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CDer:001054205 楼主: 创新中国红
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ASML否认断供光刻机,但中国企业想买难度很大,应着手研发新技术

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CDer:000117482
发表于 2019-11-9 18:15 | 显示全部楼层

RE: ASML否认断供光刻机,但中国企业想买难度很大,应着手研发新技术


如果现在国内有全套的技术生产,我相信国家直接在桌子上拍3000亿,国家都乐意。何必给台湾当孙子,花大钱哄着台湾,还挨着台湾骂。
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CDer:001118025
发表于 2019-11-9 20:09 超大游击队员 | 显示全部楼层
谢谋 发表于 2019-11-8 09:52
1.瓦森纳协议的规定是成员国政府有权自行判断是否可以出口某种产品。如果出口,要把信息向其他成员国通 ...

asml的历史跟美国有很大关系
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CDer:001136083
发表于 2019-11-9 20:12 超大游击队员 | 显示全部楼层
不要听他说的.
要看他做的.
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CDer:000415795
发表于 2019-11-9 20:25 | 显示全部楼层

RE: ASML否认断供光刻机,但中国企业想买难度很大,应着手研发新技术

zzaa119 发表于 2019-11-9 18:15
如果现在国内有全套的技术生产,我相信国家直接在桌子上拍3000亿,国家都乐意。何必给台湾当孙子,花大钱 ...

国家0102专项半导体大基金,据说,12000亿。远超航空发动机。
半导体,是无论如何也要拿下的项目。
综合各方信息,2020年,可以拿出28纳米的机器。量产。28纳米是2006-2015计划的指标。
为什么定为28纳米。
28纳米是一个技术台阶。也是安全阈值的下限。
28纳米以下的芯片,不能军用。为什么?安全问题。你可以做3纳米的军品。但是,一个电磁脉冲弹,全军覆没。也不能宇航。因为怕宇宙射线。
这就带来一个问题:
芯片的纳米数有多重要?
你有7纳米光刻机,可以在1平方厘米的晶片上排列50亿个晶体管。
我有14纳米光刻机,可以在2平方厘米的晶片上排列50亿个晶体管。
因此,只有在那些极端追求秀珍的商品上,纳米数很重要。
——————————————
我个人认为,在极紫外技术路线上,中国大基金不会去支持14纳米以下的东西。
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CDer:001112352
发表于 2019-11-9 20:55 | 显示全部楼层

RE: ASML否认断供光刻机,但中国企业想买难度很大,应着手研发新技术

zzaa119 发表于 2019-11-9 18:15
如果现在国内有全套的技术生产,我相信国家直接在桌子上拍3000亿,国家都乐意。何必给台湾当孙子,花大钱 ...

是的啊 半导体专项已经加码到15000亿了
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CDer:000415795
发表于 2019-11-9 20:57 | 显示全部楼层

RE: ASML否认断供光刻机,但中国企业想买难度很大,应着手研发新技术

我要去唐山 发表于 2019-11-9 20:09
asml的历史跟美国有很大关系

阿斯麦是从飞利浦分离出来的。物镜是德国蔡司技术,工件台估计也是德国技术,光源是美国SYMER,早已被阿斯麦收购。
股东包括美国的几个金融集团,以及阿斯麦的大客户,台积电,三星,英特尔等等。中芯国际等中国企业能从阿斯麦买到光刻机,不排除中芯国际等中国企业也入股了。因为阿斯麦的规矩是买他的产品就要入他的股。
阿斯麦的主力产品,包括深紫外的NXT1980Di,14纳米级别的,早已经大举进入中国。


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CDer:000117482
发表于 2019-11-9 21:34 | 显示全部楼层

RE: ASML否认断供光刻机,但中国企业想买难度很大,应着手研发新技术

谢谋 发表于 2019-11-9 20:25
国家0102专项半导体大基金,据说,12000亿。远超航空发动机。
半导体,是无论如何也要拿下的项目。
综 ...

