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CDer:000946529 楼主: 1771964382
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为什么就是没人敢正面回答我的问题

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CDer:001118429
发表于 2020-07-04 21:57 | 显示全部楼层

RE: 为什么就是没人敢正面回答我的问题

楼主问的问题实质就是能否有一个全国产的可以使用18英寸晶圆的生产线,给你一个目前可以做到全国产的生产线的设备消息


       晶圆拉制         新美光   https://news.mydrivers.com/1/698/698337.htm  

       晶圆切割         中国长城 https://baijiahao.baidu.com/s?id=1670377505442273734&wfr=spider&for

      高能离子注入机  中国电科技 https://tech.sina.com.cn/roll/2020-07-01/doc-iirczymk9886516.shtml

      清洗液   北京化工大学、新疆天业(集团)有限公司  https://lt.cjdby.net/forum.php?mod=viewthread&tid=2632521&extra=page%3D1

      光刻胶   南大光电   https://baijiahao.baidu.com/s?id=1667987651070082441&wfr=spider&for=pc

     刻蚀机   中微       https://baijiahao.baidu.com/s?id=1670303236891591489&wfr=spider&for=pc

     光刻机   上微       https://www.3dmgame.com/news/202006/3790515.html

    目前我所知到的制造全流程的企业只有芯恩(青岛)集成电路有限公司,董事长张汝京

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CDer:000284559
发表于 2020-07-05 10:11 超大游击队员 | 显示全部楼层
这是开创新战场用的东西,不是替代谁。
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CDer:000767685
发表于 2020-07-06 17:25 | 显示全部楼层
为啥我莫名其妙被警告了?
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CDer:001059751
发表于 2020-07-06 17:36 超大游击队员 | 显示全部楼层
18寸线主要是降低成本,又不是提高制程……
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CDer:001059751
发表于 2020-07-06 17:38 超大游击队员 | 显示全部楼层
1771964382 发表于 2020-07-03 17:17
有用为什么这么多年了,没有人用,可见的未来,没有厂商计划建18寸的晶圆厂,这就是现实,18寸的技术优势 ...

那是因为做18寸降低的成本不如在现有生产线外新开线的成本。
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CDer:001103170
发表于 2020-07-06 20:31 超大游击队员 | 显示全部楼层
chenxich 发表于 2020-07-03 23:35
台湾台积电有5nm产线,今年量产,你这18寸硅片有哪家晶圆厂买来用?连搬运18寸晶圆的天车都没有,难道 ...

今年不用明年用啊
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CDer:001103170
发表于 2020-07-06 20:33 超大游击队员 | 显示全部楼层
chenxich 发表于 2020-07-03 23:31
比如晋江,做运动鞋的想改行做芯片,结果。。。。

国外也要开发18寸鬼片了
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CDer:000667296
发表于 2020-07-06 21:11 | 显示全部楼层
硅片厂,晶圆厂,总要有一个先搞出来。。
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CDer:000038130
发表于 2020-07-07 19:24 | 显示全部楼层

RE: 为什么就是没人敢正面回答我的问题


你来用?打个比方,有18寸的轮胎,没18寸的轮毂,也没人生产18寸的轮毂,你把18寸的轮胎装到12寸的轮毂上试试
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CDer:000284559
发表于 2020-07-07 22:41 超大游击队员 | 显示全部楼层
chenxich 发表于 2020-07-07 19:24
你来用?打个比方,有18寸的轮胎,没18寸的轮毂,也没人生产18寸的轮毂,你把18寸的轮胎装到12寸的轮毂上 ...

别人不生产,中国自己生产呗!
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CDer:000038130
发表于 2020-07-08 10:09 | 显示全部楼层

RE: 为什么就是没人敢正面回答我的问题

浮岛 发表于 2020-07-07 22:41
别人不生产,中国自己生产呗!

