超级大本营军事论坛

 找回密码
 成为超大会员

QQ登录

只需一步,快速开始

查看: 1452|回复: 2
收起左侧

另一家多电子束光刻机生产企业,已宣告破产被ASML收购的欧洲Mapper公司

[复制链接]
CDer:000001437
发表于 2021-05-04 07:30 超大游击队员 | 显示全部楼层 |阅读模式

更多精彩专业军事内容,期待你的加入!

您需要 登录 才可以下载或查看,没有帐号?成为超大会员

x
本帖最后由 hswz 于 2021-05-04 07:50 编辑

https://www.eda365.com/article-130851-1.html
电子束光刻设备制造商Mapper进入破产程序,多家公司有兴趣收购
2020-4-21 16:06 | 查看:148 | 评论:0 | 来自



(如果您对收购MAPPER有兴趣,可以联系公众号的编辑以便给您提供更多的信息。)




2018年12月底,海外有消息传出,总部位于荷兰代尔夫特的新一代光刻机制造商Mapper Lithography Holding B.V. 已经进入破产清算阶段。其还款期延至2019年4月。






目前,Mapper Lithography能否再生尚不清楚。如果Mapper再生无望,其多电子束系统光刻技术的损失将非常可惜。

不过已有包括多家中国公司在内的全球买家对此收购有兴趣,但是,破产公司希望能够整体出售。

多电子束系统的优势和弱点

传统光刻的速度非常快,但有一个缺点:图形的分辨率(细节识别)受到光波长的限制,并且已经达到了一个极限。尽管如此,仍然可以使用其它先进技术来使得图像进一步缩小,但这些技术都是非常昂贵的。相应的机器和掩模也非常昂贵,只有当客户的产品需求达到一定的数量,制造商才能负担得起这样的机器和掩模花费。目前一台EUV光刻机的售价高达1.2亿欧元。

这就导致了一个问题:尽管新的光刻技术能够制备更小尺寸的芯片,但是只有少数的芯片公司能够承担如此巨大的制造费用。而对于小批量的产品的需求,就很难保证了。

电子束光刻可以满足小批量的产品的需求。电子束具有很高的分辨率,较大的焦深与灵活性。其主要特点就是可以独立地控制电子束书写,从而不需要掩模。这使得新设计芯片的启动成本很低,就使得小客户能够负担得起,能实现少量的投产。

既然有如此多的优势,那么为什么目前芯片生产中很少使用电子束光刻呢?原因在于控制电子束移动的速度远低于光速,因此芯片生产的过程要慢得多。

Mapper Lithography发展历程

Mapper Lithography的光刻机技术源自代尔夫特理工大学的1990年代的研究成果,2000年5月从代尔夫特理工大学进行剥离,并成立公司。

Arthur del Prado是Mapper Lithography的基石投资人。2001年Mapper Lithography进行了3.2亿欧元的融资,其中Arthur del Prado投资了1.8亿欧元。Arthur del Prado被誉为半导体装备产业之父,参与创办ASMI、ASML和Besi公司,从1964年到2008提担任ASMI的CEO。

2007年推出第一台演示机,证明了该技术的可行性;公司表示,已经验证了该设备可实现了大面积平行电子束绘制,并适用于32纳米技术。

2009年公司获得荷兰经济事务部下属SenterNoven机构多达1000万欧元(约合1470万美元)的补贴。公司将利用此笔补贴资金开发无掩模光刻试用版设备,将含有超过10000道平行电子束,从而将会在晶圆上直接形成图样,降低普通光刻设备上由于采用掩模版而带来的高昂成本。

2009年9月在法国的CEA-Leti安装300mm电子束无掩膜光刻设备,用于为期三年的Imagine计划,开发22nm及以下的IC制程技术。

2009年10月在台积电(TSMC) FAB12安装300mm多电子束无掩膜光刻工具,用于22nm工艺研发和器件原型制作;双方工程师们合力将电子束直写能力整合至工艺中,以供未来更先进的技术世代使用。

2013年俄罗斯纳米技术集团Rusnano提供8000万美元资金支持,2014年建立莫斯科制造工厂,2015年推出第一台示范机FLX-1200并成功安装于位于法国Grenoble的法国原子能委员会电子与信息技术实验室(CEA-LETI)进行测试,不过每天晶圆的产能只有3片。

Mapper的实力

据公开资料称,Mapper的多电子束系统的生产速度远远高于其他同类电子束技术。

Mapper通过大量增加电子束的数量来解决生产速度这个难题。据悉,Mapper的多电子束系统基于两项技术:一是使用电子光学系统来控制每条电子束的开关;二是应用一列MEMS透镜来精确聚焦平行电子束。Mapper的多电子束系统可以使得几十万个电子束在同一时间进行书写。这使得多电子束系统也适合于大规模量产芯片。

