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上海微电子新前道光刻机(SSB800系列)外观设计

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CDer:000413886
发表于 2019-11-9 11:05 | 显示全部楼层 |阅读模式

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本帖最后由 havok 于 2019-11-10 11:20 编辑

近期SMEE公开了一项新前道光刻机的外观设计专利:SSB800  
根据SMEE惯例SSB曝光光源是i-line、800是最新的型号,根据采用光源的不同应该还有SSA800(ArF)、SSC800(KrF)等型号。
专利中的简要说明:
        1.本外观设计产品的名称:光刻机(SSB800系列)。2.本外观设计产品的用途:本外观设计产品用于半导体产线前道生产。
        3.本外观设计产品的设计要点:在于产品的色彩与形状、图案的结合。4.最能表明本外观设计设计要点的图片或照片:设计1立体图。
        5.省略视图:设计1、设计2仰视图为不常见视图,故省略。6.请求保护的外观设计包含色彩。7.指定基本设计:设计1。

目前SMEE官网并无这种光刻机的信息
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CDer:001157920
发表于 2019-11-9 11:11 | 显示全部楼层
这东西外表看起来一般但里面蕴含的科技含量令人恐惧
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CDer:001112352
发表于 2019-11-9 12:08 | 显示全部楼层
强!SMEE厉害!
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CDer:001120666
发表于 2019-11-9 12:12 | 显示全部楼层
外观还是挺漂亮的,希望里子和面子一样有型
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发表于 2019-11-9 12:12 | 显示全部楼层
外观还是挺漂亮的,希望里子和面子一样有型
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CDer:000159547
发表于 2019-11-9 12:25 | 显示全部楼层
光源和镜头是谁的?现在的问题是我们的IC生产线都不多,应用经验都不足,不能形成正反馈给光刻机的改进设计。
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CDer:000460126
发表于 2019-11-9 12:32 | 显示全部楼层
这能加工几NM的芯片?
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CDer:000342103
发表于 2019-11-9 12:42 | 显示全部楼层
这种设备要什么外观设计专利?难道颜值高了就好卖?
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CDer:000475637
发表于 2019-11-9 13:18 | 显示全部楼层
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 楼主| 发表于 2019-11-9 13:21 | 显示全部楼层

RE: 上海微电子新前道光刻机(SSB800系列)外观设计

fireeyes 发表于 2019-11-9 12:25
光源和镜头是谁的?现在的问题是我们的IC生产线都不多,应用经验都不足,不能形成正反馈给光刻机的改进设计 ...

光源科益虹源  镜头国望光学  这两家最近都有些动作
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 楼主| 发表于 2019-11-9 13:29 | 显示全部楼层

RE: 上海微电子新前道光刻机(SSB800系列)外观设计

lizhiling 发表于 2019-11-9 12:32
这能加工几NM的芯片?

具体参数不知道,但这个型号就是以前一直说的国产28nm节点光刻机的型号,跟90nm的不同这个是要批量生产的
我之前发过的一张图,看图的右上就知道了
timg77 (1).jpg
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发表于 2019-11-9 13:49 | 显示全部楼层

RE: 上海微电子新前道光刻机(SSB800系列)外观设计

havok 发表于 2019-11-9 13:29
具体参数不知道,但这个型号就是以前一直说的国产28nm节点光刻机的型号,跟90nm的不同这个是要批量生产的 ...

研发人员还不到100人啊.
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CDer:001086487
发表于 2019-11-9 14:02 超大游击队员 | 显示全部楼层
lizhiling 发表于 2019-11-9 13:49
研发人员还不到100人啊.

这个应该是一个部件研究企业的人数
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CDer:001066113
发表于 2019-11-9 14:10 超大游击队员 | 显示全部楼层

Re.上海微电子新前道光刻机(SSB800系列)外观设计

要是鬼子有机会摆脱美国,tg能跟佳能尼康合作一把,我感觉跟asml有得一战
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CDer:001158782
发表于 2019-11-9 14:30 超大游击队员 | 显示全部楼层

Re.上海微电子新前道光刻机(SSB800系列)外观设计

jeandja 发表于 2019-11-09 14:10:52
要是鬼子有机会摆脱美国,tg能跟佳能尼康合作一把,我感觉跟asml有得一战
你分析的很有道理。
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CDer:000159547
发表于 2019-11-9 15:38 | 显示全部楼层
这个光刻机最高可以支持多少NM的芯片?
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 楼主| 发表于 2019-11-9 15:53 | 显示全部楼层

RE: 上海微电子新前道光刻机(SSB800系列)外观设计

本帖最后由 havok 于 2019-11-9 16:03 编辑
lizhiling 发表于 2019-11-9 13:49
研发人员还不到100人啊.