空口白话,天上就掉馅饼?谁出钱?谁来做?谁买单?12寸的轮毂自己都还造不出来,想玩空中楼阁,好高骛远?
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CDer:000284559
发表于 2020-07-08 10:51 超大游击队员 | 显示全部楼层
chenxich 发表于 2020-07-08 10:09
空口白话,天上就掉馅饼?谁出钱?谁来做?谁买单?12寸的轮毂自己都还造不出来,想玩空中楼阁,好高骛远 ...

天上不掉馅饼,自已可以做馅饼!
自己种地养猪,自己烙饼,自已享受美食。
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CDer:001126700
发表于 2020-07-08 11:32 超大游击队员 | 显示全部楼层
硅片面积大,一次光照片上die的数量就多,所以成本能下降,就好比原来一次做500个现在一次做1000个。但是硅片面积大了,必然会有边缘位置die良率问题,因为光照衍射的缘故,以前用液浸,现在用EUV,都是为了克服衍射问题。所以,还是成本问题,如果美帝完全对天朝ic企业禁止代工,那么12寸甚至8寸都没问题,因为已经不是成本问题了,而是有没有的问题?

楼主是哪个学校的double e?double e专业多了去了,当年我们学校电子工程系本科就分,电子学,微电子,通讯,研究生阶段那就更多了,微电子粘点边吧,实际上,fab厂里,非博士动不了参数,其他的就去产线上站着吧,和高级富士康一样。
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CDer:000038130
发表于 2020-07-08 11:43 | 显示全部楼层

RE: 为什么就是没人敢正面回答我的问题

浮岛 发表于 2020-07-08 10:51
天上不掉馅饼,自已可以做馅饼!
自己种地养猪,自己烙饼,自已享受美食。

现在画大饼谁都会,就是没人做大饼,就是因为没人做大饼,才指望着天上掉馅饼
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CDer:000038130
发表于 2020-07-08 11:45 | 显示全部楼层

RE: 为什么就是没人敢正面回答我的问题

变身国王 发表于 2020-07-08 11:32
硅片面积大,一次光照片上die的数量就多,所以成本能下降,就好比原来一次做500个现在一次做1000个。但是硅 ...


semi测算过,18寸fab比12寸fab,成本下降只有8%,性价比提升不明显,台积电、三星、英特尔这几个行业龙头不干,所以国外当初搞的G450C联盟就歇菜了
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CDer:001092023
发表于 2020-07-08 11:51 超大游击队员 | 显示全部楼层
人家投钱建厂的都不如你个路过看热闹的,一个五百万的小事都把会计师,律师,法官弄一起聊了好几场,何况这样的大项目
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CDer:001118429
发表于 2020-07-08 14:55 | 显示全部楼层

RE: 湿气重,这件事怎么用科学来理解?

变身国王 发表于 2020-07-08 11:32
硅片面积大,一次光照片上die的数量就多,所以成本能下降,就好比原来一次做500个现在一次做1000个。但是硅 ...