现在台积电的7NM+工艺良品率还是在七成,三星只有三成。EUV光刻图形随机失效缺损问题还是解决不了。5nm良品率简直不敢形象。
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CDer:000415795
发表于 2019-11-9 21:46 | 显示全部楼层

RE: ASML否认断供光刻机,但中国企业想买难度很大,应着手研发新技术

zzaa119 发表于 2019-11-9 21:34
现在台积电的7NM+工艺良品率还是在七成,三星只有三成。EUV光刻图形随机失效缺损问题还是解决不了。5nm良 ...

阿斯麦炒作7纳米5纳米3纳米。就是个噱头。
真要比秀珍,途径也不止纳米一条路。比如手机,你3纳米芯片到极限了。我14纳米芯片是大了点,但想办法把电池做小一点,把其他元件做小一点,不就找回来了。
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CDer:000117482
发表于 2019-11-9 22:11 | 显示全部楼层

RE: ASML否认断供光刻机,但中国企业想买难度很大,应着手研发新技术

谢谋 发表于 2019-11-9 21:46
阿斯麦炒作7纳米5纳米3纳米。就是个噱头。
真要比秀珍,途径也不止纳米一条路。比如手机,你3纳米芯片到 ...

功耗散热是问题
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CDer:000117482
发表于 2019-11-9 22:13 | 显示全部楼层

RE: ASML否认断供光刻机,但中国企业想买难度很大,应着手研发新技术

本帖最后由 zzaa119 于 2019-11-9 22:14 编辑
谢谋 发表于 2019-11-9 20:57
阿斯麦是从飞利浦分离出来的。物镜是德国蔡司技术,工件台估计也是德国技术,光源是美国SYMER,早已被阿 ...


国家发发狠,搞个同步辐射光刻,在芯片工厂里建个离子加速器,能做到1纳米线宽的图形。大不了流片贵一点,国家补贴不就得了,反正肉烂在锅里了。
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CDer:001131932
发表于 2019-11-10 14:08 | 显示全部楼层

RE: ASML否认断供光刻机,但中国企业想买难度很大,应着手研发新技术

havok 发表于 2019-11-9 17:03
现在说国产EUV光刻机真的是比较遥远的事,EUV的光源很难弄而且由于极紫外光很容易被吸收所以要提高光源的 ...

有同感。当初在193nm光源干法停留的时候,也挺了很长时间。
日本人搞到157nm光源。

结果呢,被人搞出来193nm光源的湿法,一下子把路打通到现在的7nm制程。
日本人差不多一个时代的努力全部打了水漂。

EUV光刻机有可能也会走上日本人那条路。
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CDer:001131932
发表于 2019-11-10 14:11 | 显示全部楼层

RE: ASML否认断供光刻机,但中国企业想买难度很大,应着手研发新技术

谢谋 发表于 2019-11-9 20:25
国家0102专项半导体大基金,据说,12000亿。远超航空发动机。
半导体,是无论如何也要拿下的项目。
综 ...

这个观点很有参考价值啊。
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CDer:001116553
发表于 2019-11-10 15:37 超大游击队员 | 显示全部楼层
A-SET 发表于 2019-11-9 20:55
是的啊 半导体专项已经加码到15000亿了

那么多?多写了一个0吧??? 再说,只砸钱,能起多大作用?工艺技术需要时间积累,需要一代代高级技工沉下心,一辈子专注一件事。德国蔡司镜头为什么牛?那是专注之下历史的积淀,不是只靠砸钱能解决的。四十年前,中国的八级技工,待遇和社会地位不比专家学者差,现在的浮躁+功利心态下,,还有多少人愿意做一辈子技工?说到底,还是目前的社会评价体系,整体上不利于工匠精神的传承,这个局面不彻底改变,不仅仅影响光刻机一个领域,对在很多其他技术领域的创新创造,都有很大的不利影响
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CDer:001112352
发表于 2019-11-10 15:40 | 显示全部楼层

RE: ASML否认断供光刻机,但中国企业想买难度很大,应着手研发新技术

zttzyy 发表于 2019-11-10 15:37
那么多?多写了一个0吧??? 再说,只砸钱,能起多大作用?工艺技术需要时间积累,需要一代代高级技工沉 ...