而且,Mapper的多电子束系统可以和传统光刻机并行使用,实现互补。即使在现有的生产流程中,也可以添加Mapper的多电子束系统,例如,可以使用多电子束曝光取代传统光刻,提高一个关键层的分辨率、增加一小块集成存储器的容量、或增加关键层的聚焦深度。这样做不仅能简化不同功能模块的集成工艺,甚至可以减少光刻层数;而且这种取代并不需要制备昂贵的掩模。

近年来,Mapper研发的重点都集中在提升生产速度,从而实现更高的产量,每年圆晶片设计产能超过5000片,甚至10,000片。

目前,市场上较小尺寸芯片在某些特定应用需求在不断增长,使得以产量为单一维度的衡量标准发生了变化:新设计芯片产能不超过1000片,甚至在某些情况下,其产能小于10片。这些芯片用于包括国防、安全或医疗领域,因为在这些领域对独特芯片的需求日益增长。

Mapper的第三代平台FLX,第一级模块有65000个子束流,与上一代的110个子束流相比这是一个巨大的飞跃,这个子束流的数目还可以进一步提高。FLX的设计着眼未来:支持分辨率、套刻误差、产能和衬底类型的可扩展方案。阵列设计可扩展到650000个子束流。设备占用空间小,保留有足够的维修和服务空间。每天40片或更高的产能在不远的将来就能实现。


在保持系统服务性及易操作性的同时,将多台机器集成为一体,可同时集成2-10个系统
集成的系统,使得单位面积内拥有更高的产出。

Mapper的多电子束系统是一套智能化且用途广泛的工具,能够使得很多新的应用成为可能。其中一项应用是在芯片硬件上直接植入安全系统,而不是通过软件编程的方式实现,这为芯片加密提供了更好的能力和更多的可能性,使得每一片芯片都能成为独特的存在。





『本文转载自网络,版权归原作者所有,如有侵权请联系删除』
最具影响力军事论坛-超级大本营军事论坛欢迎你!超然物外,有容乃大。
CDer:000001437
 楼主| 发表于 2021-05-04 07:38 超大游击队员 | 显示全部楼层
本帖最后由 hswz 于 2021-05-04 07:46 编辑

前ASML公司创始人老Del Prado退休后继续把毕生所得投入了主攻电子束光刻的Mapper Lithography,掀起了对“逆子”ASML的最后一战。

我们提到过,EUV在头十几年并不被看好,即使到了2015年包括英特尔台积电在内的各路专家也没觉得它能用。

Mapper公司是荷兰代尔夫特大学的嫡子,看过《光刻巨人》的朋友应该知道这相当于荷兰的清华。

Mapper的目标是用13260支电子束来提高“光”刻效率。Mapper不仅得到大量政府补贴,台积电也有投资并积极地在Fab配合试验。

浸入光刻先驱林本坚先生,是Mapper的拥护者。

检测和制程控制之王KLA,也是Mapper的投资机构。

鉴于这么多大佬都认为电子束光刻可行,我们也不能想当然认为EUV是唯一的出路。只是电子束要烧多少钱才能做出HVM产品和形成产业生态,没有人知道。

2016年老Del Prado同志与世长辞。Mapper失去了重要的行业影响大咖,他们的样机只做到2000支电子束并且存在很多问题。

在EUV前景逐渐明朗的情况下,努力了近20年的Mapper公司难以继续融资,并在2018年圣诞节后宣布破产。

仅一个月后,ASML迅速收购了Mapper的IP资产和收编了大多数研发人员,并关闭了这条产品线。虽说ASML也有电子束检测设备,但此举更像是对EUV曾经对手的斩草除根。

六、

今天,挂着“ASM”Logo的ALD设备生产的CPU,躺在我们大多数人的电脑或手机里。

ASM PT分拆独立的声音一直不绝于耳。作为一家扎根中国的香港上市公司,她为中国经济建设也做出了突出的贡献。

从二战日本集中营生还的Arthur Del Prado先生,去世后的遗产仍然在影响着我们的生活。
https://3g.163.com/dy/article/G1T8S3KU05312NX9.html?spss=adap_pc
最具影响力军事论坛-超级大本营军事论坛欢迎你!超然物外,有容乃大。
CDer:000001437
 楼主| 发表于 2021-05-04 07:49 超大游击队员 | 显示全部楼层
ASML收购的Mapper是什么来头?

半导体行业观察
2019-01-30
订阅
1月28日,荷兰光刻机制造商ASML官方宣布,收购其竞争对手荷兰代尔夫特的光刻机制造商Mapper的知识产权资产。同时,ASML的官方声明中还写到,将为Mapper在研发和产品装配方面的高技能员工提供合适的职位。ASML总裁兼首席执行官Peter Wennink表示:“我们非常尊重Mapper的专家,他们表现出极大的创造力和足智多谋。ASML重视他们的专业知识,我们期待着欢迎他们加入我们的组织。”



ASML官方声明


能够让光刻机巨头ASML如此亲睐,这个Mapper公司到底是什么来头?

