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未来几年 如何在没有 Euv光刻机的条件下推进7纳米以下工艺研究?

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CDer:000424960
发表于 2021-01-02 00:36 超大游击队员 | 显示全部楼层 |阅读模式

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本帖最后由 sailormoons 于 2021-01-02 00:55 编辑

大家都知道要维持科研团队,科研工作不能停不能断。
很可能未来几年我们依然买不到Euv光刻机,国产euv也需要几年时间才能推出。在这期间如何维持7纳米以下工艺科研团队?如何推进相关科研?
希望大家能讨论。

中芯被限制了 我们还有别的企业 甚至可以在国内专门建立白手套企业,但是目前的问题是不光中芯国际买不到eUV,其他国内企业很可能也无法买到。
可不可以到国外投资办工厂和研究中心?只怕这依然很难避开美国封锁。

可能真的要靠国产eUV光刻机了。不知道要等多久?
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CDer:000767685
发表于 2021-01-02 07:17 超大游击队员 | 显示全部楼层
明修栈道,暗渡陈仓
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CDer:001126700
发表于 2021-01-02 08:55 超大游击队员 | 显示全部楼层
EUV又不是必须的,7+用EUV,7就不需要
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CDer:001200112
发表于 2021-01-02 09:15 超大游击队员 | 显示全部楼层
只能靠自研了,别老想着买
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发表于 2021-01-02 09:24 超大游击队员 | 显示全部楼层
研究实际上并不存在障碍,用电子束可以比光刻精度更高,只不过这玩意实在没效率,目前没有转化为商业的基础。
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CDer:001164713
发表于 2021-01-02 09:54 | 显示全部楼层
之前的euv研发是基于原型机或者大型同步光源来推进的,不一定非要用商用euv光刻机
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CDer:000424960
 楼主| 发表于 2021-01-12 10:41 超大游击队员 | 显示全部楼层
wibr384 发表于 2021-01-12 10:12
晕倒................................


请问这是什么意思?您的观点是什么?
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CDer:001201032
发表于 2021-01-12 12:26 超大游击队员 | 显示全部楼层
lijiasheng1984 发表于 2021-01-02 09:54
之前的euv研发是基于原型机或者大型同步光源来推进的,不一定非要用商用euv光刻机

euv之后如果有下一代的话是否是使用同步光源的软X射线?
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CDer:001169128
发表于 2021-01-12 12:53 超大游击队员 | 显示全部楼层
忠义无双张邦昌 发表于 2021-01-12 12:26
euv之后如果有下一代的话是否是使用同步光源的软X射线?

不太可能了,现在随着尺寸越来越小,已经越来越到极限了,下一代就是超分辨光刻了
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发表于 2021-01-12 12:53 超大游击队员 | 显示全部楼层
可否购买荷兰的EUV光刻机,但是把美国零部件拆了,留着不要即可。
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CDer:001200918
发表于 2021-01-12 14:00 | 显示全部楼层
好像euv光刻机光源和工件台都搞定了,就是物镜现在精密度还不够。有专家推测三年国内能搞定。大家可以看看汪涛老师介绍,微信公众号纯科学。
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 楼主| 发表于 2021-01-12 15:39 超大游击队员 | 显示全部楼层
zizhulin010 发表于 2021-01-12 14:00
好像euv光刻机光源和工件台都搞定了,就是物镜现在精密度还不够。有专家推测三年国内能搞定。大家可以看看 ...

谢谢推荐 这就去学习
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CDer:001199091
发表于 2021-01-12 19:36 超大游击队员 | 显示全部楼层
增大产能,降低费用
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CDer:000544289
发表于 2021-01-12 22:47 超大游击队员 | 显示全部楼层
EUV的目的是增加的可操作性,在开发7nm以下的工艺要相对容易些。
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CDer:001202884
发表于 2021-01-12 23:23 超大游击队员 | 显示全部楼层
科技迷 发表于 2021-01-02 09:15
只能靠自研了,别老想着买

自研是肯定少不了的,同时多个方案同时推进,其中最快见效的可能是和欧洲合作,推出不含有美国技术的光刻机,比如asml的EUV光刻机上有美国的光源系统,如果我们搞定了这个光源,可以和他们讨论一下换掉美国的光源,大概就是这个操作。
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CDer:001095999
发表于 2021-01-13 00:36 | 显示全部楼层

RE: 未来几年 如何在没有 Euv光刻机的条件下推进7纳米以下工艺研究?

啥也博士 发表于 2021-01-12 23:23
自研是肯定少不了的,同时多个方案同时推进,其中最快见效的可能是和欧洲合作,推出不含有美国技术的光刻 ...

我觉得趁现在特朗普政府交接期正乱顾不过来的时期,我们应该跟ASML谈判,让他们交付中芯国际之前订的那台EUV光刻机。等拜登上台了也许不追究了。
前面有网友说我们光源已经搞定了,那也可以按你说的跟荷兰人去交涉给我们没有美国技术的EUV光刻机。
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CDer:001164713
发表于 2021-01-13 16:11 | 显示全部楼层

RE: 未来几年 如何在没有 Euv光刻机的条件下推进7纳米以下工艺研究?

忠义无双张邦昌 发表于 2021-01-12 12:26
euv之后如果有下一代的话是否是使用同步光源的软X射线?

有一个公认的路线是电子束直写,把原先的少量电子束扩大了数万个电子束来提高直写效率,日本这块比较上心,但是效率还是低,现在仍然是用来刻写光罩
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CDer:000024460
发表于 2021-01-13 18:43 超大游击队员 | 显示全部楼层
真能把7nm做好就够了,现在5nm翻车,3nm困难
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