没钱再怎么工匠也是白给
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CDer:001134060
发表于 2019-11-11 10:56 | 显示全部楼层

RE: ASML否认断供光刻机,但中国企业想买难度很大,应着手研发新技术

谢谋 发表于 2019-11-9 20:25
国家0102专项半导体大基金,据说,12000亿。远超航空发动机。
半导体,是无论如何也要拿下的项目。
综 ...

结论不赞同。大基金 一定要加码支持14纳米以下的技术攻关。
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CDer:001134060
发表于 2019-11-11 10:57 | 显示全部楼层

RE: ASML否认断供光刻机,但中国企业想买难度很大,应着手研发新技术

zzaa119 发表于 2019-11-9 21:34
现在台积电的7NM+工艺良品率还是在七成,三星只有三成。EUV光刻图形随机失效缺损问题还是解决不了。5nm良 ...

这2个良品率数据有来源么?这是第一次看到台积电和三星的这个关键数据。
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CDer:001066113
发表于 2019-11-11 11:14 | 显示全部楼层

RE: ASML否认断供光刻机,但中国企业想买难度很大,应着手研发新技术

谢谋 发表于 2019-11-8 10:29
不妨举例说明。
如果是光源, Cymer早已被阿斯麦并购。

并购只要认定技术是源自于美国的一样被美国管啊
不然为啥华为把美国的研发给砍了
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CDer:000256584
发表于 2019-11-11 11:27 超大游击队员 | 显示全部楼层
lizhiling 发表于 2019-11-9 12:51
现在中国要到某些行业顶峰了,美国更着急了.只有在2008年美国次贷危机时,中国有机会的.但是那时被所谓的国 ...

次贷危机的解决是看美国的国家力量出不出手,拖到最后美国财政部才下场,立马消停,当时叶利钦想拉中国搞美国一下,可中国没这么蠢!
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CDer:001112231
发表于 2019-11-11 12:47 | 显示全部楼层

RE: ASML否认断供光刻机,但中国企业想买难度很大,应着手研发新技术

谢谋 发表于 2019-11-9 20:25
国家0102专项半导体大基金,据说,12000亿。远超航空发动机。
半导体,是无论如何也要拿下的项目。
综 ...

多少纳米都怕emp吧
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CDer:000415795
发表于 2019-11-11 14:40 | 显示全部楼层

RE: ASML否认断供光刻机,但中国企业想买难度很大,应着手研发新技术

本帖最后由 谢谋 于 2019-11-11 14:46 编辑
cc1969 发表于 2019-11-11 10:56
结论不赞同。大基金 一定要加码支持14纳米以下的技术攻关。


14纳米以下要支持,但不一定非得是极紫外技术路线。
目前主流光刻技术的发展基本依赖于在光学衍射极限范围内不断缩短所用光源的波长。光刻机已经从最初的可见光光刻发展为紫外光刻再到当前的深紫外、极紫外光刻。然而其代价也是非常昂贵的。高能量紫外光束的产生,调控,聚焦等需要高真空的运行条件以及非常精密的运行控制。这使得光刻机被称为人类最精密复杂的机器,荷兰ASML公司能够实现14nm以下工艺的EUV极紫外光刻机售价高达1亿美元以上。由于研发更高精度的极紫外光刻技术花费巨大以及光刻分辨率逐渐逼近半导体材料的量子波尔半径,研发分辨率在7纳米以下的光刻二维制造技术面临市场的严峻挑战,摩尔定律遭遇挑战。为了得到性能更高价格更便宜的电路芯片,如何降低光刻机的造价以及如何制造三维高分辨率芯片成为新一代光刻技术研究的目标。
————————————
14纳米以下还有其他技术路线。
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CDer:001134060
发表于 2019-11-11 14:45 | 显示全部楼层

RE: ASML否认断供光刻机,但中国企业想买难度很大,应着手研发新技术

谢谋 发表于 2019-11-11 14:40
14纳米以下要支持,但不一定非得是极紫外技术路线。
目前主流光刻技术的发展基本依赖于在光学衍射极限 ...

