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CDer:000921248 楼主: 大脚车
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打破日美垄断 国产ArF光刻胶取得重大突破:可用于7nm工艺

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CDer:000114850
发表于 2020-05-27 07:11 超大游击队员 | 显示全部楼层

Re.打破日美垄断 国产ArF光刻胶取得重大突破:可用于7nm工艺

雕塑时光 发表于 2020-05-26 11:25:34
据说28纳米的光刻机上微年底就可以出来了,多次曝光可以达到7nm。刻蚀机中微已经有5nm的了。
中微5nm是介质蚀刻机,世界一流。硅蚀刻机目前国内是北方华创,能做到14nm但性能上与一流水准差距较大。最后是金属蚀刻机,这种机台国内还没有龙头企业
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CDer:000949117
发表于 2020-05-27 07:40 超大游击队员 | 显示全部楼层
zjdyxd1 发表于 2020-05-25 06:08
那么请问新的光刻胶是如何在原来的客户那里进行验证的呢?难不成客户重新建一条线来用于验证光刻胶?以后 ...

没必要和这样的人讨论。
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CDer:000019305
发表于 2020-05-28 00:01 超大游击队员 | 显示全部楼层
到底是个什么“互动平台” ???????
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CDer:001128886
发表于 2020-05-28 12:29 | 显示全部楼层
这算是打北京科华的脸吗
当年对我趾高气昂,今天让你高攀不起
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