图片里这家浙江公司只是负责光刻机浸没液体研发和量产的
还有一家负责光刻机双工件台的华卓精科的新大楼也建好了
微信图片_20191109152309.jpg

我个人觉得进度最慢的可能是负责镜头的国望光学,但国望光学的新研发基地是规模最大的一个

另外南大光电负责的193nm光刻胶量产线进度也比较快,年底建成。
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CDer:000667296
发表于 2019-11-9 15:53 | 显示全部楼层
这么高科技含量的东西,真不懂申请个外观专利有啥意义,
更何况,这个外观也不怎么出彩,能山寨出这个机器的,也没必要山寨你这个外观,
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CDer:000667296
发表于 2019-11-9 15:53 | 显示全部楼层
这么高科技含量的东西,真不懂申请个外观专利有啥意义,
更何况,这个外观也不怎么出彩,能山寨出这个机器的,也没必要山寨你这个外观,
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CDer:000677519
发表于 2019-11-9 16:10 超大游击队员 | 显示全部楼层
gdwmcy 发表于 2019-11-9 15:53
这么高科技含量的东西,真不懂申请个外观专利有啥意义,
更何况,这个外观也不怎么出彩,能山寨出这个机器 ...

他自己不申请外观,给别人申请吗?被人抢先了,再花钱买回来?或者再改外观?
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CDer:000413886
 楼主| 发表于 2019-11-9 16:51 | 显示全部楼层

RE: 上海微电子新前道光刻机(SSB800系列)外观设计

gdwmcy 发表于 2019-11-9 15:53
这么高科技含量的东西,真不懂申请个外观专利有啥意义,
更何况,这个外观也不怎么出彩,能山寨出这个机器 ...

给自己的产品申请外观专利应该是SMEE的传统,他家以前很多产品都有申请外观专利。
我觉得也没什么,也许ASML的产品也有申请外观专利
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CDer:001086487
发表于 2019-11-9 19:35 超大游击队员 | 显示全部楼层
就算企业暂时用不到给学校当研究设备也成
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CDer:000402443
发表于 2019-11-9 19:38 | 显示全部楼层

RE: 上海微电子新前道光刻机(SSB800系列)外观设计

havok 发表于 2019-11-9 13:29
具体参数不知道,但这个型号就是以前一直说的国产28nm节点光刻机的型号,跟90nm的不同这个是要批量生产的 ...

28nm的光刻机能加工多少nm的芯片?加工极限是28nm是吗?
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CDer:001086487
发表于 2019-11-9 19:42 超大游击队员 | 显示全部楼层
qtn 发表于 2019-11-9 19:38
28nm的光刻机能加工多少nm的芯片?加工极限是28nm是吗?

14纳米可以加工,甚至7纳米也可以,但想把7纳米加工更好和以下制成就要用EUV了。
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CDer:000408631
发表于 2019-11-9 21:25 | 显示全部楼层

RE: 上海微电子新前道光刻机(SSB800系列)外观设计

jeandja 发表于 2019-11-9 14:10
要是鬼子有机会摆脱美国,tg能跟佳能尼康合作一把,我感觉跟asml有得一战

传说中的大东亚共荣圈也不是没有道理
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CDer:000004901
发表于 2019-11-9 22:03 超大游击队员 | 显示全部楼层
好像ssb开头的都是I line 365nm 光源的,这个能做液浸式?
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CDer:000468614
发表于 2019-11-10 09:31 超大游击队员 | 显示全部楼层
就是不走 发表于 2019-11-9 16:10
他自己不申请外观,给别人申请吗?被人抢先了,再花钱买回来?或者再改外观?

有个在先原则,他已经用了,别人就算申请下来也没用,而且外观专利规避起来不要太容易。
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CDer:000413886
 楼主| 发表于 2019-11-10 11:20 | 显示全部楼层

RE: 上海微电子新前道光刻机(SSB800系列)外观设计

fq176 发表于 2019-11-9 22:03
好像ssb开头的都是I line 365nm 光源的,这个能做液浸式?