其它技术路线目前实验室验证都没通过啊
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CDer:001067895
发表于 2019-11-12 06:22 | 显示全部楼层
asml目前从未有正式的断供。许可证制度是几十年前就有的。
你自己不掌握5 3纳米技术,却嫌买不到对应的机器,这锅甩的。。。
瞎jb乱写文章。
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CDer:001067895
发表于 2019-11-12 06:23 | 显示全部楼层

RE: ASML否认断供光刻机,但中国企业想买难度很大,应着手研发新技术

谢谋 发表于 2019-11-11 14:40
14纳米以下要支持,但不一定非得是极紫外技术路线。
目前主流光刻技术的发展基本依赖于在光学衍射极限 ...

你不知道euv是成功率最高的吗
确实还有其他技术路线,只不过euv是最好的
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CDer:000415795
发表于 2019-11-12 08:37 | 显示全部楼层

RE: ASML否认断供光刻机,但中国企业想买难度很大,应着手研发新技术

本帖最后由 谢谋 于 2019-11-12 10:25 编辑
webweb 发表于 2019-11-12 06:23
你不知道euv是成功率最高的吗
确实还有其他技术路线,只不过euv是最好的


科技发展,没有最好,只有更好。
EUV路线就是缩小紫外线波长,但完全没有考虑缩小成本,相反,成本越来越高。

下一代技术,应该是把目前光刻机天价的机器成本,以及巨大的售后服务成本降下来。
阿斯麦要坚持EUV就坚持好了,继续走下去吧。
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CDer:000413886
发表于 2019-11-12 11:29 | 显示全部楼层

RE: ASML否认断供光刻机,但中国企业想买难度很大,应着手研发新技术

webweb 发表于 2019-11-12 06:22
asml目前从未有正式的断供。许可证制度是几十年前就有的。
你自己不掌握5 3纳米技术,却嫌买不到对应的机 ...

ASML没有正式断供,但却是变相断供。什么许可证到期过期都是幌子
中芯国际仅仅向他订购1台EUV光刻机他就要拖个2,3年不给你,中芯国际今年拿不到机器明年也很可能拿不到。ASML在2年里的EUV光刻机产量大概40几台,但他一台都不会给你。
ASML现在之所以肯卖浸没式光刻机原因就是看到了国产机器有突破所以他就放开卖了

不要认为asml是什么好鸟,他跟台积电穿一条裤子,ASML官网把台湾,香港同中国并排单列。
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CDer:001067895
发表于 2019-11-13 05:24 | 显示全部楼层

RE: ASML否认断供光刻机,但中国企业想买难度很大,应着手研发新技术

谢谋 发表于 2019-11-12 08:37
科技发展,没有最好,只有更好。
EUV路线就是缩小紫外线波长,但完全没有考虑缩小成本,相反,成本越 ...

目前有更好的吗?没有,
没有你说个锤子?
还在那挑三拣四,要缩小成本。键盘敲的咔咔响,反正不是自己解决技术难题。
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CDer:001067895
发表于 2019-11-13 05:32 | 显示全部楼层

RE: ASML否认断供光刻机,但中国企业想买难度很大,应着手研发新技术

havok 发表于 2019-11-12 11:29
ASML没有正式断供,但却是变相断供。什么许可证到期过期都是幌子
中芯国际仅仅向他订购1台EUV光刻机他就 ...

