMEE 800系列光刻机图形用户界面

bloodsquare 发表于 2020-2-8 12:10
说的其实是对焦马达,镜片国产没什么问题,镀膜可能差点

长阳科技能否生产这种镀膜?
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