苏州纳米所联合国家纳米中心在超高精度激光光刻技术上取得重要进展

        亚10nm的结构在集成电路、光子芯片、微纳传感、光电芯片、纳米器件等技术领域有着巨大的应用需求(图1),这对微纳加工的效率和精度提出了许多新的挑战。激光直写作为一种高性价比的光刻技术,可利用连续或脉冲激光在非真空的条件下实现无掩模快速刻写,大大降低了器件制造成本,是一种有竞争力的加工技术。然而,长期以来激光直写技术由于衍射极限以及邻近效应的限制,很难做到纳米尺度的超高精度加工。近期,中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所张子旸研究员与国家纳米中心刘前研究员合作,在Nano Letters上发表了题为“5 nm Nanogap Electrodes and Arrays by a Super-resolution Laser Lithography”的研究论文,报道了一种他们开发的新型5 nm超高精度激光光刻加工方法(DOI: 10.1021/acs.nanolett.0c00978)。
中科院苏州纳米所张子旸研究员团队长期从事微纳加工技术的开发、高速光通信半导体激光器、超快激光器等的研制工作(ACS Photonics 6, 1581, 2019; Light. Sci. Appl. 6,17170, 2018; ACS Photonics, 5, 1084,2018, Adv. Opt. Photon., 2, 201, 2010; 授权专利:106449897B);国家纳米中心刘前团队长期从事微纳加工方法及设备的创新研究,发展出了多种新型微纳加工方法和技术(专著:Novel Optical Technologies for Nanofabrications; Nano Letters 17,1065,2017; Nature comm. 7,13742,2016; Adv. Mater. 24,3010,2012; 授权专利:美国US 2011/0111331 A1和日本J5558466)。
本研究中使用了研究团队所开发的具有完全知识产权的激光直写设备,利用了激光与物质的非线性相互作用来提高加工分辨率,其有别于传统的缩短激光波长或增大数值孔径的技术路径;并打破了传统激光直写技术中受体材料为有机光刻胶的限制,可使用多种受体材料,极大地扩展了激光直写的应用场景。
本项工作中,研究团队针对激光微纳加工中所面临的实际问题出发,很好地解决了高效和高精度之间的固有矛盾,开发的新型微纳加工技术在集成电路、光子芯片、微机电系统等众多微纳加工领域展现了广阔的应用前景。
  
       本工作中,基于光热反应机理,研究团队设计开发了一种新型三层堆叠薄膜结构。在无机钛膜光刻胶上,采用双激光束(波长为405 nm)交叠技术(见图2a),通过精确控制能量密度及步长,实现了1/55衍射极限的突破(NA=0.9),达到了最小5 nm的特征线宽。此外,研究团队还利用这种超分辨的激光直写技术,实现了纳米狭缝电极阵列结构的大规模制备(如图2b-c)。相较而言,采用常规聚焦离子束刻写,制备一个纳米狭缝电极需要10到20分钟,而利用本文开发的激光直写技术,可以一小时制备约5×105个纳米狭缝电极,展示了可用于大规模生产的潜力。
纳米狭缝电极作为纳米光电子器件的基本结构,有着极为广泛的应用。在本研究中,该团队还利用发展的新技术制备出了纳米狭缝电极为基本结构的多维度可调的电控纳米SERS传感器。可在传感器一维方向上对反应“热点”完成定点可控,实现了类似逻辑门“0”、“1”信号的编码和重复(图3a-b),并可通过狭缝间距和外加电压的改变,实现了对反应“热点”强度的精确可调(图3c-d),这对表面科学和痕量检测等研究有着重要的意义。
  
       该论文第一作者为中科院苏州纳米所与中国科学技术大学联合培养硕士研究生秦亮。中科院苏州纳米所与兰州大学联合培养的博士研究生黄源清和青岛大学物理学院夏峰为文章的共同第一作者。张子旸研究员和刘前研究员为论文的通讯作者。本工作得到了国家重点研究计划项目(2016YFA0200403)、国家自然科学基金(No.62875222、11874390、51971070)、Eu-FP7项目(No.247644)、中国博士后科学基金(2017M612182)的支持。

       http://klnhf.nanoctr.cas.cn/jz/202007/t20200708_567329.html

       这个光刻机将使我国一举跨越了EUV的障碍


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CDer:001103170
发表于 2020-07-08 20:55 超大游击队员 | 显示全部楼层
chenxich 发表于 2020-07-08 11:43
现在画大饼谁都会,就是没人做大饼,就是因为没人做大饼,才指望着天上掉馅饼

在家躺着被美国吓死吧
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CDer:000038130
发表于 2020-07-09 09:59 | 显示全部楼层