中芯国际就下了那一台的订单,而且下单时间晚,厂家按照下单顺序发货有什么问题。
不要随便瞎jb阴谋论,说话要拿证据。
至于什么官网同列,国外这种网站多不胜数,大家用的是一样的代码,过去国家不纠结这个问题,等代码写好n多年了开始较真了。
更何况台积电本来就是股东,虽然没有控制权。
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发表于 2019-11-13 08:40 | 显示全部楼层

RE: ASML否认断供光刻机,但中国企业想买难度很大,应着手研发新技术

webweb 发表于 2019-11-13 05:24
目前有更好的吗?没有,
没有你说个锤子?
还在那挑三拣四,要缩小成本。键盘敲的咔咔响,反正不是自己 ...

http://www.elecfans.com/xinkeji/457924.html
2014年10月瑞典皇家诺贝尔奖委员会决定将当年的诺贝尔化学奖授予打破光学衍射极限发明超分辨率光学显微技术的三位科学家,以表彰他们在超分辨率光学成像方面的卓着贡献。其中斯蒂芬·黑尔教授教授发明的STED超分辨技术采用二束激光,一束激发激光(ExciTIng Laser Beam)激发显微镜物镜下的荧光物质产生荧光,另外一束中心光强为零的环形淬灭激光(InhibiTIng Laser beam)淬灭激发激光产生的荧光。这两束光的中心重合在一起,使得只有处于纳米级环形淬灭激光中心处的荧光分子才能正常发光,通过扫描的办法就可以得到超越衍射极限的光学成像。

遵循这个思路,华中科技大学国家光电实验室的甘棕松教授在国外攻读博士学位期间,采用类似方法在光刻制造技术上取得进展,成功突破光学衍射极限,首次在世界范围内实现了创记录的单线9纳米线宽,双线间距低至约50纳米的超分辨光刻。未来将这一技术工程化应用到光刻机上,能够突破光学衍射极限对投射电路尺寸的限制从而实现超分辨光刻,有望使国产集成电路光刻机摆脱一味采用更短波长光源的技术路线。

甘棕松教授发明的超分辨纳米光刻技术利用光刻胶双光子吸收特性,采用双束光进行光刻,一束为飞秒脉冲激光,经过扩束整形进入到物镜,聚焦成一个很小的光斑,光刻胶通过双光子过程吸收该飞秒光的能量,发生光物理化学反应引发光刻胶发生固化;另外一束为连续激光,同样经过扩束整形后,进入到同一个物镜里,聚焦形成一个中心为零的空心状光斑,与飞秒激光光斑的中心空间重合,光刻胶吸收该连续光的能量,发生光物理化学反应,阻止光刻胶发生固化。两束光同时作用,最终只有连续光空心光斑中心部位的地方被固化。甘棕松教授目前已经把空心光斑中心部位最小做到9nm,至此突破光学衍射极限的超分辨光刻技术在常规光刻胶上得以完美实现。

采用超分辨的方法突破光学衍射的限制,将光聚集到更小的尺寸,应用到集成电路光刻可以带来两个方面的好处:一方面可以实现更高的分辨率,不再需要采用更短波长的光源,使得光刻机系统造价大大降低;另外一方面采用可见光进行光刻,可以穿透普通的材料,工作环境要求不高,摆脱EUV光源需要真空环境、光刻能量不足的羁绊。

与动辄几千万美元的主流光刻机乃至一亿美元售价的EUV光刻机相比,超分辨光刻硬件部分只需要一台飞秒激光器和一台普通连续激光器,成本只是主流光刻机的几分之一。该系统运行条件比紫外光刻温和得多,不需要真空环境,不需要特殊的发光和折光元器件,和一般光刻系统相比,该系统仅仅是引入了第二束光,系统光路设计上改动比较小,光刻机工程化应用相对容易,有希望使国产光刻机在高端领域弯道超车、有所突破。
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发表于 2019-11-13 08:44 | 显示全部楼层

RE: ASML否认断供光刻机,但中国企业想买难度很大,应着手研发新技术

webweb 发表于 2019-11-13 05:24
目前有更好的吗?没有,
没有你说个锤子?
还在那挑三拣四,要缩小成本。键盘敲的咔咔响,反正不是自己 ...

