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光刻机行业研究框架 —— 专题报告

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CDer:000176026
发表于 2020-07-01 02:28 | 显示全部楼层 |阅读模式

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本帖最后由 tonyget 于 2020-07-01 02:30 编辑

半导体行业专题报告:光刻机行业研究框架.part1.rar (5 MB, 下载次数: 40)
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CDer:000400635
发表于 2020-07-01 06:13 超大游击队员 | 显示全部楼层
好文 吗后再看……
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CDer:001167536
发表于 2020-07-01 08:42 超大游击队员 | 显示全部楼层
上海微电子的28nm节点的光刻机真能下线才能松口气,否则真会被憋死
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CDer:000767685
发表于 2020-07-01 08:49 | 显示全部楼层
证券公司的PPT
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CDer:001120666
发表于 2020-07-01 08:54 | 显示全部楼层
光刻机研发,时不待我只争朝夕!
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CDer:000013267
发表于 2020-07-01 09:13 | 显示全部楼层
sp好厉害的样子,那么这东西是不是可以生产了?
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CDer:001093855
发表于 2020-07-01 11:25 | 显示全部楼层
好文
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CDer:000037176
发表于 2020-07-01 12:12 | 显示全部楼层
非常希望看到北大路风教授团队发表的关于半导体产业发展的相关调研报告,当年他们撰写的《中国大型飞机发展战略研究报告》真是一鸣惊人,后来中国军民用大型飞机的发展完全就是按照报告的思路原封不动进行的。
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CDer:000176026
 楼主| 发表于 2020-07-01 16:28 | 显示全部楼层
其实我有一点不太明白,按照文中所说,预计于2020年12月验收的193nmArF浸没式DUV光刻机,对标ASML最强DUV光刻机Twinscan NXT2000i。但是为啥ASML的NXT2000i能最高做到7nm制程,而国产这个只能做到28nm?

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CDer:001155804
发表于 2020-07-01 16:56 | 显示全部楼层

RE: 光刻机行业研究框架 —— 专题报告

tonyget 发表于 2020-07-01 16:28
其实我有一点不太明白,按照文中所说,预计于2020年12月验收的193nmArF浸没式DUV光刻机,对标ASML最强DUV光 ...

我也是地道的外行哈!就我理解的是:DUV光刻机都是用193nm的光源,根据技术可以做到一次曝光做28nm的芯片,多次曝光极限可以做7nm的芯片。
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CDer:001112352
发表于 2020-07-01 17:15 | 显示全部楼层

RE: 光刻机行业研究框架 —— 专题报告

tonyget 发表于 2020-07-01 16:28
其实我有一点不太明白,按照文中所说,预计于2020年12月验收的193nmArF浸没式DUV光刻机,对标ASML最强DUV光 ...

国产这个Overlay差了一点儿
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CDer:001131932
发表于 2020-07-01 20:54 | 显示全部楼层
收藏了,先看看,长点知识,再评论
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CDer:000159547
发表于 2020-07-02 09:18 | 显示全部楼层

RE: 光刻机行业研究框架 —— 专题报告

tonyget 发表于 2020-07-01 16:28
其实我有一点不太明白,按照文中所说,预计于2020年12月验收的193nmArF浸没式DUV光刻机,对标ASML最强DUV光 ...

镜头、工件台、测量、定位.......一大堆东西都有差距,能从28NM起步已经相当不错。
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CDer:000159547
发表于 2020-07-02 09:19 | 显示全部楼层

RE: 光刻机行业研究框架 —— 专题报告

Guigui123 发表于 2020-07-01 16:56
我也是地道的外行哈!就我理解的是:DUV光刻机都是用193nm的光源,根据技术可以做到一次曝光做28nm的芯片 ...

你说的是理论上,但是实际能不能做到还需要光刻机和工艺的支持。ASML+台积电经典组合并不是那么容易复制的。
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CDer:001093855
发表于 2020-07-02 09:47 | 显示全部楼层

RE: 光刻机行业研究框架 —— 专题报告

tonyget 发表于 2020-07-01 16:28
其实我有一点不太明白,按照文中所说,预计于2020年12月验收的193nmArF浸没式DUV光刻机,对标ASML最强DUV光 ...

我们应该也能7纳米

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