RE: 为什么就是没人敢正面回答我的问题

狐蝠狐蝠狐蝠A 发表于 2020-07-08 20:55
在家躺着被美国吓死吧

你就是指望天上掉馅饼的之一,所以先自己给自己画个大饼,好像自己画的饼有多大天上掉的就有多大似的
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发表于 2020-07-09 20:27 超大游击队员 | 显示全部楼层
chenxich 发表于 2020-07-09 09:59
你就是指望天上掉馅饼的之一,所以先自己给自己画个大饼,好像自己画的饼有多大天上掉的就有多大似的

不画也可以,跟着欧美屁股走
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CDer:000038130
发表于 2020-07-09 22:18 | 显示全部楼层

RE: 为什么就是没人敢正面回答我的问题

js530408 发表于 2020-07-08 14:55
苏州纳米所联合国家纳米中心在超高精度激光光刻技术上取得重要进展

        亚10nm的结构在集成电路、 ...


“这个光刻机将使我国一举跨越了EUV的障碍”----------本文中,哪一句话哪一个词提到EUV了?
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CDer:001118429
发表于 2020-07-10 01:01 | 显示全部楼层

RE: 为什么就是没人敢正面回答我的问题

chenxich 发表于 2020-07-09 22:18
“这个光刻机将使我国一举跨越了EUV的障碍”----------本文中,哪一句话哪一个词提到EUV了?

看来你都不知道EUV的障碍是什么,这篇文章都讲了实现了1/55衍射极限的突破这个就是极紫外光遇到的问题,这篇文章谈激光直写作为一种高性价比的光刻技术,可利用连续或脉冲激光在非真空的条件下实现无掩模快速刻写,大大降低了器件制造成本,是一种有竞争力的加工技术。然而,长期以来激光直写技术由于衍射极限以及邻近效应的限制,很难做到纳米尺度的超高精度加工。
      
         再给你一篇文章的节选尽管如今电源方面的挑战已经在很大程度上被攻克了,但这并不意味着EUV光刻可以完美运行。实际上,光掩模还存在着一些问题。这些EUV掩模与用于193纳米光刻的掩模完全不同,EUV掩模利用由不同材料组成的数十个纳米层反射光线,而不是透射光线。实际上,它们还有很多不完善的地方,很难发现也很难避免。此外,通常用于保护光刻掩模免受灰尘侵害的透明覆盖薄膜——“保护膜”——也尚不能用于EUV。

       保护膜是非常重要的,因为即使在EUV机器(处于顶级的无尘室内)内部的超净环境内,制造过程中仍然会产生一些灰尘。落在光掩模上的灰尘微粒,可能会在每一个完成的芯片上形成足以毁掉整个装置的阴影,使相当昂贵的掩模变得分文不值。

       这就是为什么在今天的光刻工具中,光掩模会覆盖一层透明的保护膜。这层保护膜相当于掩模的安全眼镜,但如今这些保护膜对EUV是不透明的。

       http://www.ymcall.com/artinfo/888004848886644040.html

       要想适用于EUV,保护膜必须有超薄的膜衣,让其透明,但又必须有足够的强度承受来自光掩模正常扫描运动的机械冲击,以及伴随高能EUV辐射产生的热冲击。


         
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CDer:000038130
发表于 2020-07-10 16:53 | 显示全部楼层

RE: 为什么就是没人敢正面回答我的问题

js530408 发表于 2020-07-10 01:01
看来你都不知道EUV的障碍是什么,这篇文章都讲了实现了1/55衍射极限的突破这个就是极紫外光遇到的问题, ...

这东西就是用来做做光栅、mems、光器件一类的器件,无法替代商用EUV在IC制造上的光刻工艺
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CDer:001118429
发表于 2020-07-10 20:15 | 显示全部楼层
本帖最后由 js530408 于 2020-07-10 20:17 编辑

       这段话本项工作中,研究团队针对激光微纳加工中所面临的实际问题出发,很好地解决了高效和高精度之间的固有矛盾,开发的新型微纳加工技术在集成电路、光子芯片、微机电系统等众多微纳加工领域展现了广阔的应用前景。

       他充分说明了可以运用于集成电路而且主要是针对此研究的
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