http://mp.ofweek.com/laser/a545663821626
2017中国激光高端精密加工创新大会
地点:深圳会展中心2号馆会议厅
主持人:彭文达教授深圳大学光电工程学院教授、博导
时间:9月8日上午
时间        主题        嘉宾
9:30-10:00        特邀报告:《电子动态调控的飞秒激光微纳加工》        北京理工大学机械与车辆学院院长 姜澜教授
10:00-10:30        超快激光多光子微纳加工技术        中科院重庆绿色智能技术研究所 段宣明 研究员
10:30-11:00        超快激光在精细加工的进展        待定
11:00-11:30        9nm双光束超分辨集成电路光刻技术        华中科技大学武汉光电国家实验室 甘棕松教授
11:30-12:00        医疗用激光高精细加工技术        西安交通大学 贺健康教授
9月8日下午
13:30-14:00        超快紫外激光加工技术进展        深圳市隆庆智能激光有限公司
14:00-14:30        超快光纤激光器最新进展        JPT
14:30-15:00        金属高性能增材制造技术(3D打印)        西北工业大学
黄卫东   教授,博士生导师
15:00-15:30        激光在电池领域的应用        待定
15:30-16:00        超快激光加工技术在航空、航天领域的应用        中科院西安光机所光子制造与系统应用研究中心主任   杨小君
16:00-16:30        激光:让消费电子更好起飞        待定
16:30-16:50        《超精细之激光微加工》        待定
部分演讲嘉宾介绍:
姜澜,北京理工大学教授、博导
姜澜,北京理工大学教授、博导,国家“特支计划(万人计划)”首批科技创新领军人才、教育部长江学者特聘教授、国家重点基础研究发展规划(“973”计划)项目首席科学家、国家杰出青年科学基金获得者、国家高技术研究发展(863)计划主题专家、教育部创新团队带头人、教育部科技委学部委员、“增材制造与激光制造”国家重点研发计划总体专家组组长。主要从事激光微纳制造领域的科研工作。作为项目负责人承担科技部国家重点基础研究发展计划项目(973)、国家自然科学基金委重大研究计划集成项目和重点项目、国家重大科技专项课题、国家杰出青年科学基金、国家高技术研究发展计划课题、教育部重大培育项目、国防基础科研项目、总装探索项目、总装预研项目等。获国家自然科学二等奖(第一完成人)、教育部自然科学奖一等奖(第一完成人)、北京市青年五四奖章。共发表SCI检索论文193篇,影响因子12以上15篇。做主流国际大会Keynote/Plenary/Invited报告69次。

甘棕松华中科技大学武汉光电国家实验室教授
甘棕松教授长期从事激光三维纳米制造以及大数据光存储理论和实验方面的研究工作,实现了远场突破光学衍射极限到纳米分辨率(单线宽9 nm,线中心到中心间距52 nm)的激光三维纳米制造,创造了激光三维制造领域单线宽和分辨率的世界记录,解决了激光制造领域长期以来存在的分辨率和三维制造能力难以调和的重大问题和激光三维纳米制造技术中存在的尺寸越小整体结构越难以自我支撑而导致坍塌的普遍问题。并将该技术应用于集成电路光刻制造,为激光三维半导体器件制造提供了实现远场超衍射极限到纳米尺度的基本途径;应用于大数据存储展示了单光盘1 PB(= 1000TB = 1,000,000GB)存储能力和单次记录节能85%的技术飞跃,为大数据提供了大容量,长寿命,低能耗,低成本的存储技术方案;应用于仿生学,为仿生学研究提供了全新的工具。甘棕松教授的研究成果受到学术界和产业界的广泛关注, 被全球超过1000家新闻媒体报道和转载。
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CDer:000413886
发表于 2019-11-13 14:07 | 显示全部楼层

RE: ASML否认断供光刻机,但中国企业想买难度很大,应着手研发新技术

本帖最后由 havok 于 2019-11-13 14:09 编辑
webweb 发表于 2019-11-13 05:32
中芯国际就下了那一台的订单,而且下单时间晚,厂家按照下单顺序发货有什么问题。
不要随便瞎jb阴谋论, ...