天堂和地狱仅一步之遥

作为ASML的竞争对手,Mapper在2018年12月份被证实正式宣布破产,公司拥有270名员工和众多电子束光刻机相关的IP。

Mapper曾经以为自己找到了半导体制造行业的痛点,无奈研发能力跟不上,最终错过了好时机。和Mapper电子束光刻机对应的就是传统光刻,将掩模放置在光源和硅片之间,光线通过掩模照射到硅片上,使得掩模上的线条图形按一定比例缩小转移到硅片上。这个过程需要循环反复多次,加上晶圆制造需要多层光刻,一颗芯片可能要六十次以上,这样就造成了掩模的成本非常高昂,进而导致制造一颗新的芯片的成本急剧上升。

Mapper为了降低芯片制造商在掩模上的高昂费用,以及让光刻突破光波长的限制,选择使用电子束替代光源。电子束具有很高的分辨率、较大的焦深与灵活性。Mapper设备通过使用电子束书写而不再需要掩模,让芯片成本有望实现明显下降。

但是,电子束也有自身的缺陷,就是速度比光源光刻要慢很多,Mapper通过大量增加电子束的数量来解决这个难题。光刻机的分辨率通常在十几纳米至几微米之间,这就需要极高的工艺来保证几十万个电子束能够精准的控制,研发和制造的难度都极大。

2009年,有外媒报道,由于技术上的原因,Mapper原计划交付给台积电的300mm光刻设备延期,当时给出的延期时间是一个季度,让台积电的制程研发受到了影响。而当时台积电准备转入的工艺制程是32nm。随着工艺不断精进,以及芯片上电路日益复杂,控制精度和电子束数量增长带来的难度并不亚于EUV光刻机光源功率的增加,Mapper显然没有攻克难题。

2011年,当时的代工三巨头台积电、英特尔和格罗方德其实更倾向于无掩模光刻技术,认为无掩模技术显得更适合作为下一代光刻技术使用。但是,由于无掩模技术,包括电子束光刻的研发遇到了困境,三家公司才又将目光移回到EUV光刻,此前由于担心EUV光刻成本太高以及曝光率等问题三家公司对此并不热情。

所以,16nm成了光源光刻和电子束光刻的分水岭,ASML从此名震天下,拿到光刻机市场78%的份额,Mapper一蹶不振以至于破产被收购资产。ASML的EUV光刻机是目前市场上最先进的设备,能够用于晶圆代工厂的7nm制程,其他厂商在这一点上难以望其项背。



ASML的“垄断地位”得到巩固

在2018年底,ASML只是众多对Mapper收购感兴趣的公司之一,如今如愿以偿得到Mapper的IP和员工,ASML可谓是如虎添翼。

首先,光刻机行业是技术壁垒极高的行业,能够吸纳Mapper的人才,解决了ASML的人才招聘苦恼。Peter Wennink表示:“Mapper员工也将有机会参与我们激动人心且具有挑战性的下一代芯片制造计划,即EUV和EUV High-NA。多年来积累的Mapper的知识产权和知识现在将用于荷兰的进一步创新。”

另外,虽然EUV光刻机已经量产出售给客户,但是EUV光刻机需要250瓦的光源和125WPH的效率,这让设备的生产受到极大的限制,也让设备的成本非常的高昂。并且250瓦光源只能支撑到5nm,到了3nm将需要500瓦的光源,这对ASML的研发提出极高的挑战。

因此,收购Mapper的IP无疑给自己的未来增加了更多的可能。

ASML有一个规定值得大家注意,那就是只有投资ASML,才能够获得优先供货权。ASML可以借助客户的投资在EUV光源和电子束光刻上双管齐下,保证自己在光刻机行业的垄断地位。

文/半导体行业观察 吴子鹏
https://m.sohu.com/a/292367022_132567/?pvid=000115_3w_a
最具影响力军事论坛-超级大本营军事论坛欢迎你!超然物外,有容乃大。
您需要登录后才可以回帖 登录 | 成为超大会员

本版积分规则

监狱|手机|联系|超级大本营军事论坛 ( 京ICP备13042948号 | 京公网安备11010602010161 )

声明:论坛言论仅代表网友个人观点,不代表超级大本营军事网站立场

Powered by Discuz © 2002-2021 超级大本营军事网站 CJDBY.net (违法及不良信息举报电话:13410849082)

最具影响力中文军事论坛 - Most Influential Chinese Military Forum

GMT+8, 2021-05-09 09:48 , Processed in 0.016777 second(s), 5 queries , Gzip On, Redis On.

快速回复 返回顶部 返回列表