这个不确定,我改过来
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CDer:000677519
发表于 2019-11-10 11:32 超大游击队员 | 显示全部楼层
用户名已删除 发表于 2019-11-10 09:31
有个在先原则,他已经用了,别人就算申请下来也没用,而且外观专利规避起来不要太容易。

在先原则是谁先申请。不是谁先用。谁先用谁后用,这些东西是扯不清的。你要避开别人的外观容易,避开原本属于自己的外观就会增加不必要的过多成本。申请外观专利是对自己保护,这没啥好杠的。
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CDer:000159547
发表于 2019-11-11 16:58 | 显示全部楼层

RE: 上海微电子新前道光刻机(SSB800系列)外观设计

wxzxf 发表于 2019-11-9 21:25
传说中的大东亚共荣圈也不是没有道理

不要把希望寄托在别人尤其是日本人身上,日本人当年在内存行业打得美国人抬不起头,CPU在X86体系内也当年也有一定地位,结果美国人一个警告就吓得要死,乖乖把阵地让他来。

尼康的光刻机早在10多年前就退出了市场,就算还有技术也已经过时,顶多招点他们的技术人员过来,整个尼康光刻体系没有必要再买。
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CDer:001158850
发表于 2019-11-11 23:35 超大游击队员 | 显示全部楼层

Re.上海微电子新前道光刻机(SSB800系列)外观设计

havok 发表于 2019-11-09 13:29:03
具体参数不知道,但这个型号就是以前一直说的国产28nm节点光刻机的型号,跟90nm的不同这个是要批量生产的我之前发过的一张图,看图的右上就知道了
这个怎么判断是28nm工艺的,有出处吗?
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 楼主| 发表于 2019-11-12 11:04 | 显示全部楼层

RE: 上海微电子新前道光刻机(SSB800系列)外观设计

cder_ee99ylsk 发表于 2019-11-11 23:35
这个怎么判断是28nm工艺的,有出处吗?

看11楼的图里面写着,是28nm节点不是28nm工艺
或者网上查下国家02重大专项的目标任务
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CDer:000580806
发表于 2019-11-12 14:46 | 显示全部楼层
感觉有不少好消息
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CDer:000548710
发表于 2019-11-12 18:20 | 显示全部楼层

RE: 上海微电子新前道光刻机(SSB800系列)外观设计

本帖最后由 钢铁般的意志 于 2019-11-12 18:26 编辑
qtn 发表于 2019-11-9 19:38
28nm的光刻机能加工多少nm的芯片?加工极限是28nm是吗?


通过多次曝光达到1xnm或者2xnm的工艺

28nm光刻机的说法也不够严谨  光源波长不止28

193nm的光源应该能一直做到7nm为止  台积电就有

只是用EUV的性能更强
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CDer:001118429
发表于 2019-11-12 21:52 | 显示全部楼层

RE: 上海微电子新前道光刻机(SSB800系列)外观设计

钢铁般的意志 发表于 2019-11-12 18:20
通过多次曝光达到1xnm或者2xnm的工艺

28nm光刻机的说法也不够严谨  光源波长不止28

你的说法正确
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CDer:000952083
发表于 2019-11-13 10:00 超大游击队员 | 显示全部楼层
qtn 发表于 2019-11-9 19:38
28nm的光刻机能加工多少nm的芯片?加工极限是28nm是吗?

7nm,但是良率堪忧。正常区间的话22-14nm。
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CDer:000952083
发表于 2019-11-13 10:05 超大游击队员 | 显示全部楼层
钢铁般的意志 发表于 2019-11-12 18:20
通过多次曝光达到1xnm或者2xnm的工艺

28nm光刻机的说法也不够严谨  光源波长不止28

duv光源波长193nm,而实际工作叫分辨率,分辨率是通过镜头组实现的波长。
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CDer:000424960
发表于 2019-11-13 10:14 超大游击队员 | 显示全部楼层
jeandja 发表于 2019-11-9 14:10
要是鬼子有机会摆脱美国,tg能跟佳能尼康合作一把,我感觉跟asml有得一战


但是指望不住呀 鬼子现在还是美国的狗 最多就是开始有点动摇 偶尔会想想换主子 就是想想而已 不敢有太大动作
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CDer:000435261
发表于 2019-11-13 10:49 | 显示全部楼层

RE: 上海微电子新前道光刻机(SSB800系列)外观设计

钢铁般的意志 发表于 2019-11-12 18:20
通过多次曝光达到1xnm或者2xnm的工艺

28nm光刻机的说法也不够严谨  光源波长不止28

193光源能做到多少纳米估计取决于双工作台和镜头的精度。
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CDer:000435261
发表于 2019-11-13 10:52 | 显示全部楼层

RE: 上海微电子新前道光刻机(SSB800系列)外观设计

urin1010 发表于 2019-11-13 10:00
7nm,但是良率堪忧。正常区间的话22-14nm。

良率除的光刻机外还取决于工艺水平,象台积电的DUV 7纳米加工980  990良率会低吗恐怕比EUV良率还要高。
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