前两天新闻说台积电最近批量订购了15台EUV,难道这15台都要2,3年后才能到货?

你说厂家按照下单顺序发货给中芯,你的证据在哪里?请贴出来  动不动就指责别人阴谋论前能不能先审视下自己?

下面就是我的证据:
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这段话是国家重大专项02专项技术副总师,北京华卓精科科技股份有限公司企业创始人朱煜博士说的,如果ASML一视同仁按照正常的供货排单的话你觉得他有必要这么说吗?
上面也仅仅说ASML排货的问题,还没说即使2,3年后ASML真的出货美国等会不会来卡你的问题


关于网站的问题不管是别的网站都这样,还是代码模板,亦或是台积电本来就是股东这都不是理由,以前国家对这种事不管那是以前,至少现在国家重视和严肃对待这个问题,发现一个就因该解决一个。
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CDer:001140379
发表于 2019-11-13 16:47 | 显示全部楼层
我们的光刻机曾经走了弯路,现在必须要补课,一步一步来吧。
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CDer:000038130
发表于 2019-11-13 22:48 | 显示全部楼层

RE: ASML否认断供光刻机,但中国企业想买难度很大,应着手研发新技术

zobe 发表于 2019-11-8 11:04
有没有可能绕过这个技术路线重新点一条科技树?就像3D打印一样?

中国男足勇夺世界杯的难度比这个低
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发表于 2019-11-15 05:49 | 显示全部楼层

RE: ASML否认断供光刻机,但中国企业想买难度很大,应着手研发新技术

谢谋 发表于 2019-11-13 08:40
http://www.elecfans.com/xinkeji/457924.html
2014年10月瑞典皇家诺贝尔奖委员会决定将当年的诺贝尔化 ...

像这种创新国内外一直都有,但是最后没有一个能走出实验室,要么其他组件匹配不上,要么实际应用存在硬伤。还是老老实实用euv。
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发表于 2019-11-15 05:56 | 显示全部楼层

RE: ASML否认断供光刻机,但中国企业想买难度很大,应着手研发新技术

havok 发表于 2019-11-13 14:07
前两天新闻说台积电最近批量订购了15台EUV,难道这15台都要2,3年后才能到货?

你说厂家按照下单顺 ...

瓦森纳协议没有强制约定,都是各国自己看着来,
ASML中国区总裁一年前就回应过了
“关于光刻机禁售中国这一说法,他表示这是不真实的,中国已经能用到的光刻机从来没有拿不到的情况”
“当时这三家厂商的投资背景是希望ASML加快研发脚步,早期他们进行投资,并做了很多技术准备,因此在新机台推出时能较早地用到设备。”
“实际上,整个光刻机的供应产能每年都在提高,按照订单排期,不存在不卖给中国的问题”
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发表于 2019-11-15 09:24 | 显示全部楼层

RE: ASML否认断供光刻机,但中国企业想买难度很大,应着手研发新技术

webweb 发表于 2019-11-15 05:49
像这种创新国内外一直都有,但是最后没有一个能走出实验室,要么其他组件匹配不上,要么实际应用存在硬伤 ...

浸润式光刻机之前,干式光刻机是最好的。
后来实验室里出现一种新技术,就是林本坚的浸润式技术。被业内视为异端。
如果不是ASML大胆试用,也许浸润式技术今天仍在实验室里。

乘波体导弹出现之前,旋成体是最好的。
美国人有乘波体实验室技术,试了几次,失败了。AGM183A又重回旋成体。
我们应该学美国人吗?





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发表于 2019-11-15 11:33 | 显示全部楼层

RE: ASML否认断供光刻机,但中国企业想买难度很大,应着手研发新技术

本帖最后由 havok 于 2019-11-15 11:57 编辑
webweb 发表于 2019-11-15 05:56
瓦森纳协议没有强制约定,都是各国自己看着来,
ASML中国区总裁一年前就回应过了
“关于光刻机禁售中国 ...


ASML自己的话不能作为证据,老黄卖瓜,缺乏公正性。而且你给的ASML这段话里说按照订单排期怎么解释?按订单先来后到排还是订单的大小级别排或者是别的排法?
再说我也没说ASML不卖光刻机给中国啊,他们的浸润式光刻机早就卖了。(瓦森纳协议是说最先进光刻机不卖,浸润式光刻机不是最先进的)
我说的是他们的最先进EUV光刻机在卖给中芯国际的时候故意往后拖交付的时间。白皮在全世界封锁中国早就是公开的行动是阳谋哪里是什么阴谋。
事实上像ASML这种企业他自己内部是怎么排单的是不可能公开的属于商业秘密,学过操作系统的人都应知道操作系统是一般按照任务的优先级来处理而不是先来后到,优先级高的甚至可以插队。
目前中芯国际有1年半未拿到EUV光刻机是事实,你觉得台积电在中芯国际之后下的单要等这么长时间吗

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发表于 2019-11-16 05:17 | 显示全部楼层

RE: ASML否认断供光刻机,但中国企业想买难度很大,应着手研发新技术

havok 发表于 2019-11-15 11:33
ASML自己的话不能作为证据,老黄卖瓜,缺乏公正性。而且你给的ASML这段话里说按照订单排期怎么解释?按 ...

说话不是放屁,要负责任的,真当中国是HelloKitty可以随意胡说八道呢
不管你按什么排,中国的订单都只能靠后,更何况台积电是股东,插队也无话可说。
你要真那么说,华为 海康这些现在早死了,日 英 德供应商故意拖2个月就能让你生产出现严重问题。事实是时代变了,虽然本质没变,但确实比十年前好太多了。
最后,我反正没听说过中芯国际新下过订单,这东西太贵了,没组织好生产计划前不会下单的。
总之,你说的也有道理。反正国家一直在自研,国家发展的决心也不会改变,慢慢耗着就行。
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发表于 2019-11-16 05:21 | 显示全部楼层

RE: ASML否认断供光刻机,但中国企业想买难度很大,应着手研发新技术

谢谋 发表于 2019-11-15 09:24
浸润式光刻机之前,干式光刻机是最好的。
后来实验室里出现一种新技术,就是林本坚的浸润式技术。被业内 ...

你举的例子都是少数成功。更加多数的都是死在实验室里的。
就好比新的电池技术,每年都有大量创新,一个比一个看上去牛逼,但没有一个成功突围。
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发表于 2019-11-16 10:22 | 显示全部楼层

RE: ASML否认断供光刻机,但中国企业想买难度很大,应着手研发新技术

本帖最后由 havok 于 2019-11-16 10:41 编辑
webweb 发表于 2019-11-16 05:17
说话不是放屁,要负责任的,真当中国是HelloKitty可以随意胡说八道呢
不管你按什么排,中国的订单都只能 ...


我说的是台积电最近新下的订单不是中芯国际,但这种消息的真实性存疑
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发表于 2019-11-16 12:53 | 显示全部楼层

RE: ASML否认断供光刻机,但中国企业想买难度很大,应着手研发新技术

havok 发表于 2019-11-15 11:33
ASML自己的话不能作为证据,老黄卖瓜,缺乏公正性。而且你给的ASML这段话里说按照订单排期怎么解释?按 ...

ASML的EUV光刻机会不会对中国断供?
我个人的看法是不会。如果荷兰人脑子够数的话(当然美国对荷兰有多大影响力也是变量因子)。
1.荷兰跟中国没有地缘战略冲突问题。从政治角度来看,没必要。
2.从经济角度看,ASML跟钱应该也没仇。有钱赚为什么不去赚?
3.从技术角度看,ASML巴不得中国走EUV技术路线,最好不要去搞什么新的技术路线(一旦搞出来ASML就死定了)。ASML已经押宝EUV,专利布局已经完成。中国就算是搞出EUV,第一技术上难以超过,第二也要给ASML们交专利费。何乐不为?
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